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公開番号
2025167968
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-11-07
出願番号
2024073021
出願日
2024-04-26
発明の名称
弾性波デバイス及び弾性波デバイスの製造方法
出願人
太陽誘電株式会社
代理人
弁理士法人片山特許事務所
主分類
H03H
9/145 20060101AFI20251030BHJP(基本電子回路)
要約
【課題】耐電力性を向上させることが可能な弾性波デバイスを提供する。
【解決手段】弾性波デバイスは、圧電層10と、圧電層10上に設けられ、多結晶の金属層19を有し、断面視したときに金属層19は金属層19の厚さ方向(Z方向)における最大長さHが金属層19の厚さT2の70%以上である結晶粒50を含む電極指14とを備える。好ましくは、結晶粒50は、前記断面視したときに、金属層19の厚さ方向(Z方向)で対向する金属層19の一方の辺から他方の辺に亘っている。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
圧電層と、
前記圧電層上に設けられ、多結晶の金属層を有し、断面視したときに前記金属層は前記金属層の厚さ方向における最大長さが前記金属層の厚さの70%以上である結晶粒を含む電極と、を備える弾性波デバイス。
続きを表示(約 640 文字)
【請求項2】
前記結晶粒は、前記断面視したときに、前記厚さ方向で対向する前記金属層の一方の辺から他方の辺に亘っている、請求項1に記載の弾性波デバイス。
【請求項3】
前記電極は、複数の電極指を有する櫛型電極である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項4】
前記複数の電極指のうち1つの電極指を長手方向で断面視したときに、前記長手方向における1.5μmの範囲内において前記長手方向に平行な直線上に位置する結晶粒の個数は10個以下である、請求項3に記載の弾性波デバイス。
【請求項5】
前記金属層の厚さは100nm以上かつ150nm以下である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項6】
前記金属層はアルミニウム層又はアルミニウム合金層である、請求項1または2に記載の弾性波デバイス。
【請求項7】
多結晶の金属層を有する電極を備えた弾性波デバイスの製造方法であって、
基板上に厚さ方向における最大長さが前記金属層の厚さの70%以上となる結晶粒を含む第1領域が形成されるまで金属膜を成膜する工程と、
前記金属膜を圧電層に接合する工程と、
前記第1領域が前記圧電層に残存するように、前記金属膜の残りの第2領域と前記基板とを除去する工程と、
前記第1領域をパターニングして前記電極を形成する工程と、を備える弾性波デバイスの製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、弾性波デバイス及び弾性波デバイスの製造方法に関する。
続きを表示(約 950 文字)
【背景技術】
【0002】
スマートフォン等の通信機器に弾性波デバイスが用いられている。耐電力性を向上させるために、櫛型電極に単結晶金属膜を用いることが知られている(例えば特許文献1)。また、金属膜を電子部品等に転写する転写方法が知られている(例えば特許文献2、3)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2020-92321号公報
特開平9-46024号公報
特開2010-129555号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1では、耐電力性を向上させることができるが、電極に金属単結晶インゴットにより形成した単結晶金属膜を用いているため製造の困難性及びコストの増大を招く。このため、他の方法によって耐電力性を向上させることが求められている。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、耐電力性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、圧電層と、前記圧電層上に設けられ、多結晶の金属層を有し、断面視したときに前記金属層は前記金属層の厚さ方向における最大長さが前記金属層の厚さの70%以上である結晶粒を含む電極と、を備える弾性波デバイスである。
【0007】
上記構成において、前記結晶粒は、前記断面視したときに、前記厚さ方向で対向する前記金属層の一方の辺から他方の辺に亘っている構成とすることができる。
【0008】
上記構成において、前記電極は、複数の電極指を有する櫛型電極である構成とすることができる。
【0009】
上記構成において、前記複数の電極指のうち1つの電極指を長手方向で断面視したときに、前記長手方向における1.5μmの範囲内において前記長手方向に平行な直線上に位置する結晶粒の個数は10個以下である構成とすることができる。
【0010】
上記構成において、前記金属層の厚さは100nm以上かつ150nm以下である構成とすることができる。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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