特許ウォッチ

公開番号2025142725
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-01
出願番号2024042241
出願日2024-03-18
発明の名称情報処理装置、判定方法および水処理システム
出願人オルガノ株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250924BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】半導体デバイスの不良を早期に発見する。
【解決手段】対象物の洗浄に使用された洗浄液の排液の液質値を取得する取得部110と、データベース400から基準となる基準液質値を読み出す読み出し部120と、取得部110が取得した液質値と、読み出し部120が読み出した基準液質値とに基づいて、対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する判定部130と、判定部130が判定した判定結果を通知する通知部140とを有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
対象物の洗浄に使用された洗浄液の排液の液質値を取得する取得部と、
データベースから基準となる基準液質値を読み出す読み出し部と、
前記取得部が取得した液質値と、前記読み出し部が読み出した基準液質値とに基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する判定部と、
前記判定部が判定した判定結果を通知する通知部とを有する情報処理装置。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記判定部は、前記液質値と前記基準液質値との差分が所定の閾値以下である場合、前記半導体デバイスが良品であると判定し、前記液質値と前記基準液質値との差分が前記閾値を超えている場合、当該製造工程で製造された前記半導体デバイスが不良品であるおそれがあると判定する情報処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の情報処理装置において、
前記判定部で良品と判定された半導体デバイスの製造工程で使用された洗浄液の排液の液質値に基づいて、前記基準液質値を設定する基準液質値設定部と、
前記基準液質値設定部が設定した基準液質値を前記データベースへ書き込む書き込み部とを有する情報処理装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の情報処理装置において、
前記製造工程は複数の洗浄工程を有し、
前記取得部は、前記複数の洗浄工程のそれぞれで測定器が測定した排液の液質値を取得し、
前記判定部は、前記複数の洗浄工程のそれぞれで前記測定器が測定した排液の液質値の少なくとも１つの液質値と前記基準液質値との差分が閾値を超えている場合、前記半導体デバイスが不良品であるおそれがあると判定する情報処理装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載の情報処理装置において、
前記取得部が取得する液質値が測定される排液は、前記半導体デバイスに用いられるウェーハまたはパターンウェーハの洗浄に用いた排液である情報処理装置。
【請求項６】
請求項２に記載の情報処理装置において、
前記通知部は、前記半導体デバイスが不良品であるおそれがあると前記判定部が判定した場合、所定の警告を発する情報処理装置。
【請求項７】
請求項１または請求項２に記載の情報処理装置において、
前記取得部は、前記洗浄の開始時刻を基準とした前記液質値の時系列データを取得し、
前記読み出し部は、前記データベースから前記基準液質値の時系列データを読み出し、
前記判定部は、前記取得部が取得した前記液質値の時系列データと前記読み出し部が前記データベースから読み出した前記基準液質値の時系列データとを互いに比較し、該比較した結果に基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する情報処理装置。
【請求項８】
対象物の洗浄に使用された洗浄液の排液の液質値を取得する処理と、
データベースに記憶されている基準液質値を読み出す処理と、
前記取得した液質値と、前記データベースから読み出した基準液質値とに基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半記半導体デバイスが良品であるか否かを判定する処理と、
前記判定した判定結果を通知する処理とを行う判定方法。
【請求項９】
水処理装置が処理した純水を用いて対象物を洗浄する洗浄装置と、
前記洗浄装置が前記対象物の洗浄に使用した洗浄液の排液の液質値を測定する測定器と、
基準となる基準液質値を記憶するデータベースと、
情報処理装置とを有し、
前記情報処理装置は、
前記測定器が測定した液質値を取得する取得部と、
前記データベースから前記基準液質値を読み出す読み出し部と、
前記取得部が取得した液質値と、前記読み出し部が読み出した基準液質値とに基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する判定部と、
前記判定部が判定した判定結果を通知する通知部とを有する水処理システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、判定方法および水処理システムに関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
製造された半導体デバイスが良品であるかどうかは、当該半導体デバイスに対して所定の検査が行われ、その検査結果に基づいて判定される。また、半導体デバイスの製造において、半導体ウェーハの積層膜に処理液を接触させて膜を除去していく工程で、接触した処理液の物質濃度に基づいて、接触させる処理液を切り替えていく方法が考えられている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００６－１２０７０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように半導体デバイスの良品検査を実施し、判定結果を得るまでには数か月を要する。そのため、製造工程の初期段階で不良品が製造されていた場合、当該不良品は数か月間、製造ラインに乗るため歩留りの低下を招いてしまう。また、特許文献１に記載された方法は、処理液に基づいて半導体デバイスが良品であるかどうかを直接判定できるものではない。
【０００５】
本発明の目的は、半導体デバイスの不良を早期に発見することができる情報処理装置、判定方法および水処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の情報処理装置は、
対象物の洗浄に使用された洗浄液の排液の液質値を取得する取得部と、
データベースから基準となる基準液質値を読み出す読み出し部と、
前記取得部が取得した液質値と、前記読み出し部が読み出した基準液質値とに基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する判定部と、
前記判定部が判定した判定結果を通知する通知部とを有する。
【０００７】
また、本発明の判定方法は、
対象物の洗浄に使用された洗浄液の排液の液質値を取得する処理と、
データベースに記憶されている基準液質値を読み出す処理と、
前記取得した液質値と、前記データベースから読み出した基準液質値とに基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半記半導体デバイスが良品であるか否かを判定する処理と、
前記判定した判定結果を通知する処理とを行う。
【０００８】
また、本発明の水処理システムは、
水処理装置が処理した純水を用いて対象物を洗浄する洗浄装置と、
前記洗浄装置が前記対象物の洗浄に使用した洗浄液の排液の液質値を測定する測定器と、
基準となる基準液質値を記憶するデータベースと、
情報処理装置とを有し、
前記情報処理装置は、
前記測定器が測定した液質値を取得する取得部と、
前記データベースから前記基準液質値を読み出す読み出し部と、
前記取得部が取得した液質値と、前記読み出し部が読み出した基準液質値とに基づいて、前記対象物の洗浄の工程を含む製造工程で製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する判定部と、
前記判定部が判定した判定結果を通知する通知部とを有する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明においては、半導体デバイスの不良を早期に発見することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１の実施の形態に係る水処理システムを示す図である。
図１に示した洗浄装置の位置付けの一例を示す図である。
図１に示した情報処理装置が具備する構成要素の一例を示す図である。
図１に示したデータベースに記憶されている情報の一例を示す図である。
図１に示した情報処理装置における判定方法のうち、基準液質値の設定方法の一例を説明するためのフローチャートである。
図１に示した情報処理装置における判定方法のうち、洗浄された部材を構成要素として製造された半導体デバイスが良品であるか否かを判定する方法の一例を説明するためのフローチャートである。
時系列データである基準液質値と、液質情報に含まれる液質値の時系列データとの一例を示すグラフである。
第２の実施の形態に係る水処理システムを示す図である。
図８に示した情報処理装置が具備する構成要素の一例を示す図である。
図８に示した学習モデルの入出力の一例を示す図である。
図８に示した情報処理装置における判定方法のうち、学習フェーズの処理の一例を説明するためのフローチャートである。
図８に示した情報処理装置における判定方法のうち、推論フェーズの処理の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許