TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024141978
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-10
出願番号2023053894
出願日2023-03-29
発明の名称めっき物の製造方法及びめっき物
出願人アキレス株式会社
代理人弁理士法人はなぶさ特許商標事務所
主分類C23C 18/20 20060101AFI20241003BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】本発明は、めっき析出性を担保するために、具体的な熱処理温度を設け、めっき析出性及び密着性を両立できるめっき物の製造方法及び該方法により製造されるめっき物を提供することを目的とする。
【解決手段】めっき物は基板上にめっき下地塗料を塗布してめっき下地層を形成する工程1、めっき下地層を熱処理温度TAにより熱処理する工程2、無電解めっき又は無電解めっきと電解めっきにより金属めっき膜を形成する工程3、及び金属めっき膜を熱処理温度TBにより熱処理し、めっき物が得られる工程4を含むめっき物の製造方法により製造される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
基板上にめっき下地塗料を塗布してめっき下地層を形成する工程1、
めっき下地層を熱処理温度T

により熱処理する工程2、
無電解めっき又は無電解めっきと電解めっきにより金属めっき膜を基板上に形成する工程3、及び
金属めっき膜を熱処理温度T

により熱処理し、金属めっき膜を有するめっき物が得られる工程4を含むめっき物の製造方法であって、
前記めっき下地塗料は、エポキシ樹脂、導電性高分子、無機系フィラー及び溶媒を含み、前記導電性高分子と前記エポキシ樹脂は質量比で1:8~1:46の割合であり、
前記熱処理温度T

は、溶剤が揮発する温度とめっき下地層の触媒吸着性が低下する温度との間にあり、
前記熱処理温度T

は、エポキシ樹脂が硬化する温度と銅害が発生する温度との間にあることを特徴とするめっき物の製造方法。
続きを表示(約 310 文字)【請求項2】
前記めっき下地塗料において、エポキシ樹脂1質量部に対して、前記無機系フィラーが0.3~1.0質量部が含まれる、請求項1に記載のめっき物の製造方法。
【請求項3】
前記導電性高分子と前記エポキシ樹脂は質量比で1:9~1:14の割合である、請求項1に記載のめっき物の製造方法。
【請求項4】
前記熱処理温度T

は、80℃~140℃であり、前記熱処理温度T

は120℃~150℃である、請求項1に記載のめっき物の製造方法。
【請求項5】
請求項1乃至請求項4に記載されるめっき物の製造方法により製造されるめっき物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、高温環境下に曝されても基材と金属めっき層との密着性に優れ、且つ、めっき析出性にも優れるめっき物の製造方法及び該方法により製造されるめっき物に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)【背景技術】
【0002】
様々な基材へめっき処理して得られるめっき物が、実用される際にめっき層が効果を実現するために使用環境や目的に耐えられ、基材から剥離しない必要がある。めっき密着性がめっき処理方法を検討する際に最も重要な検討事項である。
【0003】
熱負荷後においても高い密着性を有する、ポリイミド樹脂フィルムの表面に銅箔を積層しためっき物(フレキシブルプリント基板)が報告されている。特開2004-79660号公報(特許文献1)は、ポリイミド樹脂フィルムの表面にニッケル又はニッケル合金を無電解めっきし、該めっき層の表面に銅を電気めっきすることにより、熱負荷後においても高い密着性を有するめっき物(フレキシブルプリント基板)を開示する。
上記めっき物は、ニッケル等の無電解めっき層の接着力、延いてはその無電解めっき層の表面に形成される銅めっき層の接着力を物理的に(粗化によるアンカー効果)及び化学的に(官能基への結合)高めるために、基材となるポリイミド樹脂フィルムを、初めにプラズマ処理し、続いてアルカリ金属水酸化物で活性化する必要があった。
【0004】
また、特開昭59-129489号公報(特許文献2)のプリント配線用基板めっき方法には、ポリイミド樹脂を不完全に硬化させる手順及び完全に硬化させる手順を分けることにより、無電化めっきのめっき密着強度を向上させる方法が記載された。
【0005】
ところで、国際公開WO2015/019596(特許文献3)の無電解めっき下地膜形成用組成物には、導電性高分子とエポキシ樹脂を含んだ下地塗料を基材に塗工して、めっき下地塗料を形成し、その後に無電解めっきをすることで、金属めっき膜を形成する技術が知られている。
しかし、“めっき物”を作る際に、めっき下地塗料を硬化させる為に高熱で処理をする場合があり、処理後の“めっき下地塗料(層)”には、金属皮膜の析出する性能、即ちめっき析出性が低下する問題が生じている。
また、“めっき下地塗料(層)”のめっき析出性が低下すると、高精度な微細パターンをめっき処理する際にめっきが綺麗に析出せず、抵抗値上昇や断線といった不具合が発生する。
【0006】
一方で、めっき析出性を担保する為に低温で熱処理を行うと、必要とされる密着性を得ることができなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開2004-79660号公報
特開昭59-129489号公報
国際公開WO2015/019596号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、めっき析出性を担保するために、具体的な熱処理温度を設け、めっき析出性及び密着性を両立できる無電解めっき下地層の硬化プロセス及び該プロセスにより製造さ
れるめっき物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、上記課題を解決するものである。すなわち本発明は以下を包含する。
本発明の第1形態は、基板上にめっき下地塗料を塗布してめっき下地層を形成する工程1、めっき下地層を熱処理温度T

