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公開番号2025050325
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023159046
出願日2023-09-22
発明の名称基板処理装置および基板処理方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人弁理士法人あい特許事務所
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250327BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】処理液ノズルから基板に予期しないタイミングで落下する液体を減らすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板の上面に向けて処理液を下方に吐出する処理液ノズル30を備える。処理液ノズル30の外表面30sは撥水面72を含む。
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項１】
基板を水平に保持する基板ホルダーと、
前記基板ホルダーに保持されている前記基板の上面に向けて処理液を下方に吐出する処理液ノズルと、を備え、
前記処理液ノズルの外表面は、撥水面を含む、基板処理装置。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記撥水面は、少なくとも一部が空気によって満たされた凹部と、前記凹部内の前記空気に接する水に接する凸部と、を含む凹凸面を含む、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記凹凸面は、フッ素樹脂製である、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記処理液ノズルの前記外表面は、前記撥水面と鏡面とを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記処理液ノズルは、水平に延びるアーム部と、前記アーム部から下方に延びており、前記処理液を下方に吐出するノズル部とを含み、
前記鏡面は、前記ノズル部に設けられている、請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記撥水面は、前記アーム部に設けられている、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記鏡面に対する水の接触角は９０度を上回る、請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記基板ホルダーに保持されている前記基板を前記基板の中央部を通る鉛直な回転軸線まわりに回転させるスピンモーターと、
前記処理液ノズルが前記基板ホルダーに保持されている前記基板に平面視で重なる処理位置と、前記処理液ノズルが前記基板ホルダーに保持されている前記基板に平面視で重ならない待機位置と、の間で前記処理液ノズルを水平に移動させる動力を発生する水平アクチュエーターと、
前記処理位置に位置する前記処理液ノズルが前記基板ホルダーに保持されている前記基板の前記上面に前記処理液を供給した後に、前記スピンモーターによって前記基板を回転させることにより前記基板を乾燥させながら、前記水平アクチュエーターによって前記処理液ノズルを前記処理位置から前記待機位置に移動させる制御装置と、をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記処理液ノズルが前記基板ホルダーに保持されている前記基板に平面視で重なる処理位置と、前記処理液ノズルが前記基板ホルダーに保持されている前記基板に平面視で重ならない待機位置と、の間で前記処理液ノズルを水平に移動させる動力を発生する水平アクチュエーターと、
前記待機位置に位置する前記処理液ノズルの前記外表面に向けて洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、
前記待機位置に位置する前記処理液ノズルの前記外表面に向けて乾燥ガスを吐出する乾燥ノズルと、をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
基板ホルダーによって水平に保持されている基板の上面に向けて処理液ノズルから処理液を下方に吐出するステップと、
前記処理液ノズルが前記処理液を吐出しているときに発生したミストおよび液滴を、前記処理液ノズルの外表面に設けられた撥水面に接触させるステップと、を含む、基板処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。基板には、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置や有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などのＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
続きを表示（約 900 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、水平な姿勢で回転している基板の上面に向けて処理位置に位置する上面処理液ノズルから処理液を吐出することと、待機位置に位置する上面処理液ノズルを洗浄液で洗浄し乾燥させることを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１３－２６３７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の基板処理装置および基板処理方法では、上面処理液ノズルから吐出された処理液のミストおよび液滴が上面処理液ノズルに付着し、上面処理液ノズルから基板に落下することがある。上面処理液ノズルの乾燥が不十分な場合は、上面処理液ノズルを処理位置の方に移動させたときに、洗浄液などの液体が上面処理液ノズルから基板に落下することがある。しかしながら、上面処理液ノズルから基板に落下した液体が基板の品質を低下させる場合がある。
【０００５】
本発明の１つの目的は、処理液ノズルから基板に予期しないタイミングで落下する液体を減らすことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施形態は、基板を水平に保持する基板ホルダーと、前記基板ホルダーに保持されている前記基板の上面に向けて処理液を下方に吐出する処理液ノズルと、を備え、前記処理液ノズルの外表面は、撥水面を含む、基板処理装置を提供する。
【０００７】
前記実施形態において、以下の特徴の少なくとも１つを前記基板処理装置に加えてもよい。
【０００８】
前記撥水面は、少なくとも一部が空気によって満たされた凹部と、前記凹部内の前記空気に接する水に接する凸部と、を含む凹凸面を含む。
【０００９】
前記凹凸面は、フッ素樹脂製である。
【００１０】
前記処理液ノズルの前記外表面は、前記撥水面と鏡面とを含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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