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公開番号
2025018517
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-02-06
出願番号
2023122291
出願日
2023-07-27
発明の名称
振動デバイス
出願人
セイコーエプソン株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
H03H
9/10 20060101AFI20250130BHJP(基本電子回路)
要約
【課題】電気的接続の信頼性に優れた振動デバイスを提供する。
【解決手段】振動デバイス1は、第1面10aを有するベース10と、第1面10aに配置されている第1導電層43と、第1面10a側に位置し、素子基板30及び素子基板30のベース10側の面に位置する第2導電層44を含む振動素子25と、ベース10と振動素子25との間に配置し、ベース10と振動素子25とを接合し、第1導電層43と第2導電層44とを電気的に接続する金属バンプ41と、第1導電層43とベース10との間に配置する樹脂層42と、を有し、第1導電層43は、ベース10に配置する第1部分61と、金属バンプ41が接合する第2部分62と、第1部分61と第2部分62との間に位置する中間部分63と、を含み、樹脂層42は、第2部分62及び中間部分63とベース10との間に配置され、中間部分63とベース10との間の角度θ1は、θ1<90°を満たす。
【選択図】図4
特許請求の範囲
【請求項1】
表裏関係にある第1面及び第2面を有するベースと、
前記第1面に配置されている第1導電層と、
前記ベースの前記第1面側に位置し、素子基板及び前記素子基板の前記ベース側の面に位置している第2導電層を含む振動素子と、
前記ベースと前記振動素子との間に配置され、前記ベースと前記振動素子とを接合すると共に前記第1導電層と前記第2導電層とを電気的に接続する金属バンプと、
前記第1導電層と前記ベースとの間に配置されている樹脂層と、
を有し、
前記第1導電層は、
前記ベースに配置されている第1部分と、
前記金属バンプが接合されている第2部分と、
前記第1部分と前記第2部分との間に位置する中間部分と、
を含み、
前記樹脂層は、前記第2部分及び前記中間部分と前記ベースとの間に配置され、
前記中間部分と前記ベースとの間の角度θ1は、θ1<90°を満たす、
振動デバイス。
続きを表示(約 510 文字)
【請求項2】
前記中間部分は、断面視において、曲線形状である、
請求項1に記載の振動デバイス。
【請求項3】
前記金属バンプの前記ベース側の側面は、断面視において、前記振動素子側から前記ベース側に向うに従って、前記金属バンプの中心軸に近づく外形部を有し、
前記第1導電層の前記第2部分における前記中間部分側の端部は、前記外形部に接合されている、
請求項1に記載の振動デバイス。
【請求項4】
前記外形部は、円弧形状である、
請求項3に記載の振動デバイス。
【請求項5】
前記中間部分は、断面視において、第1直線部及び第2直線部を含み、
前記第1直線部と前記第2直線部との間の角度θ2は、θ2>90°を満たす、
請求項1に記載の振動デバイス。
【請求項6】
前記ベースに接合され、前記ベースとの間に前記振動素子を収容している蓋体を有し、
前記ベースは、前記振動素子と電気的に接続された発振回路が形成されている半導体基板を含む、
請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の振動デバイス。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、振動デバイスに関する。
続きを表示(約 2,000 文字)
【背景技術】
【0002】
例えば、特許文献1には、ベースと、ベースの上面側に位置する振動素子と、上面に配置されている導電層と、ベースと振動素子との間に配置され、ベースと振動素子とを接合する金属バンプと、ベースと導電層との間に介在し、金属バンプよりも弾性率が小さい低弾性率層と、を有する振動デバイスが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2022-085834号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に記載の振動デバイスでは、導電層がベース上に配置された樹脂層を覆うように形成される。そのため、樹脂層の形状によっては、断面視において、導電層にほぼ垂直の角部が形成されてしまう。その結果、角部において導電層が断線することで、電気的接続の信頼性が十分得られないという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【0005】
振動デバイスは、表裏関係にある第1面及び第2面を有するベースと、前記第1面に配置されている第1導電層と、前記ベースの前記第1面側に位置し、素子基板及び前記素子基板の前記ベース側の面に位置している第2導電層を含む振動素子と、前記ベースと前記振動素子との間に配置され、前記ベースと前記振動素子とを接合すると共に前記第1導電層と前記第2導電層とを電気的に接続する金属バンプと、前記第1導電層と前記ベースとの間に配置されている樹脂層と、を有し、前記第1導電層は、前記ベースに配置されている第1部分と、前記金属バンプが接合されている第2部分と、前記第1部分と前記第2部分との間に位置する中間部分と、を含み、前記樹脂層は、前記第2部分及び前記中間部分と前記ベースとの間に配置され、前記中間部分と前記ベースとの間の角度θ1は、θ1<90°を満たす。
【図面の簡単な説明】
【0006】
第1実施形態に係る振動デバイスの概略構造を示す斜視図。
第1実施形態に係る振動デバイスの概略構造を示す平面図。
図2中のA1-A1線断面図。
図3中のB部拡大図。
第2実施形態に係る振動デバイスの概略構造を示す断面拡大図。
第3実施形態に係る振動デバイスの概略構造を示す平面図。
図6中のA2-A2線断面図。
【発明を実施するための形態】
【0007】
1.第1実施形態
先ず、第1実施形態に係る振動デバイス1として、振動素子25を備えた発振器を一例として挙げ、図1~図4を参照して説明する。
尚、図2において、振動デバイス1の内部構成を説明する便宜上、蓋体20を取り外した状態を図示している。また、説明の便宜上、以降の斜視図、平面図、及び断面図には、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸、及びZ軸を図示している。また、X軸に沿う方向を「X方向」、Y軸に沿う方向を「Y方向」、Z軸に沿う方向を「Z方向」と言う。また、各軸の矢印側を「プラス側」、矢印と反対側を「マイナス側」とも言う。また、Z方向プラス側を「上」、Z方向マイナス側を「下」とも言う。
【0008】
振動デバイス1は、図1、図2、及び図3に示すように、表裏関係にある第1面10a及び第2面10bを有するベース10と、第1面10aに配置されている第1導電層43と、ベース10の第1面10a側に位置し、素子基板30及び素子基板30のベース10側の面に位置している第2導電層44を含む振動素子25と、ベース10と振動素子25との間に配置され、ベース10と振動素子25とを接合すると共に第1導電層43と第2導電層44とを電気的に接続する金属バンプ41と、第1導電層43とベース10との間に配置されている樹脂層42と、ベース10に接合され、ベース10との間に振動素子25を収容している蓋体20と、を有する。尚、ベース10と蓋体20とで、振動素子25を収容するパッケージ2を構成している。
【0009】
ベース10は、半導体基板であり、特に、シリコン基板である。但し、ベース10としては、特に限定されず、例えば、Ge、GaP、GaAs、InP等のシリコン以外の半導体材料で構成された基板を用いてもよい。
【0010】
ベース10は、Z方向からの平面視で、矩形状の平板であり、表裏関係にある第1面10a及び第2面10bを有し、第1面10aに樹脂層42が配置され、樹脂層42を覆うように内部端子12となる第1導電層43が形成されている。つまり、樹脂層42は、ベース10と第1導電層43との間に配置されている。また、第1導電層43上に金属バンプ41を介して振動素子25が接合されている。
(【0011】以降は省略されています)
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