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公開番号2025169003
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-12
出願番号2024073941
出願日2024-04-30
発明の名称ろ過膜の洗浄方法及び洗浄装置
出願人オルガノ株式会社
代理人個人,個人
主分類B01D 65/02 20060101AFI20251105BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】ろ過膜から流出する微粒子の数をさらに低減させることができるろ過膜の洗浄方法を提供する。
【解決手段】ろ過膜14の洗浄方法は、洗浄水にろ過膜14を浸漬させろ過膜14を洗浄水の中で回転または揺動させながら、洗浄水に超音波の振動エネルギーを与える工程を有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
洗浄水にろ過膜を浸漬させ前記ろ過膜を前記洗浄水の中で回転または揺動させながら、前記洗浄水に超音波の振動エネルギーを与える工程を有する、ろ過膜の洗浄方法。
続きを表示（約 760 文字）【請求項２】
前記ろ過膜は円筒形であり、
前記ろ過膜を回転させることは、前記ろ過膜を前記円筒形の中心軸の周りで回転させることを含む、請求項１に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項３】
前記ろ過膜を洗浄槽内に設置し、鉛直方向視で前記中心軸から離れた位置から前記洗浄槽に前記洗浄水を供給し、前記洗浄槽に生じる前記洗浄水の流れによって前記ろ過膜を回転させる、請求項２に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項４】
前記ろ過膜を回転させることは、前記ろ過膜の正転と反転をそれぞれ少なくとも１回行うことを含む、請求項２に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄水の温度は３０℃以上１００℃以下である、請求項１に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項６】
前記超音波の照射時間は１時間未満である、請求項１に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項７】
前記洗浄水は、超純水に水素ガスを溶解させて製造される、請求項１から６のいずれか１項に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項８】
前記洗浄水は、前記超純水に水素ガスを水素濃度１ｐｐｍ以上で溶解させることを含む、請求項７に記載のろ過膜の洗浄方法。
【請求項９】
超純水にガスを溶解させることを含む洗浄水の製造工程を実行可能な洗浄水の供給装置と、
前記供給装置から前記洗浄水が供給されるろ過膜の洗浄槽と、
前記洗浄槽の中で前記ろ過膜を前記洗浄水に浸漬可能に保持する保持具と、
前記洗浄水に超音波を照射する超音波発生装置と、を有し、
前記保持具は、前記ろ過膜を前記洗浄水の中で回転または揺動させることができるようにされている、ろ過膜の洗浄装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明はろ過膜の洗浄方法と洗浄装置に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
超純水製造装置は一般に、原水を処理する前処理装置と、前処理装置の処理水から純水を製造する１次純水システムと、１次純水システムの処理水から超純水を製造する２次純水システムと、を有している。２次純水システムは紫外線酸化装置、イオン交換樹脂充填装置などの装置に加え、最下流に限外ろ過膜装置、精密ろ過膜装置などのろ過膜装置を備えることが多い。これらのろ過膜装置はユースポイントに供給される超純水を最終的にろ過するためのものであるため、ろ過膜装置から流出する微粒子を最小限に抑えるための厳密な管理が求められる。その一環として、これらのろ過膜装置が備えるろ過膜を使用前に洗浄することが知られている。特許文献１にはろ過膜装置のケーシングから取り出したろ過膜をアンモニア水に浸漬させ、アンモニア水に超音波を照射するろ過膜の洗浄方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００２－５２３２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には上記洗浄方法は一定の洗浄効果が得られると記載されているが、依然としてろ過膜から流出する微粒子の数を十分に低減させることができない。
【０００５】
本発明は、ろ過膜から流出する微粒子の数をさらに低減させることができるろ過膜の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のろ過膜の洗浄方法は、洗浄水にろ過膜を浸漬させろ過膜を洗浄水の中で回転または揺動させながら、洗浄水に超音波の振動エネルギーを与える工程を有する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ろ過膜から流出する微粒子の数をさらに低減させることができるろ過膜の洗浄方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
超純水製造装置の２次純水システムの概略構成図である。
ろ過膜モジュールの例示的な概略図である。
本実施形態に係るろ過膜の洗浄装置の概略構成図である。
ろ過膜を動かす方法の変形例を示す概念図である。
実施例の装置構成を示す略図と微粒子数測定結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図面を参照して本発明の実施形態と実施例について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る超純水製造装置の２次純水システム１の概要を示している。超純水製造装置は半導体などの電子部品製造工程で使用される超純水を製造する。２次純水システム１は、１次純水システムで製造された純水から、ユースポイント９に供給される超純水を製造するためのシステムで、サブシステムとも呼ばれる。
【００１０】
超純水製造装置の２次純水システム１は純水タンク２、純水供給ポンプ３、熱交換器４、紫外線酸化装置５、イオン交換装置６、膜脱気装置７、限外ろ過膜装置８を有し、これらは主ラインＬ１上に被処理水の通水方向Ｄに沿って上記の順序で設けられている。主ラインＬ１はユースポイント９に接続され、２次純水システム１で製造された超純水はユースポイント９に供給される。ユースポイント９で使用されなかった超純水は、主ラインＬ１に接続されたリターンラインＬ２を通って純水タンク２に戻される。
（【００１１】以降は省略されています）

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