TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025018767
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-06
出願番号2023122760
出願日2023-07-27
発明の名称発光装置の検査方法、および発光装置の製造方法
出願人日亜化学工業株式会社
代理人個人,個人
主分類G01N 25/16 20060101AFI20250130BHJP(測定;試験)
要約【課題】発光装置を発光させた状態において発光装置の変形を高精度に検査すること。
【解決手段】発光装置の検査方法は、第1波長域を含む第1の光を発光可能な発光装置を準備する工程と、前記第1波長域とは異なる第2波長域を含む第2の光を前記発光装置に照射し、前記第1の光を除去するフィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第1画像を得る工程と、前記発光装置を発光させた状態で前記第2の光を前記発光装置に照射し、前記フィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第2画像を得る工程と、前記第1画像と前記第2画像との相関を解析する工程と、を含む。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項1】
第1波長域を含む第1の光を発光可能な発光装置を準備する工程と、
前記第1波長域とは異なる第2波長域を含む第2の光を前記発光装置に照射し、前記第1の光を除去するフィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第1画像を得る工程と、
前記発光装置を発光させた状態で前記第2の光を前記発光装置に照射し、前記フィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第2画像を得る工程と、
前記第1画像と前記第2画像との相関を解析する工程と、を含む、発光装置の検査方法。
続きを表示(約 790 文字)【請求項2】
前記第1波長域は、380nm以上780nm以下である、請求項1に記載の発光装置の検査方法。
【請求項3】
前記第2波長域は、800nm以上2000nm以下である、請求項1または請求項2に記載の発光装置の検査方法。
【請求項4】
前記第2波長域は、900nm以上1000nm以下である、請求項1または請求項2に記載の発光装置の検査方法。
【請求項5】
前記フィルタは、誘電体多層膜を含む、請求項1または請求項2に記載の発光装置の検査方法。
【請求項6】
前記第1画像および前記第2画像のそれぞれは、少なくとも2台のカメラにより異なる方向から撮影される、請求項1または請求項2に記載の発光装置の検査方法。
【請求項7】
前記第1画像および前記第2画像のそれぞれを撮影するカメラは、テレセントリックレンズを含む、請求項1または請求項2に記載の発光装置の検査方法。
【請求項8】
前記第1画像および前記第2画像は、少なくとも2台のカメラにより異なる方向から撮影され、
前記少なくとも2台のカメラそれぞれに含まれる前記テレセントリックレンズの光軸は、相互に傾いている、請求項7に記載の発光装置の検査方法。
【請求項9】
前記準備する工程において、表面にランダムパターンが付与された発光装置を準備する、請求項1または請求項2に記載発光装置の検査方法。
【請求項10】
前記ランダムパターンは、前記発光装置に塗料を塗布することにより付与され、
前記第1の光に対する前記塗料に含まれる色素の透過率は、前記第2の光に対する前記色素の透過率よりも高い、請求項9に記載の発光装置の検査方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、発光装置の検査方法、および発光装置の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
例えば、特許文献1には、赤外線を発する試料の表面形状の歪みを、画像相関によって測定する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特表2008-500524号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に記載された試料から発せられる赤外線は、試料を加熱するために照射され、反射または透過された遠赤外線、並びに試料自体の熱放射に伴う遠赤外線である。従って、特許文献1は、発光装置を発光させた状態において発光装置の変形を検査する方法を開示していない。
【0005】
本開示に係る実施形態は、発光装置を発光させた状態において発光装置の変形を高精度に検査することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の一実施形態に係る発光装置の検査方法は、第1波長域を含む第1の光を発光可能な発光装置を準備する工程と、前記第1波長域とは異なる第2波長域を含む第2の光を前記発光装置に照射し、前記第1の光を除去するフィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第1画像を得る工程と、前記発光装置を発光させた状態で前記第2の光を前記発光装置に照射し、前記フィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第2画像を得る工程と、前記第1画像と前記第2画像との相関を解析する工程と、を含む。
