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公開番号2025021432
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-13
出願番号2024110961
出願日2024-07-10
発明の名称ガス処理システム
出願人メタウォーター株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B01D 53/38 20060101AFI20250205BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】臭気ガスの臭気強度及び一酸化二窒素濃度の少なくともいずれか一方に応じた放電をすることにより、臭気強度及び一酸化二窒素濃度の少なくともいずれか一方の変動に応じて脱臭することが可能なガス処理システムを提供する。
【解決手段】ガス処理システム1は、臭気成分を含む臭気ガス中で放電することにより、臭気ガス中にプラズマを生成するプラズマ処理ユニット20と、プラズマ処理ユニット20の下流に設けられ、プラズマと接触した臭気ガス中に残存する臭気成分を吸着する吸着ユニット30と、プラズマ処理ユニット20の放電回数を制御する制御ユニット43とを備え、制御ユニット43は臭気ガスの臭気強度に応じて上記放電回数を制御する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
臭気成分を含む臭気ガス中で放電することにより、前記臭気ガス中にプラズマを生成するプラズマ処理ユニットと、
前記プラズマ処理ユニットの下流に設けられ、前記プラズマと接触した臭気ガス中に残存する前記臭気成分を吸着する吸着ユニットと、
前記プラズマ処理ユニットの放電回数を制御する制御ユニットと、
を備え、
前記制御ユニットは前記臭気ガスの臭気強度に応じて前記放電回数を制御する、ガス処理システム。
続きを表示（約 610 文字）【請求項２】
前記吸着ユニットは無機吸着剤を含み、前記無機吸着剤によって前記臭気成分を吸着する、請求項１に記載のガス処理システム。
【請求項３】
前記臭気ガスは下水処理で生じたガスである、請求項１又は２に記載のガス処理システム。
【請求項４】
前記臭気ガスは、下水処理で生じたガスであり、一酸化二窒素を含み、
前記プラズマ処理ユニットは炭化水素を含む前記臭気ガス下において一酸化二窒素を化学変化によって除去する、請求項１又は２に記載のガス処理システム。
【請求項５】
前記プラズマ処理ユニットは、前記臭気ガス中で放電することにより、前記臭気ガス中にプラズマを生成する第１プラズマ処理部と、前記第１プラズマ処理部で処理され、炭化水素を含む処理ガス中で放電することにより、前記処理ガス中にプラズマを生成する第２プラズマ処理部とを含む、請求項１又は２に記載のガス処理システム。
【請求項６】
一酸化二窒素及び炭化水素を含む一酸化二窒素含有ガス中で放電することにより、前記一酸化二窒素含有ガス中にプラズマを生成するプラズマ処理ユニットと、
前記プラズマ処理ユニットの放電回数を制御する制御ユニットと、
を備え、
前記制御ユニットは前記一酸化二窒素含有ガスの一酸化二窒素強度に応じて前記放電回数を制御する、ガス処理システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス処理システムに関する。
続きを表示（約 1,000 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、臭気成分を含むガスのガス処理方法として、放電によってプラズマを生成し、そこで生成されるラジカルなどによってガス処理を行う方法が知られている。
【０００３】
特許文献１には、プラズマ処理のための各電極の対応する箇所にそれぞれ流体流通孔を設け、流体流通孔を通過する流体の下流側に浮遊菌又は臭気物質を吸着する吸着部材を配置した脱臭殺菌装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１２－１２０７６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の脱臭殺菌装置では、例えば下水処理で生じた臭気ガスのように、臭気の強度が変動した場合、効率的な脱臭ができないおそれがある。また、特許文献１には、温室効果ガスの１つである一酸化二窒素を除去することについて開示されていない。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本発明の目的は、臭気ガスの臭気強度及び一酸化二窒素濃度の少なくともいずれか一方に応じた放電をすることにより、臭気強度及び一酸化二窒素濃度の少なくともいずれか一方の変動に応じてガス処理することが可能なガス処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の第１の態様に係るガス処理システムは、臭気成分を含む臭気ガス中で放電することにより、臭気ガス中にプラズマを生成するプラズマ処理ユニットと、プラズマ処理ユニットの下流に設けられ、プラズマと接触した臭気ガス中に残存する臭気成分を吸着する吸着ユニットと、プラズマ処理ユニットの放電回数を制御する制御ユニットとを備える。制御ユニットは臭気ガスの臭気強度に応じて放電回数を制御する。
【０００８】
吸着ユニットは無機吸着剤を含み、無機吸着剤によって臭気成分を吸着してもよい。
【０００９】
臭気ガスは下水処理で生じたガスであってもよい。
【００１０】
臭気ガスは、下水処理で生じたガスであり、一酸化二窒素を含んでいてもよい。プラズマ処理ユニットは炭化水素を含む臭気ガス下において一酸化二窒素を化学変化によって除去してもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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