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公開番号2025093054
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-23
出願番号2023208537
出願日2023-12-11
発明の名称メタルマスクの姿勢制御装置、姿勢制御方法、およびプログラム
出願人シャープディスプレイテクノロジー株式会社
代理人弁理士法人暁合同特許事務所
主分類C23C 14/04 20060101AFI20250616BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】メタルマスクのたわみによる蒸着精度の低下を抑制する。
【解決手段】メタルマスクの姿勢制御装置は、メタルマスクに備えられたマーカに関するマーカ情報を取得するマーカ情報取得部と、前記メタルマスクに予め紐づけられた姿勢情報を取得する姿勢情報取得部と、前記メタルマスクの枠部を変位させるための変位部の駆動を制御する変位制御部と、を備え、前記変位制御部は、前記マーカ情報と前記姿勢情報とに基づいて、前記マーカ情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、前記姿勢情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、が所定の一致条件を満たすように前記変位部の駆動を制御する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
メタルマスクに備えられたマーカに関するマーカ情報を取得するマーカ情報取得部と、
前記メタルマスクに予め紐づけられた姿勢情報を取得する姿勢情報取得部と、
前記メタルマスクの枠部を変位させるための変位部の駆動を制御する変位制御部と、
を備え、
前記変位制御部は、前記マーカ情報と前記姿勢情報とに基づいて、前記マーカ情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、前記姿勢情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、が所定の一致条件を満たすように前記変位部の駆動を制御する、
メタルマスクの姿勢制御装置。
続きを表示（約 1,400 文字）【請求項２】
前記変位制御部は、前記変位部によって前記メタルマスクの枠部を変位させる第１の変位操作を実施し、
前記マーカ情報取得部は、前記第１の変位操作が施された前記メタルマスクに備えられたマーカに関する第１のマーカ情報を取得し、
前記変位制御部は、前記第１のマーカ情報と前記姿勢情報とに基づいて、前記第１のマーカ情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、前記姿勢情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、が所定の一致条件を満たすように前記変位部によって前記メタルマスクの枠部を変位させる第２の変位操作を実施する、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項３】
前記変位部は、
前記枠部のうち前記所定の基準よりも中心に近い少なくとも１つの第１の位置を変位させる第１変位部と、
前記枠部の中心から所定の基準よりも中心から離れた少なくとも１つの第２の位置を変位させる第２変位部と、
を備えており、
前記変位制御部は、前記第１変位部によって前記第１の位置を変位させたのち、前記第２変位部によって前記第２の位置を変位させる、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項４】
前記メタルマスクは矩形であり、前記第２の位置は前記メタルマスクの四隅であって、前記第１の位置は前記メタルマスクの四隅の間に位置し、
前記変位制御部は、前記第１変位部によって前記メタルマスクの四隅の間である前記第１の位置の少なくとも１つを変位させたのち、前記第２変位部によって前記メタルマスクの四隅である前記第２の位置の少なくとも１つを変位させる、
請求項３に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項５】
前記メタルマスクは、所定のパターンの開口を備えるマスクシート部と、前記マスクシート部を支持する支持枠部と、を備えるメタルマスクアセンブリであって、
前記姿勢情報は、前記メタルマスクアセンブリの作製時の前記支持枠部の姿勢に関する情報である、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項６】
前記マーカ情報は、前記メタルマスクに設けられたマーカの位置情報である、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項７】
前記メタルマスクは、平面視における最大寸法が１０００ｍｍ以上である、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項８】
前記メタルマスクは、有機ＥＬディスプレイパネル製造のための蒸着用のメタルマスクである、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項９】
前記変位部は、前記メタルマスクの枠部を押圧するための押圧部であって、
前記変位制御部は、前記押圧部の押圧量を制御する、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
