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公開番号2025153820
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024056473
出願日2024-03-29
発明の名称磁性基体及び磁性基体を備えるコイル部品
出願人太陽誘電株式会社
代理人個人
主分類H01F 1/33 20060101AFI20251002BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】金属磁性粒子の絶縁性が改善された磁性基体を提供する。
【解決手段】一実施形態における磁性基体は、Fe、Si、及び元素αを含有する複数の金属磁性粒子と、複数の金属磁性粒子の各々の表面を覆う第1酸化膜と、第1酸化膜の表面を覆う第2酸化膜と、を備える。第1酸化膜は、Siの酸化物を主成分とする。第2酸化物は、元素αの酸化物を主成分とする。第1酸化膜の厚さを示す第1厚さは、第2酸化膜の厚さを示す第2厚さよりも厚い。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
Ｆｅ、Ｓｉ、及び元素αを含有する複数の金属磁性粒子と、
前記複数の金属磁性粒子の各々の表面を覆い、Ｓｉの酸化物を主成分とする第１酸化膜と、
前記第１酸化膜の表面を覆い、元素αの酸化物を主成分とする第２酸化膜と、
を備え、
前記第１酸化膜の厚さを示す第１厚さは、前記第２酸化膜の厚さを示す第２厚さよりも厚い、
磁性基体。
続きを表示（約 490 文字）【請求項２】
前記第１厚さは、前記第２厚さの２倍以上である、
請求項１に記載の磁性基体。
【請求項３】
前記第１厚さは、前記第２厚さの４倍以下である、
請求項１または２に記載の磁性基体。
【請求項４】
前記第１酸化膜の厚みの標準偏差は、３ｎｍ以下である、
請求項１または２に記載の磁性基体。
【請求項５】
前記元素αは、Ｃｒである、
請求項１または２に記載の磁性基体。
【請求項６】
前記元素αは、Ａｌである、
請求項１または２に記載の磁性基体。
【請求項７】
前記第１酸化膜の膜厚は、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、
請求項１または２に記載の磁性基体。
【請求項８】
請求項１又は２に記載の磁性基体と、
前記磁性基体に備えられるコイル導体と、
を備えるコイル部品。
【請求項９】
請求項８に記載のコイル部品を含む、回路基板。
【請求項１０】
請求項９に記載の回路基板を含む、電子部品。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書における開示は、主に、磁性基体及び磁性基体を備えるコイル部品に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
コイル部品用の磁性基体として、複数の金属磁性粒子が結合している軟磁性基体が用いられている。軟磁性基体に含まれる金属磁性粒子の各々の表面は絶縁膜で覆われており、隣接する金属磁性粒子同士は、当該絶縁膜を介して結合している。軟磁性基体は、フェライトから構成される磁性基体よりも磁気飽和が起こりにくいため、大電流が流れる回路で使用されるコイル部品用の磁性基体として適している。
【０００３】
金属磁性粒子は、Ｆｅを主成分とするＦｅ基の原料粉から生成される。このＦｅ基の原料粉は、磁気特性や絶縁特性の改善のために、Ｆｅに加えてＳｉ、Ｃｒ、Ａｌ等の添加元素を含む。
【０００４】
金属磁性粒子の表面の絶縁膜として、原料粉の表面に塗布される絶縁性のコーティング膜が用いられることがある。原料粉の表面を被覆するコーティング膜は、例えば、原料粉の表面に、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）をエタノールに混合させた混合液を塗布することにより形成される。製法上の限界から、原料粉の表面にコーティング膜を薄く一様に形成することは難しい。このため、金属磁性粒子の表面に設けられるコーティング膜は、磁性基体の磁気特性（例えば、透磁率）を劣化させる原因となる。
【０００５】
優れた磁気特性を有する磁性基体を得るためには、薄膜化が困難なコーティング膜よりも、原料粉に含まれる元素を酸化して得られる絶縁性の酸化膜により金属磁性粒子の表面を覆うことが望ましい。特開２０１４－１４３３０１号公報（特許文献１）には、表面にＳｉの酸化物及びＣｒの酸化物を含む酸化膜が形成された金属磁性粒子を含む磁性基体が記載されている。この金属磁性粒子は、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｒを含有する軟磁性合金粉末を７５０℃で加熱処理することにより生成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２０１４－１４３３０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載されているように、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｒを含有する原料粉を加熱処理して生成される金属磁性粒子の表面には、シリカ（ＳｉＯ
2
）を主成分とする第１酸化膜が形成され、この第１酸化膜の外周面に酸化クロム（III）（Ｃｒ
2
Ｏ
3
）を主成分とする第２酸化膜が形成される。
【０００８】
原料粉には、Ａｌが添加されることがある。Ｆｅ、Ｓｉ、Ａｌを含有する原料粉を加熱処理して生成される金属磁性粒子の表面には、シリカ（ＳｉＯ
2
）を主成分とする第１酸化膜が形成され、この第１酸化膜の外周面にアルミナ（Ａｌ
2
Ｏ
3
）を主成分とする第２酸化膜が形成される。
【０００９】
金属磁性粒子の表面に形成される酸化膜は、コーティング膜よりも薄いため、磁性基体に十分な絶縁性を提供できない場合がある。酸化膜により金属磁性粒子間を絶縁する軟磁性基体において、金属磁性粒子間の絶縁性のさらなる向上が望まれている。
【００１０】
本明細書において開示される発明の目的は、上述した問題の少なくとも一部を解決又は緩和することである。本発明のより具体的な目的の一つは、絶縁性が改善された磁性基体を提供することである。
（【００１１】以降は省略されています）

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