特許ウォッチ

公開番号2025050431
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023159226
出願日2023-09-22
発明の名称基板処理装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250327BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】洗浄具から基板に作用する押圧力を高い応答性で正確に調整することを可能にする基板処理装置を提供する。
【解決手段】チャンバの床面上に設けられた基板保持装置により基板が保持される。ブラシアーム41により保持されたブラシ装置50が基板に押し当てられ、基板が洗浄される。ブラシアーム41においては、ブラシ装置50は、ブラシ支持軸34、第1の連結部材210、第2の連結部材220および回転支持機構290が連結されたブラシ装置保持体により保持される。ブラシ装置50を保持するブラシ装置保持体は、さらに複動式エアシリンダ装置100のピストン121により支持される。基板の洗浄処理時には、ブラシ装置50から基板に設定された押圧力が作用する状態でブラシ装置保持体からピストン121に作用する力が相殺されるように、複動式エアシリンダ装置100内部の2つの空間の圧力が調整される。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
第１の設置面上に設けられ、基板を保持する基板保持部と、
前記基板の一面に接触することにより前記基板を処理する洗浄具と、
前記洗浄具が前記基板保持部により保持された前記基板の前記一面に対向する状態で前記洗浄具を保持する洗浄具保持体と、
前記洗浄具保持体を支持する押圧装置と、
制御部とを備え、
前記押圧装置は、
前記第１の設置面と予め定められた位置関係を有する第２の設置面上に配置され、内部空間を有するシリンダ部材と、
前記シリンダ部材内に収容されて、前記内部空間を上下方向に並ぶ第１室および第２室に区画するピストンと、
前記ピストンから前記シリンダ部材の上方または下方に延びるとともに、先端部が前記洗浄具保持体に連結された軸部材と、
前記第１室内の圧力および前記第２室内の圧力を調整する圧力調整装置とを含み、
前記制御部は、前記圧力調整装置を制御することにより、前記洗浄具による前記基板の処理時に、前記洗浄具から前記基板に予め定められた設定押圧力が作用する状態で前記洗浄具保持体から前記軸部材を介して前記ピストンに作用する力が相殺されるように、前記第１室および前記第２室の圧力を調整する、基板処理装置。
続きを表示（約 570 文字）【請求項２】
前記洗浄具保持体を水平面内で移動または回転させる保持体移動装置をさらに備え、
前記制御部は、前記保持体移動装置を制御する、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記設定押圧力は、前記基板の前記一面上の複数の部分にそれぞれ対応して互いに異なる値に設定され、
前記制御部は、前記洗浄具が存在する前記基板の前記一面上の位置に設定された前記設定押圧力が作用するように、前記第１室内の圧力および前記第２室内の圧力を調整する、請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記基板の前記一面上の複数の部分の設定押圧力に関する情報を記憶する情報記憶部をさらに備える、請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１室は、前記第２室の下方に位置し、
前記制御部は、前記圧力調整装置を制御することにより、前記第１室の圧力の値を予め定められた値に維持する、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記圧力調整装置を制御することにより、前記第１室の圧力の値を、前記予め定められた値として、前記設定押圧力が０のときに前記ピストンに作用する力を相殺する圧力の値に維持する、請求項５記載の基板処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄具を基板に接触させて処理する基板処理装置に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられる。
【０００３】
このような基板処理装置の一例として、特許文献１に記載された基板処理装置は、基板の裏面（一面）をスクラブ洗浄する裏面洗浄処理ユニットを備える。その裏面洗浄処理ユニットは、スピンチャック、ブラシ、保持アームおよびブラシ移動機構を備える。
【０００４】
スピンチャックは、基板を水平姿勢で回転可能に保持する。保持アームは、ブラシを保持する。また、保持アームには、ブラシ移動機構が接続されている。ブラシ移動機構は、保持アームを移動させることにより、スピンチャックにより保持されて回転する基板の一面にブラシを接触させる。また、ブラシ移動機構は、保持アームをさらに移動させることにより、基板の一面上でブラシを移動させる。これにより、基板の一面が洗浄される。
【０００５】
保持アームにおいては、ブラシは、上下方向に延びる回転シャフトの下端部に取り付けられている。また、回転シャフトは、コイルばねを介して保持アームのハウジングに支持されている。そのため、ブラシが基板に接触しない状態で、回転シャフトおよびブラシを含む構成の重量は、コイルばねの弾性力により相殺されている。
【０００６】
さらに、保持アームには、基板の一面にブラシが接触する状態で、上記の回転シャフトを下方に押圧してブラシを基板に押し付けるための押圧用アクチュエータが内蔵されている。基板の一面に対する洗浄力の程度は、ブラシから基板の一面に作用する押し付け力（押圧力）に応じて異なる。そこで、押圧用アクチュエータは、基板の一面の洗浄時に、予め定められた程度の洗浄力を得るために、予め定められた力で回転シャフトを下方に向けて押圧する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２００９－２０６１３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
基板上に形成される各種パターンの微細化等に伴って、基板に対するより精密な処理が求められている。このような要求の一つとして、基板の一面に対して、予め定められた洗浄力で正確に洗浄することが求められている。
【０００９】
一方、洗浄対象となる基板には、１または複数の膜が形成されている場合がある。あるいは、洗浄対象となる基板は、その直前に熱処理等が行われている場合がある。このように、洗浄対象となる基板に、予め１または複数の処理が行われていると、当該基板に歪（膨らみまたは窪み等）が生じている可能性がある。
【００１０】
局所的な歪を有する基板がスピンチャックに保持されると、スピンチャックに保持された基板の一面の高さ位置は、複数の部分で互いに異なることになる。そのため、基板の一面の洗浄時に保持アームが水平方向に移動する場合には、保持アームと基板との間の距離が、基板の一面上の位置に応じて変化する。保持アームと基板との間の距離が変動すると、保持アームに内蔵されるコイルばねの長さも変動する。
（【００１１】以降は省略されています）

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