【0007】
本開示の一実施形態に係る発光装置の製造方法は、第1波長域を含む第1の光を発光可能な発光装置を準備する工程と、前記第1波長域とは異なる第2波長域を含む第2の光を前記発光装置に照射し、前記第1の光を除去するフィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第1画像を得る工程と、前記発光装置を発光させた状態で前記第2の光を前記発光装置に照射し、前記フィルタを介して前記発光装置を撮影することにより、第2画像を得る工程と、前記第1画像と前記第2画像との相関を解析する工程と、前記解析する工程で得られた前記発光装置の熱変形量に基づき、前記発光装置に含まれる部材の熱膨張係数を算出する工程と、を含む。
【発明の効果】
【0008】
本開示に係る実施形態によれば、発光装置を発光させた状態において発光装置の変形を高精度に検査することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
実施形態に係る検査方法の検査対象である発光装置の模式的斜視図である。
図1におけるII-II線に沿う模式的断面図である。
第1実施形態に係る検査方法を行う検査装置の模式的側面図である。
相関を解析する工程における変形前画像を示す図である。
相関を解析する工程における変形後画像を示す図である。
第1実施形態に係る検査方法の手順を示すフロー図である。
ランダムパターン付与前の発光装置を示す図である。
ランダムパターン付与後の発光装置を示す図である。
比較例に係る検査方法で得られる第1画像を示す図である。
比較例に係る検査方法で得られる第2画像を示す図である。
第1実施形態に係る検査方法で得られる第1画像を示す図である。
第1実施形態に係る検査方法で得られる第2画像を示す図である。
第1実施形態に係る検査方法による面内変形分布の取得結果の図である。
図13におけるXIV-XIV線に沿う面内変形分布を示す図である。
第2実施形態に係る検査方法を行う検査装置の模式的側面図である。
第2実施形態に係る検査方法の手順を示すフローチャートである。
第2実施形態に係る検査方法による三次元形状の取得結果の図である。
第2実施形態に係る検査方法による面外変形分布の取得結果の図である。
図18におけるXIX-XIX線に沿う面外変形分布を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本開示の実施形態に係る発光装置の検査方法および発光装置の製造方法について図面を参照しながら詳細に説明する。但し、以下に示す形態は、本開示の技術思想を具現化するための発光装置の検査方法および発光装置の製造方法を例示するものであって、以下に限定するものではない。また、実施形態に記載されている構成部の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本開示の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
(【0011】以降は省略されています)

特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

個人
集束超音波の測定機
19日前
個人
センサ制御回路
19日前
株式会社大真空
センサ
7日前
甲神電機株式会社
漏電検出器
12日前
甲神電機株式会社
電流センサ
12日前
株式会社大真空
センサ
23日前
甲神電機株式会社
電流検出器
12日前
ユニパルス株式会社
ロードセル
6日前
株式会社高橋型精
採尿具
13日前
ダイトロン株式会社
外観検査装置
19日前
株式会社トプコン
測量装置
12日前
学校法人東京電機大学
干渉計
20日前
アズビル株式会社
漏液センサ
23日前
株式会社国際電気
治具セット
26日前
アズビル株式会社
熱式流量計
13日前
株式会社諸岡
自動運転作業機
23日前
TDK株式会社
磁気センサ
19日前
豊田合成株式会社
表示装置
12日前
日本特殊陶業株式会社
ガスセンサ
13日前
株式会社ミトミ技研
圧力測定装置
19日前
シャープ株式会社
収納装置
13日前
株式会社JVCケンウッド
撮像装置
20日前
トヨタ自動車株式会社
画像検査装置
7日前
アズビル株式会社
真空計測システム
23日前
エスペック株式会社
試験装置
20日前
個人
電気計器用結線器
23日前
理研計器株式会社
ガス検知器
23日前
株式会社東京久栄
水中移動体用採水器
13日前
アズビル株式会社
ヒータ温度推定装置
20日前
株式会社ミツトヨ
目盛板姿勢検査方法
26日前
TDK株式会社
温度センサ
13日前
株式会社島津製作所
ガスクロマトグラフ
19日前
横河電機株式会社
光源装置
13日前
株式会社大真空
センサ及びその製造方法
6日前
ローム株式会社
MEMSデバイス
13日前
エスペック株式会社
二次電池用プローブ
26日前
続きを見る