特許ウォッチ

公開番号2025091075
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-18
出願番号2023206061
出願日2023-12-06
発明の名称ステージ装置、露光装置、および物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250611BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】非除電対象部へのイオンガスの影響を低減することができる軟X線照射による静電気の除電機構を備えるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、基板を載置する載置面を有するチャックと、前記チャックの前記載置面に載置された前記基板を前記載置面から持ち上げる基板昇降部材と、前記載置面に平行な第1の平面において前記チャックの外側に配置され、前記基板昇降部材によって前記載置面から持ち上げられた前記基板と前記載置面との間に向けてX線を照射する照射部と、前記第1の平面において、前記チャックの外側に配置され、前記基板昇降部材により前記載置面から持ち上げられた前記基板と前記載置面の間に向けて送風する送風部と、前記第1の平面において前記載置面の外形の少なくとも一部に沿って配置され、前記送風部から送風された気体の流れの方向を規制する遮蔽機構とを備えることを特徴とする。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基板を載置する載置面を有するチャックと、
前記チャックの前記載置面に載置された前記基板を前記載置面から持ち上げる基板昇降部材と、
前記載置面に平行な第１の平面において前記チャックの外側に配置され、前記基板昇降部材によって前記載置面から持ち上げられた前記基板と前記載置面との間に向けてＸ線を照射する照射部と、
前記第１の平面において、前記チャックの外側に配置され、前記基板昇降部材により前記載置面から持ち上げられた前記基板と前記載置面の間に向けて送風する送風部と、
前記第１の平面において前記載置面の外形の少なくとも一部に沿って配置され、前記送風部から送風された気体の流れの方向を規制する遮蔽機構とを備えるステージ装置。
続きを表示（約 990 文字）【請求項２】
前記遮蔽機構は、前記第１の平面において前記チャックの外形に沿って設けられ、前記第１の平面に垂直な方向に向けて開口している第１のブロー穴と、該第１のブロー穴から気体をブローするように制御する制御部とにより構成されることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記第１のブロー穴は、前記チャックの前記載置面に設けられていることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記遮蔽機構は、前記第１の平面において前記チャックの外形を囲うように設けられた遮蔽ブロー部材を有し、
前記第１のブロー穴は、前記遮蔽ブロー部材に備えられていることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記チャックは、前記基板の前記載置面からの離隔時に流すエアブローのための第２のブロー穴を前記載置面に備え、
前記第１のブロー穴は、前記第１の平面において前記第２のブロー穴よりも前記チャックの外周側に配置されていることを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記チャックは、前記基板の前記載置面からの離隔時に流すエアブローのための第２のブロー穴を前記載置面に備え、
前記第１のブロー穴から流される流速は、前記第２のブロー穴から流される流速よりも大きいことを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記遮蔽機構は、前記第１の平面において前記チャックの外形を囲うように設けられた板状部材により構成されることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記板状部材は、ステンレス鋼または鉛を含む材料で構成されていることを特徴とする請求項７に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記第１のブロー穴の断面形状は、円、楕円、またはスリット状であることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記送風部は、前記第１の平面において、前記載置面の外部に配置され、
前記基板昇降部材は、前記送風部と前記載置面が並ぶ方向を長手方向とするように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、露光装置および物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶表示素子や半導体素子等を製造するフォトリソグラフィ工程では、露光光でフォトマスクあるいはレチクルを照明し、マスクのパターン像をフォトレジスト等の感光剤が塗布された基板上に投影光学系を介して投影する露光装置が使用されている。露光処理が施された感光基板が露光装置から搬出される際、基板と基板支持部との間で剥離帯電が生じる場合がある。帯電した基板には、微小粒子などの異物が付着したり、素子が絶縁破壊したりする虞が生じるので、基板に帯電した静電気を除電する必要がある。