【請求項１０】
前記マーカ情報と前記姿勢情報とを入力とし前記変位部の制御情報を出力とする機械学習に基づいて学習された機械学習モデルを記憶した記憶部をさらに備え、
前記変位制御部は、前記機械学習モデルに前記マーカ情報と前記姿勢情報とを入力した場合に出力される制御情報に基づいて、前記変位部の駆動を制御する、
請求項１に記載のメタルマスクの姿勢制御装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本技術は、メタルマスクの姿勢制御装置、姿勢制御方法、およびプログラムに関する。
続きを表示（約 1,900 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、例えばＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）デバイスにおける有機ＥＬ発光層等の成膜に、真空蒸着法が広く採用されている。真空蒸着工程では、例えば、赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の色ごとに用意されたメタルマスクの開口パターンに応じて、各色の発光材料が基板の所定の位置にそれぞれ並べて蒸着される（塗分け方式）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００６－３０２８９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機ＥＬディスプレイの製造においては、ディスプレイの大型化および／または高精細化に伴い、より大きな基板に対してより微細なＲＧＢパターンを蒸着することが求められている。例えば、第６世代基板（１５００ｍｍ×１８００ｍｍ前後）やその約半分のサイズ（１５００ｍｍ×９００ｍｍ前後）の基板に対し、解像度が６００～１０００ｐｐｉ等の微細なパターンが蒸着される。この解像度は、例えば８．５Ｇへスケールアップされ、いずれ数千ｐｐｉの精度が要求されると見込まれる。
【０００５】
この蒸着工程においては、例えば、メタルマスクのたわみを考慮して、メタルマスクおよび基板を立てて蒸着する「縦型蒸着」が導入される場合がある。しかしながら、この縦型蒸着においても、蒸着精度をさらに高めることが求められている。さらには、蒸着チャンバのサイズやハンドリング性を考慮すると、例えば大型の基板であっても、メタルマスクおよび基板を横に寝かせたまま、高精度で蒸着できればより望ましい。
【０００６】
本技術は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、メタルマスクのたわみによる蒸着精度の低下を抑制することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
大型基板に対する蒸着の場合、より小型の基板への蒸着と比較して蒸着精度が低下し得、これは程度の差はあれ、横型蒸着だけでなく縦型蒸着においても生じ得る。本発明者らは、そしてこの精度の低下が、例えば、メタルマスクの適切な姿勢と、蒸着時の姿勢と、にズレが生じていることに大きく起因することを知見した。本技術は、この知見に基づいてなされたものである。
【０００８】
（１）本技術に係るメタルマスクの姿勢制御装置は、メタルマスクに備えられたマーカに関するマーカ情報を取得するマーカ情報取得部と、前記メタルマスクに予め紐づけられた姿勢情報を取得する姿勢情報取得部と、前記メタルマスクの枠部を変位させるための変位部の駆動を制御する変位制御部と、を備え、前記変位制御部は、前記マーカ情報と前記姿勢情報とに基づいて、前記マーカ情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、前記姿勢情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、が所定の一致条件を満たすように前記変位部の駆動を制御する。
【０００９】
このような構成によると、メタルマスクごとに定められた所定の姿勢情報に基づいて蒸着時のメタルマスクの姿勢を制御することができる。これにより、例えば、蒸着工程における蒸着時のメタルマスクの姿勢を、所望のマスクパターンが実現されるように調整することができる。これにより、例えば、横型蒸着においては、ステージの載置面の平坦性のバラツキに由来するメタルマスクの撓みを抑制して、蒸着を実施することができる。また例えば、縦型蒸着においては、メタルマスクの平坦性と基板の平坦性との間の差異に影響されることなく、所望のマスクパターンを実現し得る姿勢にメタルマスクを制御することができる。延いては、メタルマスクのたわみによる蒸着精度の低下を抑制することができる。
【００１０】
（２）上記（１）に記載のメタルマスクの姿勢制御装置の好適な一態様において、上記前記変位制御部は、前記変位部によって前記メタルマスクの枠部を変位させる第１の変位操作を実施し、前記マーカ情報取得部は、前記第１の変位操作が施された前記メタルマスクに備えられたマーカに関する第１のマーカ情報を取得し、前記変位制御部は、前記第１のマーカ情報と前記姿勢情報とに基づいて、前記第１のマーカ情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、前記姿勢情報に基づく前記メタルマスクの姿勢と、が所定の一致条件を満たすように前記変位部によって前記メタルマスクの枠部を変位させる第２の変位操作を実施する。
（【００１１】以降は省略されています）

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