TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025137111
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-19
出願番号
2024036119
出願日
2024-03-08
発明の名称
芳香族ポリスルホン
出願人
住友化学株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
C08G
65/40 20060101AFI20250911BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約
【課題】高温環境下における増粘が抑制された芳香族ポリスルホンを提供する。
【解決手段】下記式(S1)で表される化合物に由来する繰り返し単位S1と、下記式(S2)で表される繰り返し単位S2と、を含む芳香族ポリスルホンであって、芳香族ポリスルホンの全繰り返し単位に対する繰り返し単位S1の含有率が0.10mol%以上1.50mol%未満である芳香族ポリスルホン。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025137111000010.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">47</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">170</com:WidthMeasure> </com:Image>
式中、R
1
、R
2
及びR
3
は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。R
5
及びR
6
は、それぞれ独立してハロゲン原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、又は炭素数2~10のアルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立に0~4の整数を示す。R
5
又はR
6
が複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
下記式(S1)で表される化合物に由来する繰り返し単位S1と、
下記式(S2)で表される繰り返し単位S2と、を含む芳香族ポリスルホンであって、
前記芳香族ポリスルホンの全繰り返し単位に対する前記繰り返し単位S1の含有率が0.10mol%以上1.50mol%未満である芳香族ポリスルホン。
TIFF
2025137111000008.tif
41
170
(式(S1)中、R
1
、R
2
及びR
3
は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す)
TIFF
2025137111000009.tif
31
170
(式(S2)中、R
5
及びR
6
は、それぞれ独立してハロゲン原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、又は炭素数2~10のアルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立に0~4の整数を示す。R
5
又はR
6
が複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。)
続きを表示(約 160 文字)
【請求項2】
前記全繰り返し単位に対する前記繰り返し単位S1の含有率が0.10mol%以上0.50mol%以下である請求項1に記載の芳香族ポリスルホン。
【請求項3】
前記式(S1)で表される化合物が、トリメチルヒドロキノン又は2,3-ジメチルヒドロキノンである請求項1又は2に記載の芳香族ポリスルホン。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示は、芳香族ポリスルホンに関する。
続きを表示(約 1,300 文字)
【背景技術】
【0002】
芳香族ポリスルホンは、ガラス転移温度(Tg)が高く、耐熱性に優れる材料として、電子材料分野など多くの分野で用いられている。例えば、特許文献1において、芳香族ポリスルホンを構成するモノマーとして、ジヒドロキシ成分の総量を基準として少なくとも20モル%のトリメチルヒドロキノンを用いることにより、得られるポリマーが高い熱安定性を示し、膜の材料として好適であることが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特表2020-525600号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
芳香族ポリスルホンは、一般に高Tgであり、加工温度が高い。そのため、成形機において芳香族ポリスルホンが滞留すると、高い加工温度に起因して芳香族ポリスルホンが一部重合し、高分子量化して増粘現象が生じることがある。芳香族ポリスルホンの増粘が生じると、安定成形が困難となり、成形機の分解掃除が必要となるなど、生産性を低下させる原因となる。
【0005】
本開示は、高温(例えば400℃)での増粘が抑制された芳香族ポリスルホンを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示は、以下の態様を包含する。
【0007】
[1]下記式(S1)で表される化合物に由来する繰り返し単位S1と、下記式(S2)で表される繰り返し単位S2と、を含む芳香族ポリスルホンであって、前記芳香族ポリスルホンの全繰り返し単位に対する前記繰り返し単位S1の含有率が0.10mol%以上1.50mol%未満である芳香族ポリスルホン。
TIFF
2025137111000001.tif
41
170
(式(S1)中、R
1
、R
2
及びR
3
は、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す)
TIFF
2025137111000002.tif
31
170
(式(S2)中、R
5
及びR
6
は、それぞれ独立してハロゲン原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、又は炭素数2~10のアルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立に0~4の整数を示す。R
5
又はR
6
が複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。)
【0008】
[2]前記全繰り返し単位に対する前記繰り返し単位S1の含有率が0.10mol%以上0.50mol%以下である[1]に記載の芳香族ポリスルホン。
【0009】
[3]前記式(S1)で表される化合物が、トリメチルヒドロキノン又は2,3-ジメチルヒドロキノンである[1]又は[2]に記載の芳香族ポリスルホン。
【発明の効果】
【0010】
本開示によれば、400℃のような高温での増粘が抑制された芳香族ポリスルホンを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
住友化学株式会社
偏光板
1か月前
住友化学株式会社
偏光板
1か月前
住友化学株式会社
積層体
1か月前
住友化学株式会社
偏光板
1か月前
住友化学株式会社
発光素子
1か月前
住友化学株式会社
発光素子
1か月前
住友化学株式会社
発光素子
1か月前
住友化学株式会社
垂直偏光板
1か月前
住友化学株式会社
樹脂組成物
1か月前
住友化学株式会社
光学積層体
1か月前
住友化学株式会社
偏光積層体
1か月前
住友化学株式会社
フィルター
1か月前
住友化学株式会社
熱分解装置
12日前
住友化学株式会社
フィルター
1か月前
住友化学株式会社
フィルター
1か月前
住友化学株式会社
電気化学センサ
25日前
住友化学株式会社
金属有機構造体
1か月前
住友化学株式会社
組成物及び発光素子
10日前
住友化学株式会社
積層体および表示装置
1か月前
住友化学株式会社
プロピレンの製造方法
20日前
住友化学株式会社
膜エレメントの製造方法
1か月前
住友化学株式会社
偏光板及び画像表示装置
1か月前
住友化学株式会社
装置、方法及びプログラム
1か月前
住友化学株式会社
光学積層体及び偏光積層体
1か月前
住友化学株式会社
ポリオレフィン樹脂組成物
12日前
住友化学株式会社
無機アルミニウム化合物粉末
25日前
住友化学株式会社
粘着剤組成物および粘着剤層
1か月前
住友化学株式会社
組成物、硬化物および成形体
4日前
住友化学株式会社
複合偏光板及び画像表示装置
1か月前
住友化学株式会社
位相差層積層体及び光学積層体
17日前
住友化学株式会社
複合成形体、及びその製造方法
17日前
住友化学株式会社
組成物、硬化物、および成形体
4日前
住友化学株式会社
リサイクル正極活物質の製造方法
1か月前
住友化学株式会社
リサイクル正極活物質の製造方法
1か月前
住友化学株式会社
リサイクル正極活物質の製造方法
1か月前
住友化学株式会社
リサイクル正極活物質の製造方法
1か月前
続きを見る
他の特許を見る