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公開番号2025153661
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024056251
出願日2024-03-29
発明の名称四塩化チタン製造方法
出願人株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ
代理人個人,個人
主分類C01G 23/02 20060101AFI20251002BHJP(無機化学)
要約【課題】長期間、効率的に四塩化チタンを製造する方法を提供する。
【解決手段】容器10と、容器の下側空間S1と上側空間S2とに区切っており複数の通気孔11aを有する底板11と、下側空間に塩素ガスを導入するガス導入穴12と、底板の上側に配置されており初期不活性固体粒子で構成されている分散層18とを備える四塩化チタン製造装置1において、分散層の上側に配置されており初期チタン原料19aと初期コークス19bとで構成されている流動層19に塩素ガスを化学反応させて四塩化チタンを製造する四塩化チタン製造方法を提供する。四塩化チタン製造方法は、ガス導入穴から塩素ガスを導入すること、流動層に追加チタン原料と追加コークスとを供給すること、及び流動層に追加不活性固体粒子を分散層の減少に応じて供給することを備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
容器と、前記容器の内側を下側空間と上側空間とに区切っており複数の通気孔を有する底板と、前記下側空間に塩素ガスを導入するガス導入穴と、前記底板の上側に配置されており初期不活性固体粒子で構成されている分散層とを備える四塩化チタン製造装置において、前記分散層の上側に配置されており初期チタン原料と初期コークスとで構成されている流動層に前記塩素ガスを化学反応させて四塩化チタンを製造する四塩化チタン製造方法であって、前記四塩化チタン製造方法は、
前記ガス導入穴から前記塩素ガスを導入すること、
前記流動層に追加チタン原料と追加コークスとを供給すること、
前記流動層に追加不活性固体粒子を前記分散層の減少に応じて供給すること
を備える、四塩化チタン製造方法。
続きを表示（約 430 文字）【請求項２】
前記追加不活性固体粒子の粒径は、３ｍｍ以上且つ５０ｍｍ以下である、
請求項１に記載の四塩化チタン製造方法。
【請求項３】
前記追加チタン原料及び前記追加コークスの１日当たりの供給質量を２４時間で除した追加原料供給速度に対する、前記追加不活性固体粒子の１時間当たりの供給質量である追加不活性固体粒子供給速度の割合は、０．０１％以上且つ３０％以下である、
請求項１又は２に記載の四塩化チタン製造方法。
【請求項４】
前記四塩化チタン製造方法は、
前記下側空間における第１圧力を計測すること、
前記流動層における第２圧力を計測すること、
前記第１圧力と前記第２圧力との差圧が所定の範囲内に収まるように、前記追加不活性固体粒子の１時間当たりの供給質量である追加不活性固体粒子供給速度を制御すること
をさらに備える、請求項１又は２に記載の四塩化チタン製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、四塩化チタン製造方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、チタン酸化物を含有する原料とコークスと塩素ガスから四塩化チタンを製造する流動塩化炉が開示されている。流動塩化炉は、底板と、底板の上面に配置された不定形耐火物からなる断熱層と、断熱層の上面に耐塩素性を有する不活性粒子からなる分散層とを有する分散盤を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１４－２１０６８９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に係る流動塩化炉によれば、底板の上面に断熱層を配置することによって、塩素ガスによる底板の腐食を抑制し、長期間にわたって安定して四塩化チタンの製造を行うことが可能である。
【０００５】
一方で、長期間、四塩化チタンの製造を行うと、分散層が塩素ガスにより腐食損耗して減少し、継続して塩素ガスを分散させることが困難となる場合がある。その場合、長期間、四塩化チタンを効率的に製造することが困難となる。そのため、長期間、四塩化チタンを効率的に製造する観点で、四塩化チタンの製造方法を工夫する余地がある。
【０００６】
長期間、四塩化チタンを製造しても、継続して分散層で塩素ガスを分散させることができる四塩化チタン製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、
容器と、前記容器の内側を下側空間と上側空間とに区切っており複数の通気孔を有する底板と、前記下側空間に塩素ガスを導入するガス導入穴と、前記底板の上側に配置されており初期不活性固体粒子で構成されている分散層とを備える四塩化チタン製造装置において、前記分散層の上側に配置されており初期チタン原料と初期コークスとで構成されている流動層に前記塩素ガスを化学反応させて四塩化チタンを製造する四塩化チタン製造方法であって、前記四塩化チタン製造方法は、
前記ガス導入穴から前記塩素ガスを導入すること、
前記流動層に追加チタン原料と追加コークスとを供給すること、
前記流動層に追加不活性固体粒子を前記分散層の減少に応じて供給すること
を備える、四塩化チタン製造方法を提供する。
【０００８】
本開示に係る四塩化チタン製造方法によれば、追加不活性固体粒子を供給することによって、塩素ガスとの化学反応により減少する分散層を増加させることができるので、長期間、四塩化チタンを製造しても、継続して分散層で塩素ガスを分散させることができる。その結果、より長期間、四塩化チタンを効率的に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本実施形態に係る四塩化チタン製造装置の縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本開示の実施形態について添付図面を参照しながら説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

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