特許文献１には、基板の載置面に沿って軟Ｘ線を照射し、基板近傍の雰囲気をイオン化することによって基板に帯電している静電気を除電する露光装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００２－３５３０９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の露光装置では、軟Ｘ線を照射することにより発生したイオンガスを移動させる送風部を備えているが、非除電対象である周辺部材にもイオンガスが接触して、メッキ剥離などの問題が発生する虞が有る。剥離したメッキ膜は露光装置が配置されている環境を汚染し露光精度に影響を及ぼしたり、メッキ膜が剥離することによって部材が錆びたりするなど、装置自体にも悪影響を及ぼす虞がある。
そこで本発明では、非除電対象部へのイオンガスの影響を低減することができる軟Ｘ線照射による静電気の除電機構を備えるステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
その目的を達成するために、本発明の一側面としてのステージ機構は、基板を載置する載置面を有するチャックと、前記チャックの前記載置面に載置された前記基板を前記載置面から持ち上げる基板昇降部材と、前記載置面に平行な第１の平面において前記チャックの外側に配置され、前記基板昇降部材によって前記載置面から持ち上げられた前記基板と前記載置面との間に向けてＸ線を照射する照射部と、前記第１の平面において、前記チャックの外側に配置され、前記基板昇降部材により前記載置面から持ち上げられた前記基板と前記載置面の間に向けて送風する送風部と、前記第１の平面において前記載置面の外形の少なくとも一部に沿って配置され、前記送風部から送風された気体の流れの方向を規制する遮蔽機構とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、非除電対象部へのイオンガスの影響を低減することができる軟Ｘ線照射による静電気の除電機構を備えるステージ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本発明の一側面としての露光装置を示す概略図である。
本発明の実施例１のステージ機構を示した図である。
本発明の実施例２のステージ機構を示した図である。
本発明の実施例３のステージ機構を示した図である。
本発明の実施例に係る静電気除電方法のフローチャートを示した図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本実施例に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施例を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
以下に、本実施例に係るステージ装置を添付の図面に基づいて説明する。
図１は本発明の一側面としてのステージ装置を含む露光装置１の構成を示す概略図である。
本実施例の露光装置１は、投影光学系１０を挟んで鉛直方向の上側にマスクステージ２０が配置され、下側に基板ステージ（被露光基板ステージ）３０が配置されている。
本明細書において、投影光学系１０の光軸方向をＺ方向、Ｚ方向に垂直で互いに垂直な方向をＸ方向およびＹ方向とする。また、Ｘ軸まわり、Ｙ軸まわり、Ｚ軸まわりのそれぞれの回転方向をθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向とする。
マスクステージ２０と基板ステージ３０はそれぞれ独立して移動可能であり、これらの移動位置はともにレーザ干渉測長器５０により計測することで制御可能である。
【０００９】
基板ステージ３０は、本体ベース３１上に配置されたＹステージ３２、およびＹステージ３２上に配置されたＸステージ３３を有する。このＸステージ３３上にθＺステージ３４が搭載され、この上に基板チャック３５を配置されている。基板チャック３５は、露光されるべき基板３６を支持する。これにより、基板３６は、基板ステージ３０によりＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向に移動可能であると共にＸＹ面内でも回転可能に支持される。θＺステージ３４は、露光時、基板３６の表面を投影光学系１０の基板側焦点面に一致させるように、基板３６をＺ方向に移動させることができる。
【００１０】
マスクステージ２０は、マスクステージプレート２１と、その上に配置されたＸＹθステージ２２とを備え、ＸＹθステージ２２の上に投影されるべきパタ－ンが形成されているマスク(原版)２３が配置される。従って、マスク２３はＸおよびＹ方向に移動可能であると共にＸＹ面内で回転可能に支持されている。マスクステージ２０の上方には、基板３６上に形成されたマスク２３のパターンの像を投影光学系１０を介して観察する観察光学系４０が配置されている。観察光学系４０の上方には照明光学系４１が配置されている。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許