TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025012658
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-24
出願番号2023115666
出願日2023-07-14
発明の名称アンモニア合成システム
出願人株式会社豊田中央研究所,トヨタ自動車株式会社,国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人個人,個人
主分類C01C 1/04 20060101AFI20250117BHJP(無機化学)
要約【課題】アンモニアを効率的に合成することができる技術を提供する。
【解決手段】アンモニアを合成するアンモニア合成システムであって、水素と窒素とを含む反応ガスからアンモニアを合成する合成反応を促進する触媒を収容した反応器と、反応器に供給される反応ガス中の窒素に対する水素の割合であるH2/N2比を制御する制御部と、を備え、制御部は、触媒の劣化度合に応じてH2/N2比を制御する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
アンモニアを合成するアンモニア合成システムであって、
水素と窒素とを含む反応ガスからアンモニアを合成する合成反応を促進する触媒を収容した反応器と、
前記反応器に供給される前記反応ガス中の窒素に対する水素の割合であるH
2
/N
2
比を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記触媒の劣化度合に応じてH
2
/N
2
比を制御する、アンモニア合成システム。
続きを表示(約 890 文字)【請求項2】
請求項1に記載のアンモニア合成システムであって、
前記制御部は、前記反応器から送出される反応後ガス中のアンモニア濃度と前記触媒の温度とのうち少なくとも一方を前記触媒の劣化度合の指標として、H
2
/N
2
比を制御する、アンモニア合成システム。
【請求項3】
請求項1または請求項2に記載のアンモニア合成システムであって、
前記制御部は、
第1基準時点における前記アンモニア濃度が前記第1基準時点より前の比較時点における前記アンモニア濃度に所定割合を乗じた比較濃度以下である場合、もしくは、前記第1基準時点における前記触媒の温度が前記比較時点における前記触媒の温度に所定割合を乗じた比較温度以下である場合、H
2
/N
2
比を減少させる減少制御を実行し、
最後に前記減少制御を実行した後の第2基準時点における前記アンモニア濃度が前記第1基準時点における前記アンモニア濃度よりも高い場合、もしくは、前記第2基準時点における前記触媒の温度が前記第1基準時点における前記触媒の温度よりも高い場合、最後の前記減少制御を実行した後のH
2
/N
2
比を維持する維持制御を実行し、
前記第2基準時点における前記アンモニア濃度が前記第1基準時点における前記アンモニア濃度以下である場合、もしくは、前記第2基準時点における前記触媒の温度が前記第1基準時点における前記触媒の温度以下である場合、H
2
/N
2
比を最後の前記減少制御を実行する前のH
2
/N
2
比に戻す回帰制御を実行し、
前記維持制御もしくは前記回帰制御を実行した後の時点を新たな前記第1基準時点とみなして、再び前記第1基準時点における前記アンモニア濃度と前記比較濃度との比較および前記第1基準時点における前記触媒の温度と前記比較温度との比較を行う、アンモニア合成システム。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、アンモニア合成システムに関する。
続きを表示(約 2,900 文字)【背景技術】
【0002】
従来から、触媒を収容した反応器に対して、窒素(N
2
)と水素(H
2
)とを含む反応ガスを供給することによりアンモニアを合成するアンモニア合成システムが知られている。そのようなアンモニア合成システムとして、例えば、特許文献1には、パージガスや冷却器を用いて中間生成ガスを冷却するアンモニア合成システムが開示されている。また、特許文献2には、アンモニア合成に用いる循環ガス中のアンモニアガスの濃度を3体積%以上にして、アンモニア合成を実行するアンモニア合成システムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2018-203603号公報
特開2020-66573号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
触媒に供給される反応ガス中の窒素に対する水素の割合(H
2
/N
2
比)は、アンモニア合成速度を決定するパラメータの1つである。アンモニア合成速度を促進するために適切なH
2
/N
2
比は、例えば、触媒の劣化度合に応じて変動する。しかし、特許文献1,2におけるアンモニア合成システムでは、H
2
/N
2
比の制御について何ら考慮しておらず、改善の余地があった。
【0005】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、アンモニアを効率的に合成することができるアンモニア合成システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。
【0007】
(1)本発明の一形態によれば、アンモニア合成システムが提供される。このアンモニア合成システムは、水素と窒素とを含む反応ガスからアンモニアを合成する合成反応を促進する触媒を収容した反応器と、前記反応器に供給される前記反応ガス中の窒素に対する水素の割合であるH
2
/N
2
比を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記触媒の劣化度合に応じてH
2
/N
2
比を制御する。
【0008】
アンモニアの合成に適した反応ガス中のH
2
/N
2
比は、触媒が劣化するほど小さくなる傾向にある。この構成によれば、そのような触媒の劣化度合に応じて反応ガス中のH
2
/N
2
