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公開番号2025000339
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-07
出願番号2023100141
出願日2023-06-19
発明の名称超純水製造装置
出願人栗田工業株式会社
代理人個人,個人
主分類C02F 1/44 20230101AFI20241224BHJP(水,廃水,下水または汚泥の処理)
要約【課題】ポンプ制御用のシーケンス回路が故障してもサブシステムの運転が継続される超純水製造装置を提供する。
【解決手段】超純水製造装置は、サブタンク11と、サブタンク11からの水を処理して超純水とする水処理装置と、サブタンク11の水を前記水処理装置に送水するためのサブポンプ12と、前記水処理装置で処理された超純水をユースポイント22に送水する送水配管21と、ユースポイント22で使用されなかった未使用超純水をリターン水として前記サブタンクに送水するリターン配管23と、サブポンプ12への給電の有無を切り替えるサブポンプ用リレー31と、超純水製造装置の運転期間中、サブポンプ用リレー31に接点閉信号を与えるシーケンス回路と、サブポンプ用リレー31と並列に設けられた予備リレー32と、を備える。予備リレー32は、前記水処理装置が通水状態の間は、接点閉状態になっている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
一次純水装置からの一次純水およびユースポイントで使用されなかった水を貯留するサブタンクと、
前記サブタンクからの水を処理して超純水とする水処理装置と、
前記サブタンクの水を前記水処理装置に送水するためのサブポンプと、
前記水処理装置で処理された超純水をユースポイントに送水する送水配管と、
ユースポイントで使用されなかった未使用超純水をリターン水として前記サブタンクに送水するリターン配管と、
前記サブポンプへの給電の有無を切り替えるサブポンプ用リレーと、
超純水製造装置の運転期間中、前記サブポンプ用リレーに接点閉信号を与えるシーケンス回路と、
前記サブポンプ用リレーと並列に設けられた予備リレーと、
を備え、
前記予備リレーは、前記水処理装置が通水状態の間は接点閉状態になっていることを特徴とする超純水製造装置。
続きを表示（約 530 文字）【請求項２】
前記水処理装置は、該水処理装置内を流れる水を昇圧させるためのブースターポンプを有し、
前記超純水製造装置は、前記ブースターポンプへの給電の有無を切り替えるブースターポンプ用リレー、及び該ブースターポンプ用リレーと並列に設けられたブースターポンプ用予備リレーを備え、
前記シーケンス回路は、前記超純水製造装置の運転期間中、前記ブースターポンプ用リレーに接点閉信号を与え、
前記ブースターポンプ用予備リレーは、前記水処理装置が通水状態の間は接点閉状態になっていることを特徴とする請求項１に記載の超純水製造装置。
【請求項３】
前記水処理装置は、真空ポンプが接続された脱気膜装置を有し、
前記超純水製造装置は、前記真空ポンプへの給電の有無を切り替える真空ポンプ用リレー、及び該真空ポンプ用リレーと並列に設けられた真空ポンプ用予備リレーを備え、
前記シーケンス回路は、前記超純水製造装置の運転期間中、前記真空ポンプ用リレーに接点閉信号を与え、
前記真空ポンプ用予備リレーは、前記水処理装置が通水状態の間は接点閉状態になっていることを特徴とする請求項１又は２に記載の超純水製造装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、超純水製造装置に関し、特に、超純水製造装置のポンプ等のスイッチ回路の改良に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセス等で用いられている超純水は、図２に示すように、前処理システム１、一次純水システム３及びサブシステム１０等から構成される超純水製造装置で原水（工業用水、市水、井水等）を処理することにより製造されている。
【０００３】
凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過装置等よりなる前処理システム１では、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。前処理システムの処理水は、一次純水原水タンク２を経て一次純水システム３に供給される。
【０００４】
一次純水システム３は、逆浸透（ＲＯ）膜分離装置、脱気装置及びイオン交換装置（混床式、２床３塔式又は４床５塔式）を備えており、原水中のイオンや有機成分の除去を行う。
【０００５】
一次純水システム３からの一次純水は、配管４を介してサブタンク１１に送水される。配管４の途中にバルブ４ａが設けられている。バルブ４ａよりも上流側において配管４から配管５が分岐しており、配管５にバルブ５ａが設けられている。バルブ制御器（図示略）によってバルブ４ａ，５ａの開度を調節することにより、サブタンク１１に供給される一次純水量が調節される。
【０００６】
サブタンク１１内の一次純水をサブポンプ１２で冷却用熱交換器１３、脱気膜装置１４、低圧紫外線（ＵＶ）酸化装置１６等の水処理装置に順次に通す。脱気膜装置１４のガス分離膜よりも２次側（気体室）内は真空ポンプ１５によって減圧される。
【０００７】
低圧紫外線酸化装置１６から流出した水を、ブースターポンプ１７でさらに昇圧させ、脱イオン装置１８及びＵＦ装置１９に順次に通水し、得られた超純水を配管２１によってユースポイント２２に送る。なお、ブースターポンプ１７は、脱イオン装置１８とＵＦ装置１９との間に配置されることもある。
【０００８】
低圧紫外線酸化装置１６では、通常、超純水製造装置に用いられる１８５ｎｍ付近の波長を有するＵＶを照射し、一次純水中のＴＯＣを有機酸に分解する。この有機酸は、その他のイオンと共に、脱イオン装置１８で除去される。なお、脱イオン装置１８としては、電気脱イオン装置又は混床式イオン交換装置が用いられる。
【０００９】
ＵＦ（限外濾過膜）装置１９は、水中の微粒子を除去するためのものである。なお、ＵＦ膜を透過しなかった水（濃縮水）は、配管２０によって一次純水原水タンク２に返送される。
【００１０】
ＵＦ装置１０からユースポイント１２へ送水する配管１１には流量計１１ａが設けられており、この流量計１１ａの検出流量が所定値となるようにサブポンプ１２及びブースターポンプ１７がインバータ制御方式のポンプ制御器（図示略）によって制御される。
（【００１１】以降は省略されています）

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