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公開番号
2025146174
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-03
出願番号
2024046814
出願日
2024-03-22
発明の名称
光ファイバグレーティングデバイスおよび光ファイバグレーティングデバイスの製造方法
出願人
公立大学法人大阪
代理人
弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
主分類
G02B
6/02 20060101AFI20250926BHJP(光学)
要約
【課題】簡易的な構成により偏波依存性のない光ファイバグレーティングデバイスを実現する。
【解決手段】光ファイバグレーティングデバイス(100)は、グレーティングが形成された光ファイバ(10)であって、屈折率の偏波依存性がない位置にコア(11)が形成されている光ファイバを有する。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
グレーティングが形成された光ファイバであって、屈折率の偏波依存性がない位置にコアが形成されている光ファイバを有する、光ファイバグレーティングデバイス。
続きを表示(約 1,300 文字)
【請求項2】
前記コアは、前記光ファイバの中心から外れた位置にある、請求項1に記載の光ファイバグレーティングデバイス。
【請求項3】
前記光ファイバの側面に周期的に圧力を印加することにより前記光ファイバにグレーティングを形成する、請求項1に記載の光ファイバグレーティングデバイス。
【請求項4】
前記圧力が加えられる押圧位置を示すマーカが前記光ファイバに印されている、請求項3に記載の光ファイバグレーティングデバイス。
【請求項5】
外部から前記光ファイバの側面に周期的に圧力を印加する押圧部材を備え、
前記押圧部材は、凸部が周期的に設けられる第1押圧部と、前記光ファイバに対して第1押圧部の反対側に設けられる表面が平坦な第2押圧部とを備え、
前記光ファイバの断面において、前記光ファイバの中心と前記圧力が加えられる押圧位置とを通る直線を第1直線とし、前記光ファイバの中心と前記コアの中心とを通る直線を第2直線としたとき、前記コアは、前記第1直線と前記第2直線とがなす角度が0°より大きく90°より小さくなる位置に設けられる、請求項3に記載の光ファイバグレーティングデバイス。
【請求項6】
光ファイバを備える光ファイバグレーティングデバイスの製造方法であって、
前記光ファイバの断面における、前記光ファイバに屈折率変化を生じさせたときに屈折率の偏波依存性がない第1領域を特定する第1特定ステップと、
前記光ファイバの断面における、前記光ファイバに屈折率変化を生じさせたときに所定の閾値以上の屈折率変調度を示す第2領域を特定する第2特定ステップと、
前記第1領域と前記第2領域とが重なる領域にコアを形成する形成ステップと、を含む、光ファイバグレーティングデバイスの製造方法。
【請求項7】
コアを有する光ファイバを備える光ファイバグレーティングデバイスの製造方法であって、
前記光ファイバを準備する準備ステップと、
前記コアが適正位置に位置するように前記光ファイバを軸回りに回転させる回転ステップと、
前記コアが適正位置に位置したときに、前記光ファイバの側面に周期的に圧力を印加して前記光ファイバにグレーティングを形成する印加ステップと、を含む、光ファイバグレーティングデバイスの製造方法。
【請求項8】
コアを有する光ファイバを備える光ファイバグレーティングデバイスの製造方法であって、
前記光ファイバを準備する準備ステップと、
前記光ファイバを軸回りに所定の角度だけ回転させる回転ステップと、
前記光ファイバの側面に周期的に圧力を印加して前記光ファイバにグレーティングを形成する印加ステップと、
屈折率変化領域における前記コアの屈折率の偏波依存性を測定する測定ステップと、を含み、
前記回転ステップと前記印加ステップと前記測定ステップとを繰り返し、前記偏波依存性がない位置に前記コアを配置する、光ファイバグレーティングデバイスの製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、光ファイバグレーティングデバイスおよび光ファイバグレーティングデバイスの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
従来、光ファイバに周期的に屈折率変化を形成した光ファイバグレーティングでは、伝送する光の偏波方向によって屈折率に差が生じる(すなわち、複屈折が生じる)ことが知られている。特許文献1には、屈折率が互いに異なる直交軸(複屈折軸)を形成することにより、単一偏波のレーザ光を出力する偏波保持型の光ファイバグレーティングが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2010-177469号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に開示される光ファイバグレーティングでは、入射光の偏波方向に合わせて光ファイバグレーティングの向きを調整する必要がある。また、屈折率が互いに異なる直交軸を実現するために、応力付与部を光ファイバの内部に形成する必要があり、製造工程が複雑である。
【0005】
本発明の一態様は、簡易的な構成により偏波依存性のない光ファイバグレーティングデバイスを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記の課題を解決するために、本発明の態様1に係る光ファイバグレーティングデバイスは、グレーティングが形成された光ファイバであって、屈折率の偏波依存性がない位置にコアが形成されている光ファイバを有する。
【0007】
本発明の態様2に係る光ファイバグレーティングデバイスでは、上記態様1において、前記コアは、前記光ファイバの中心から外れた位置にあってもよい。
【0008】
本発明の態様3に係る光ファイバグレーティングデバイスでは、上記態様1または2において、前記光ファイバの側面に周期的に圧力を印加することにより前記光ファイバにグレーティングを形成してもよい。
【0009】
本発明の態様4に係る光ファイバグレーティングデバイスでは、上記態様3において、前記圧力が加えられる押圧位置を示すマーカが前記光ファイバに印されていてもよい。
【0010】
本発明の態様5に係る光ファイバグレーティングデバイスは、上記態様3または4において、外部から前記光ファイバの側面に周期的に圧力を印加する押圧部材を備え、前記押圧部材は、凸部が周期的に設けられる第1押圧部と、前記光ファイバに対して第1押圧部の反対側に設けられる表面が平坦な第2押圧部とを備え、前記光ファイバの断面において、前記光ファイバの中心と前記圧力が加えられる押圧位置とを通る直線を第1直線とし、前記光ファイバの中心と前記コアの中心とを通る直線を第2直線としたとき、前記コアは、前記第1直線と前記第2直線とがなす角度が0°より大きく90°より小さくなる位置に設けられてもよい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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