比を制御することができる。したがって、触媒の劣化度合を考慮せずに調整されたH
2
/N
2
比の反応ガスが反応器に供給される形態と比べて、アンモニアを効率的に合成することができる。すなわち、触媒の劣化とともに反応ガス中のH
2
/N
2
比を触媒の活性がより促進される好適な値に近付けることから、アンモニアの製造に必要な投入エネルギーを低減することができる。
【0009】
(2)上記形態のアンモニア合成システムにおいて、前記制御部は、前記反応器から送出される反応後ガス中のアンモニア濃度と前記触媒の温度とのうち少なくとも一方を前記触媒の劣化度合の指標として、H
2
/N
2
比を制御してもよい。
例えば、あるH
2
/N
2
比の反応ガスを劣化していない触媒に供給している際の反応後ガス中のアンモニア濃度と比べて、同じH
2
/N
2
比の反応ガスを触媒に供給している際の反応後ガス中のアンモニア濃度が低い場合、その触媒は劣化しているとみなすことができる。また、アンモニア合成反応は発熱反応であることから、あるH
2
/N
2
比の反応ガスを劣化していない触媒に供給している際の触媒の温度と比べて、同じH
2
/N
2
比の反応ガスを触媒に供給している際の触媒の温度が低い場合、その触媒は劣化しているとみなすことができる。したがって、この構成によれば、反応後ガス中のアンモニア濃度や触媒の温度を触媒劣化の指標として用いることから、精度良く触媒の劣化度合を把握しながらH
2
/N
2
比を制御することができる。その結果、触媒の劣化に応じたH
2
/N
2
比の反応ガスが反応器に供給できることから、一層効率的にアンモニアを合成することができる。
【0010】
(3)上記形態のアンモニア合成システムにおいて、前記制御部は、第1基準時点における前記アンモニア濃度が前記第1基準時点より前の比較時点における前記アンモニア濃度に所定割合を乗じた比較濃度以下である場合、もしくは、前記第1基準時点における前記触媒の温度が前記比較時点における前記触媒の温度に所定割合を乗じた比較温度以下である場合、H
2
/N
2
比を減少させる減少制御を実行し、最後に前記減少制御を実行した後の第2基準時点における前記アンモニア濃度が前記第1基準時点における前記アンモニア濃度よりも高い場合、もしくは、前記第2基準時点における前記触媒の温度が前記第1基準時点における前記触媒の温度よりも高い場合、最後の前記減少制御を実行した後のH
2
/N
2
比を維持する維持制御を実行し、前記第2基準時点における前記アンモニア濃度が前記第1基準時点における前記アンモニア濃度以下である場合、もしくは、前記第2基準時点における前記触媒の温度が前記第1基準時点における前記触媒の温度以下である場合、H
2
/N
2
比を最後の前記減少制御を実行する前のH
2
/N
2
比に戻す回帰制御を実行し、前記維持制御もしくは前記回帰制御を実行した後の時点を新たな前記第1基準時点とみなして、再び前記第1基準時点における前記アンモニア濃度と前記比較濃度との比較および前記第1基準時点における前記触媒の温度と前記比較温度との比較を行ってもよい。
この構成によれば、反応後ガス中のアンモニア濃度や触媒の温度に応じて、減少制御や回帰制御、維持制御を実行させることによって、反応ガス中のH
2
/N
2
比をアンモニアの合成に好適な値に近付けることができる。したがって一層効率的にアンモニアを合成することができる。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

東ソー株式会社
硫酸マンガン溶液の製造方法
1か月前
三菱重工業株式会社
水素製造装置
8日前
三菱重工業株式会社
水素製造装置
8日前
古河ケミカルズ株式会社
酸化銅の製造方法
9日前
三桜工業株式会社
水素発生装置及び水素発生方法
5日前
三菱ケミカル株式会社
ゼオライトの製造方法
5日前
三菱ケミカル株式会社
ゼオライトの製造方法
5日前
個人
オゾン発生用放電管
1日前
日本特殊陶業株式会社
多孔体
8日前
三菱ケミカル株式会社
球状ゼオライトの製造方法
8日前
株式会社トクヤマ
球状表面処理シリカエアロゲル及びその製造方法
17日前
株式会社神戸製鋼所
多孔質炭素の製造方法
5日前
東京都公立大学法人
二酸化炭素の放出方法
1か月前
住友電気工業株式会社
ゲルマニウムの回収方法
5日前
ティエムファクトリ株式会社
エアロゲルおよびその製造方法
16日前
デクセリアルズ株式会社
シリカエアロゲル分散物、シート、膜
1日前
国立大学法人電気通信大学
窒素化グラファン
10日前
明智セラミックス株式会社
活性炭の処理方法および蓄電デバイス
16日前
三菱重工業株式会社
ロックホッパの運転方法、および固体移動装置
1か月前
株式会社TBM
炭酸カルシウム粒子の製造方法
1日前
古河ケミカルズ株式会社
塩基性炭酸銅の製造方法および酸化銅の製造方法
9日前
株式会社アドマテックス
一酸化ケイ素の製造方法
16日前
国立研究開発法人産業技術総合研究所
半導体カーボンナノチューブを備える積層体
16日前
東急ジオックス株式会社
発熱塗料の製造方法
8日前
小池酸素工業株式会社
ヘリウムガス回収精製装置
10日前
日本ゼオン株式会社
カーボンナノチューブ分散液の製造方法
16日前
キヤノン株式会社
水素発生装置及び情報管理システム
9日前
株式会社TBM
チューブ状炭酸カルシウムの製造方法
1日前
株式会社MARUWA
窒化アルミニウム粉末及びその改質方法並びに高分子成形体
1日前
住友金属鉱山株式会社
ニッケル硫化物原料の処理方法、並びに硫黄回収方法
1日前
学校法人神奈川大学
酸水酸化物及びそれからなる蛍光発光体並びにそれらの製造方法
17日前
三菱重工業株式会社
水素製造装置、水素製造方法、および水素製造プログラム
8日前
学校法人 名城大学
単層カーボンナノチューブの製造方法
1か月前
三井化学株式会社
水素の製造方法、光触媒及び光触媒の製造方法
5日前
東ソー・シリカ株式会社
加工されたもみ殻灰およびその製造方法
8日前
株式会社アドマテックス
酸化物粒子の製造方法及び電子機器用樹脂組成物の製造方法
1か月前
続きを見る