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公開番号2025010779
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-23
出願番号2023112986
出願日2023-07-10
発明の名称排ガス処理装置、及び、排ガス処理方法
出願人日鉄エンジニアリング株式会社,日本製鉄株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B01D 53/50 20060101AFI20250116BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】装置の安定稼働を図る。
【解決手段】本開示の一側面に係る排ガス処理装置は、処理対象の排ガスに対して、活性炭を用いて脱硫処理を施すガス処理部と、前記ガス処理部に対して前記処理対象の排ガスを導入する導入配管と、前記ガス処理に用いられた後の活性炭を加熱して再生する脱離部と、前記脱離部での活性炭の加熱により発生し、硫黄酸化物を含む脱離排ガスを、前記導入配管に対して供給することが可能なバイパス配管と、前記バイパス配管の少なくとも一部を加熱するように、前記バイパス配管の内部に対して予熱用ガスを導入する予熱部と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
処理対象の排ガスに対して、活性炭を用いて脱硫処理を施すガス処理部と、
前記ガス処理部に対して前記処理対象の排ガスを導入する導入配管と、
前記ガス処理に用いられた後の活性炭を加熱して再生する脱離部と、
前記脱離部での活性炭の加熱により発生し、硫黄酸化物を含む脱離排ガスを、前記導入配管に対して供給することが可能なバイパス配管と、
前記バイパス配管の少なくとも一部を加熱するように、前記バイパス配管の内部に対して予熱用ガスを導入する予熱部と、を備える排ガス処理装置。
続きを表示（約 940 文字）【請求項２】
前記バイパス配管内の流路を開閉するバイパス弁を更に備え、
前記予熱部は、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも上流に位置する区画と、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも下流に位置する区画とのそれぞれに対して、前記予熱用ガスを導入する、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項３】
前記バイパス配管内の流路を開閉するバイパス弁を更に備え、
前記予熱部は、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも上流に位置する区画と、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも下流に位置する区画とのいずれか一方に対して、前記予熱用ガスを導入する、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項４】
前記脱離部において活性炭を加熱するための加熱ガスを生成する熱風炉を更に備え、
前記予熱部は、前記脱離部での加熱に用いられる前の前記加熱ガスを、前記予熱用ガスとして前記バイパス配管内に導入する、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項５】
前記脱離部において活性炭を加熱するための加熱ガスを生成する熱風炉を更に備え、
前記予熱部は、前記脱離部での加熱に用いられた後の前記加熱ガスを、前記予熱用ガスとして前記バイパス配管内に導入する、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項６】
前記予熱部は、前記熱風炉の運転を継続している期間において、前記予熱用ガスを前記バイパス配管内に導入することを継続する、請求項４又は５に記載の排ガス処理装置。
【請求項７】
処理対象の排ガスに対して、活性炭を用いて脱硫処理を施すガス処理工程と、
前記脱硫処理を行う領域に対して導入配管から前記処理対象の排ガスを導入する導入工程と、
前記ガス処理に用いられた後の活性炭を加熱して再生する脱離工程と、
前記脱離工程での活性炭の加熱により発生し、硫黄酸化物を含む脱離排ガスを前記導入配管に対して供給することが可能なバイパス配管の少なくとも一部を加熱するように、前記バイパス配管の内部に対して予熱用ガスを導入する予熱工程と、を含む排ガス処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、排ガス処理装置、及び、排ガス処理方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
排ガスに対して脱硫処理及び脱硝処理を行う技術が知られている（例えば、特許文献１～３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開昭５８－１５９８３２号公報
特開昭６１－２８７４２３号公報
特開平３－２５４８１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、装置の安定稼働を図ることが可能な排ガス処理装置、及び、排ガス処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
［１］本開示の一側面に係る排ガス処理装置は、処理対象の排ガスに対して、活性炭を用いて脱硫処理を施すガス処理部と、前記ガス処理部に対して前記処理対象の排ガスを導入する導入配管と、前記ガス処理に用いられた後の活性炭を加熱して再生する脱離部と、前記脱離部での活性炭の加熱により発生し、硫黄酸化物を含む脱離排ガスを、前記導入配管に対して供給することが可能なバイパス配管と、前記バイパス配管の少なくとも一部を加熱するように、前記バイパス配管の内部に対して予熱用ガスを導入する予熱部と、を備える。
【０００６】
［２］上記［１］に記載の排ガス処理装置は、前記バイパス配管内の流路を開閉するバイパス弁を更に備えてもよい。前記予熱部は、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも上流に位置する区画と、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも下流に位置する区画とのそれぞれに対して、前記予熱用ガスを導入してもよい。
【０００７】
［３］上記［１］に記載の排ガス処理装置は、前記バイパス配管内の流路を開閉するバイパス弁を更に備えてもよい。前記予熱部は、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも上流に位置する区画と、前記バイパス配管のうちの前記バイパス弁よりも下流に位置する区画とのいずれか一方に対して、前記予熱用ガスを導入してもよい。
【０００８】
［４］上記［１］～［３］のいずれか１つに記載の排ガス処理装置は、前記脱離部において活性炭を加熱するための加熱ガスを生成する熱風炉を更に備えてもよい。前記予熱部は、前記脱離部での加熱に用いられる前の前記加熱ガスを、前記予熱用ガスとして前記バイパス配管内に導入してもよい。
【０００９】
［５］上記［１］～［３］のいずれか１つに記載の排ガス処理装置は、前記脱離部において活性炭を加熱するための加熱ガスを生成する熱風炉を更に備えてもよい。前記予熱部は、前記脱離部での加熱に用いられた後の前記加熱ガスを、前記予熱用ガスとして前記バイパス配管内に導入してもよい。
【００１０】
［６］上記［４］又は［５］に記載の排ガス処理装置において、前記予熱部は、前記熱風炉の運転を継続している期間において、前記予熱用ガスを前記バイパス配管内に導入することを継続してもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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