により熱処理する工程2、無電解めっき又は無電解めっきと電解めっきにより金属めっき膜を基板上に形成する工程3、及び金属めっき膜を熱処理温度T

により熱処理し、金属めっき膜を有するめっき物が得られる工程4を含むめっき物の製造方法であって、前記めっき下地塗料は、エポキシ樹脂、導電性高分子、無機系フィラー及び溶媒を含み、前記導電性高分子と前記エポキシ樹脂は質量比で1:8~1:46の割合であり、前記熱処理温度T

は、溶剤が揮発する温度とめっき下地層の触媒吸着性が低下する温度との間にあり、前記熱処理温度T

は、エポキシ樹脂が硬化する温度と銅害が発生する温度との間にあることを特徴とするめっき物の製造方法に関する。
本発明の第2形態は、前記めっき下地塗料において、エポキシ樹脂1質量部に対して、前記無機系フィラーが0.3~1.0質量部が含まれる、第1形態に記載のめっき物の製造方法に関する。
本発明の第3形態は、前記導電性高分子と前記エポキシ樹脂は質量比で1:9~1:14の割合である、第1形態に記載のめっき物の製造方法に関する。
本発明の第4形態は、前記熱処理温度T

は、80℃~140℃であり、前記熱処理温度T

は120℃~150℃である、第1形態に記載のめっき物の製造方法に関する。
本発明の第5形態は第1形態乃至第4形態に記載されるめっき物の製造方法により製造されるめっき物に関する。
【発明の効果】
【0010】
本発明より、高温環境下に曝されても基材と金属めっき層との高い密着性を奏すると共に、めっき析出性にも優れるめっき物の製造方法及び該方法より製造されるめっき物が提供される。
具体的には、めっき析出性として、例えば配線の幅が100μm以上連続したパターンが密集している密部も確実にめっきできる性能が達成され、また、ピール強度0.35N/mm以上の密着性が達成される。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

個人
マイクロ波プラズマCVD装置
2か月前
芝浦メカトロニクス株式会社
成膜装置
7日前
株式会社昭和真空
成膜装置
1か月前
大阪瓦斯株式会社
成膜装置
4日前
株式会社JCU
無電解めっき方法
13日前
東京エレクトロン株式会社
成膜方法
2か月前
株式会社アルバック
真空蒸着方法
24日前
株式会社カネカ
気化装置及び蒸着装置
1か月前
東京エレクトロン株式会社
基板処理方法
24日前
株式会社鈴木商店
皮膜および皮膜形成方法
4日前
伯東株式会社
冷却水系に設けられた金属の腐食抑制方法
2か月前
マクセル株式会社
部分めっき部品の製造方法
1か月前
上村工業株式会社
めっき析出状況の測定装置
1か月前
日本製鉄株式会社
表面処理鋼板
10日前
北京科技大学
溶融塩電解による高珪素鋼の製造方法
1か月前
ノリタケ株式会社
添加剤および金属の製造方法
1か月前
マシン・テクノロジー株式会社
蒸着フィルム製造装置
14日前
学校法人関東学院
無電解ニッケルめっき浴の再生方法
24日前
サンデン株式会社
摺動部材
13日前
東京エレクトロン株式会社
成膜方法及び成膜装置
2か月前
大陽日酸株式会社
半導体材料ガス生成装置
14日前
東京エレクトロン株式会社
成膜方法及び成膜装置
2か月前
東京エレクトロン株式会社
成膜方法及び成膜装置
2か月前
松田産業株式会社
貴金属蒸着材料
17日前
キザイ株式会社
プラスチック用のエッチング溶液
2か月前
大陽日酸株式会社
供給方法および供給装置
1か月前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
4日前
株式会社アルバック
真空蒸着装置用の蒸着源
1か月前
株式会社アルバック
真空蒸着装置用の蒸着源
1か月前
株式会社アルバック
真空蒸着装置用の蒸着源
1か月前
信越化学工業株式会社
炭化金属被覆炭素材料
3日前
株式会社カネカ
基板トレイ及び膜付き基板製造方法
24日前
大同特殊鋼株式会社
ターゲットおよび黒化膜
1か月前
JFEスチール株式会社
耐遅れ破壊性に優れた高強度鋼板
3日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置
3日前
大阪瓦斯株式会社
原料粉、成膜方法及び成膜体
4日前
続きを見る