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公開番号2025136934
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-19
出願番号2024035874
出願日2024-03-08
発明の名称液体供給システム
出願人株式会社ディスコ
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類B23Q 11/10 20060101AFI20250911BHJP(工作機械;他に分類されない金属加工)
要約【課題】供給先の装置を長時間にわたり停止させることなく装置へ液体を簡便かつ安定的に供給する。
【解決手段】液体を装置に供給する液体供給システムであって、該液体を収容し運搬するための液体容器が載置される液体容器載置場と、該液体容器載置場に載置された該液体容器から該装置へと該液体を送液する送液ポンプと、該送液ポンプを制御するコントローラと、を有した送液装置と、該送液装置の該送液ポンプと、該装置と、を接続し該液体容器に収容された該液体を該装置に供給する供給路と、該供給路中の該液体の圧力を検出する圧力計と、を備え、該送液装置の該コントローラは、該圧力計の値に基づいて該送液ポンプを制御する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
液体を装置に供給する液体供給システムであって、
該液体を収容し運搬するための液体容器が載置される液体容器載置場と、
該液体容器載置場に載置された該液体容器から該装置へと該液体を送液する送液ポンプと、該送液ポンプを制御するコントローラと、を有した送液装置と、
該送液装置の該送液ポンプと、該装置と、を接続し該液体容器に収容された該液体を該装置に供給する供給路と、
該供給路中の該液体の圧力を検出する圧力計と、を備え、
該送液装置の該コントローラは、該圧力計の値に基づいて該送液ポンプを制御することを特徴とする液体供給システム。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
該装置は、該供給路からの該加工装置内への該液体の流入と、流入停止と、を切り替える開閉バルブを備えることを特徴とする、請求項１に記載の液体供給システム。
【請求項３】
該送液装置は、該液体容器からの該液体を貯留する貯留容器を有し、
該液体容器載置場は、複数の該液体容器を載置可能に構成され、
一端が該貯留容器に接続されるとともに、他端側が該液体容器載置場に載置された複数の該液体容器にそれぞれ接続される導液路と、
該液体容器載置場に載置された複数の該液体容器のうち該貯留容器に該液体を流入させる該液体容器を選択可能に切り替える選択バルブと、をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の液体供給システム。
【請求項４】
該装置は、
該供給路を通じて該送液装置から送られてきた該液体を受け入れて貯留する受け入れ容器と、
該受け入れ容器に貯留された該液体に脱気処理を施す脱気ユニットと、を備えることを特徴とする請求項１または３に記載の液体供給システム。
【請求項５】
該装置は、クリーンルームの内部空間に配設され、
該送液装置と、該液体容器載置場と、は該クリーンルームの外に配設され、
該供給路は、該クリーンルームの外から該内部空間に渡って敷設されていることを特徴とする請求項１に記載の液体供給システム。
【請求項６】
該液体容器は、該装置に収容できないドラム缶からなることを特徴とする請求項１に記載の液体供給システム。
【請求項７】
該送液ポンプは、エア駆動式ポンプであり、
エア源からのエアを該送液ポンプに供給するためのエア供給路と、
該エア供給路に配設され該エア源から該送液ポンプへの該エアの供給と、供給停止と、を切り替える電磁弁と、
該電磁弁よりも該エア源側で該エア供給路から分岐して該エア源からの該エアを該送液ポンプに供給するための予備エア供給路と、
該予備エア供給路に配設されて該エア源から該送液ポンプへの該エアの供給と、供給停止と、を切り替える手動バルブと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の液体供給システム。
【請求項８】
該導液路の該他端側に設けられ該液体容器に接続される接続部を有し、
該接続部は発光部を含み、
該送液装置の該コントローラは、該発光部を制御して該発光部を点灯、または、消灯させることを特徴とする請求項３に記載の液体供給システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を装置に供給する液体供給システムに関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
デバイスチップの製造工程では、互いに交差する複数の分割予定ライン（ストリート）によって区画されたウェーハの表面側の複数の領域に、それぞれ、ＩＣ（Integrated Circuit）、ＬＳＩ（Large Scale Integration）等のデバイスが形成される。その後、ウェーハを裏面側から研削して薄化し、分割予定ラインに沿って分割することにより、それぞれがデバイスを備える複数のデバイスチップが得られる。デバイスチップは、携帯端末、パーソナルコンピュータ等の電子機器に搭載される。
【０００３】
ウェーハの分割には、円環状の切削ブレードを備えた切削装置、ウェーハにレーザビームを照射してレーザ加工するレーザ加工装置等が使用される。ウェーハを裏面側から薄化する際には、円環状の研削砥石を備える研削装置、円盤状の研磨パッドを備える研磨装置等が使用される。また、デバイスチップの製造プロセスにおいては、ウェーハを洗浄する洗浄装置、ウェーハの表面に液状の材料を塗布して薄膜を形成する塗布装置等も使用される。このように、多種多様な装置が使用される。
【０００４】
これらの装置では、目的に合った液体が供給され、使用されることが多い。例えば、切削装置でウェーハ等の被加工物を切削するとき、純水に液状の添加剤を混入させた液体が使用される場合がある。そして、この場合には、添加剤を純水に混入させて切削装置に供給するための加工液供給装置が使用されている（特許文献１参照）。また、被加工物にレーザ加工を施す前に、予め被加工物に液状の保護膜剤を塗布して保護膜を形成することのできるレーザ加工装置が知られている（特許文献２参照）。
【０００５】
添加剤や保護膜剤等の液体は、ボトル等の容器に収容され運搬される。そして、液体を収容する容器が装置に内蔵され、容器から装置に液体が供給される。装置で液体が消費されると、容器は最終的に空になる。その都度、作業者が容器を交換している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２００７－２２２９６３号公報
特開２００４－３２２１６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
容器の交換作業では、まず、空の容器と装置との接続を解除して空の容器を装置から搬出し、次に、新しい容器を装置に搬入し、装置と新しい容器とを接続する。このように、容器の交換作業それ自体に大きな手間がかかる。その上、立ち入りに特別な注意を要するクリーンルーム等の領域に装置が設置されている場合、作業者は、容器をこの領域内に運び入れるために定められた立ち入り手順に従って準備する必要があり、一層の手間がかかる。
【０００８】
また、容器が空となり液体の供給が停止すると、装置の一部又は全部の機能を停止せざるを得ない。そして、容器の交換作業を実施する間も装置の機能を停止し続けなければならない。したがって、容器の交換作業が頻繁に実施されると、装置の停止時間が増大し、装置の稼働効率が低下する。
【０００９】
このように、装置への滞りのない液体供給体制を維持するために多大な手間と注意が払われており、装置を長時間にわたり停止させずにより簡便かつ安定的に装置への液体供給を実施できる液体供給システムが切望されている。
【００１０】
よって、本発明の目的は、供給先の装置を長時間にわたり停止させることなく装置へ液体を簡便かつ安定的に供給できる液体供給システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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