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公開番号2025074674
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-14
出願番号2023185656
出願日2023-10-30
発明の名称ネガ型感光性組成物、感光性レジストフィルム、中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法
出願人東京応化工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/038 20060101AFI20250507BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】良好な形状のパターンを形成可能であり、中空構造体の側壁に対する貼付性を高められるネガ型感光性組成物、これを用いて形成された感光性膜を備える感光性レジストフィルム、そのネガ型感光性組成物を用いた中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】3官能以上の多官能エポキシ化合物と、カチオン重合開始剤と、分子量800以下の2官能芳香族エポキシ化合物と、を含有するネガ型感光性組成物を採用する。2官能芳香族エポキシ化合物の含有量の割合は、多官能エポキシ化合物及び2官能芳香族エポキシ化合物の合計の含有量(100質量%)に対して、0.6～10質量%である、ネガ型感光性組成物である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
３官能以上の多官能エポキシ化合物と、カチオン重合開始剤と、分子量８００以下の２官能芳香族エポキシ化合物と、を含有し、
前記２官能芳香族エポキシ化合物の含有量の割合は、前記多官能エポキシ化合物及び前記２官能芳香族エポキシ化合物の合計の含有量（１００質量％）に対して、０．６～１０質量％である、ネガ型感光性組成物。
続きを表示（約 840 文字）【請求項２】
前記２官能芳香族エポキシ化合物の含有量の割合は、前記多官能エポキシ化合物及び前記２官能芳香族エポキシ化合物の合計の含有量（１００質量％）に対して、０．７～８質量％である、請求項１に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項３】
前記多官能エポキシ化合物は、ビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂を含む、請求項１に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項４】
前記２官能芳香族エポキシ化合物は、ビスフェノールエポキシモノマーを含む、請求項３に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項５】
凹部と、この凹部の開口面を塞ぐ天板部と、からなる中空構造体の、前記天板部を形成するために用いられる、請求項１又は２に記載のネガ型感光性組成物。
【請求項６】
基材フィルム上に、請求項１又は２に記載のネガ型感光性組成物を用いて形成された感光性膜と、カバーフィルムと、がこの順に積層した感光性レジストフィルム。
【請求項７】
凹部と、この凹部の開口面を塞ぐ天板部と、からなる中空構造体の製造方法であって、
前記天板部を、請求項１又は２に記載のネガ型感光性組成物を用いて形成する、中空構造体の製造方法。
【請求項８】
請求項１又は２に記載のネガ型感光性組成物を用いて、支持体上に感光性膜を形成する工程と、
前記感光性膜を露光する工程と、
前記露光後の感光性膜を、有機溶剤を含有する現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程と、
を有する、パターン形成方法。
【請求項９】
請求項５に記載の感光性レジストフィルムを用いて、支持体上に感光性膜を形成する工程と、
前記感光性膜を露光する工程と、
前記露光後の感光性膜を、有機溶剤を含有する現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程と、
を有する、パターン形成方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ネガ型感光性組成物、感光性レジストフィルム、中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、表面弾性波（ＳＡＷ）フィルター等の微小電子デバイスの開発が進められている。このような電子デバイスを封止したパッケージは、表面弾性波の伝播、電子デバイスの可動部材の可動性を確保するための中空封止構造を有している。今後、特に、高い周波数を扱うスマートフォンなどでは、中空封止構造を有するパッケージ（以下、これを中空構造体という）の小型化がますます求められる。
【０００３】
図３は、中空構造体１００の構造の一例を示す模式的な断面図である。
中空構造体１００は、基板１０、基板１０上に形成された側壁２０、及び、側壁２０と基板１０とで形成される凹部１５の開口面を塞ぐネガ型パターン（露光部３０Ａ、以下、天板部ともいう）を備える。
中空構造体１００は、例えば、以下のように製造される。まず、基板１０上に感光性組成物を塗布して形成された感光性膜に対して、選択的露光を行って側壁２０が製造される。次いで、凹部１５を覆うように、感光性膜を側壁２０に貼付した後、選択的露光を行って天板部３０Ａが製造される。
【０００４】
基板の上に中空構造体の側壁を形成する際、基板に接するネガ型パターンの周縁部にアンダーカットが生じやすいという問題がある。これに対し、特許文献１には、エポキシ基含有化合物及び特定の構成単位を有する樹脂を含有する、ネガ型感光性樹脂組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２２－１０１１３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のネガ型感光性樹脂組成物を用いて作製される天板部は、基板の上に形成された側壁に対する貼付性が十分ではないという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、良好な形状のパターンを形成可能であり、中空構造体の側壁に対する貼付性を高められるネガ型感光性組成物、これを用いて形成された感光性膜を備える感光性レジストフィルム、そのネガ型感光性組成物を用いた中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の態様を含む。
本発明の第１の態様は、３官能以上の多官能エポキシ化合物と、カチオン重合開始剤と、分子量８００以下の２官能芳香族エポキシ化合物と、を含有し、前記２官能芳香族エポキシ化合物の含有量の割合は、前記多官能エポキシ化合物及び前記２官能芳香族エポキシ化合物の合計の含有量（１００質量％）に対して、０．６～１０質量％である、ネガ型感光性組成物である。
【０００９】
本発明の第２の態様は、基材フィルム上に、第１の態様に係るネガ型感光性組成物を用いて形成された感光性膜と、カバーフィルムと、がこの順に積層した感光性レジストフィルムである。
【００１０】
本発明の第３の態様は、凹部と、この凹部の開口面を塞ぐ天板部と、からなる中空構造体の製造方法であって、前記天板部を、第１の態様に係るネガ型感光性組成物を用いて形成する、中空構造体の製造方法である。
（【００１１】以降は省略されています）

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