TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2024132124
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-09-30
出願番号
2023042798
出願日
2023-03-17
発明の名称
めっき装置
出願人
株式会社荏原製作所
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
C25D
21/12 20060101AFI20240920BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約
【課題】めっき装置において、めっき膜厚の平坦性を精度良く確認することが可能な電位センサを提供する。
【解決手段】めっき装置は、めっき液を収容するためのめっき槽と、基板を保持するための基板ホルダと、基板ホルダに保持された基板と対向するようにめっき槽内に配置されたアノードと、基板ホルダに保持された基板とアノードとの間に配置され、アノード側と基板側を貫通する複数の孔を有する抵抗体と、基板ホルダに保持された基板と抵抗体との間に配置され、めっき液の電位を測定するように構成された電位センサアセンブリと、を備え、前記電位センサアセンブリは、ベースプレートと、前記ベースプレート上に配列された複数の電位センサと、前記複数の電位センサからの信号を取り出すための、前記ベースプレート上に形成された電気配線と、前記ベースプレートおよび前記電気配線を保護する保護膜と、を備える。
【選択図】図4
特許請求の範囲
【請求項1】
めっき液を収容するためのめっき槽と、
基板を保持するための基板ホルダと、
前記基板ホルダに保持された前記基板と対向するように前記めっき槽内に配置されたアノードと、
前記基板ホルダに保持された前記基板と前記アノードとの間に配置され、前記アノード側と前記基板側を貫通する複数の孔を有する抵抗体と、
前記基板ホルダに保持された前記基板と前記抵抗体との間に配置され、前記めっき液の電位を測定するように構成された電位センサアセンブリと、
を備え、前記電位センサアセンブリは、
ベースプレートと、
前記ベースプレート上に配列された複数の電位センサと、
前記複数の電位センサからの信号を取り出すための、前記ベースプレート上に形成された電気配線と、
前記ベースプレートおよび前記電気配線を保護する保護膜と、を備える、
めっき装置。
続きを表示(約 630 文字)
【請求項2】
前記ベースプレートは、プリント基板から構成される、請求項1に記載のめっき装置。
【請求項3】
前記ベースプレートは、細長い板状に構成され、
前記複数の電位センサは、前記ベースプレートの長手方向に沿って配列される、
請求項1に記載のめっき装置。
【請求項4】
前記めっき装置は、前記基板ホルダを回転させる回転機構をさらに備え、
前記電位センサアセンブリは、前記ベースプレートの長手方向が前記回転の径方向に沿うように、前記基板と前記抵抗体との間に配置される、
請求項3に記載のめっき装置。
【請求項5】
前記ベースプレートは、前記抵抗体の前記複数の孔と整列するように形成された複数の孔を備える、請求項1から4のいずれか1項に記載のめっき装置。
【請求項6】
前記ベースプレートの前記複数の孔の各々は、前記抵抗体の前記複数の孔のいずれかと重なる位置に配置されている、請求項5に記載のめっき装置。
【請求項7】
前記ベースプレートの前記複数の孔は、前記ベースプレートの外形と重なる部分に存在する前記抵抗体のすべての前記孔と相対するように設けられている、請求項6に記載のめっき装置。
【請求項8】
前記ベースプレートの前記孔の径は、前記抵抗体の前記孔の径よりも大きいまたはそれと等しい、請求項5に記載のめっき装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、めっき装置に関し、より特定的には、めっき装置においてめっき膜厚を測定するための電位センサの改良に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
めっき装置は、基板を保持する基板ホルダと、めっき液が収容されるめっき槽と、基板ホルダに保持された基板と対向するようにめっき槽内に配置されたアノードとを備える。めっき装置において、基板上に形成されるめっきの膜厚平坦性を向上させることは重要な課題である。従来、めっき膜厚を測定するための電位センサを備えためっき装置が知られている(例えば特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特許第7074937号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
めっき膜厚の平坦性を精度良く確認することが可能な電位センサの提供が望まれる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
[形態1]形態1によれば、めっき液を収容するためのめっき槽と、基板を保持するための基板ホルダと、前記基板ホルダに保持された前記基板と対向するように前記めっき槽内に配置されたアノードと、前記基板ホルダに保持された前記基板と前記アノードとの間に配置され、前記アノード側と前記基板側を貫通する複数の孔を有する抵抗体と、前記基板ホルダに保持された前記基板と前記抵抗体との間に配置され、前記めっき液の電位を測定するように構成された電位センサアセンブリと、を備え、前記電位センサアセンブリは、ベースプレートと、前記ベースプレート上に配列された複数の電位センサと、前記複数の電位センサからの信号を取り出すための、前記ベースプレート上に形成された電気配線と、前記ベースプレートおよび前記電気配線を保護する保護膜と、を備える、めっき装置が提供される。
【0006】
[形態2]形態2によれば、形態1のめっき装置において、前記ベースプレートは、プリント基板から構成される。
【0007】
[形態3]形態3によれば、形態1のめっき装置において、前記ベースプレートは、細長い板状に構成され、前記複数の電位センサは、前記ベースプレートの長手方向に沿って配列される。
【0008】
[形態4]形態4によれば、形態3のめっき装置において、前記めっき装置は、前記基板ホルダを回転させる回転機構をさらに備え、前記電位センサアセンブリは、前記ベースプレートの長手方向が前記回転の径方向に沿うように、前記基板と前記抵抗体との間に配置される。
【0009】
[形態5]形態5によれば、形態1から4のいずれか1のめっき装置において、前記ベースプレートは、前記抵抗体の前記複数の孔と整列するように形成された複数の孔を備える。
【0010】
[形態6]形態6によれば、形態5のめっき装置において、前記ベースプレートの前記複数の孔の各々は、前記抵抗体の前記複数の孔のいずれかと重なる位置に配置されている。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
株式会社荏原製作所
電動機の駆動装置
17日前
株式会社荏原製作所
熱媒体液蒸気放出防止装置
10日前
株式会社荏原製作所
立軸ポンプのための耐水型外軸受装置
17日前
株式会社荏原製作所
基板のベベル部を含む外周部に保護膜を成膜する方法
7日前
株式会社カネカ
電解システム
25日前
セーレン株式会社
導電フィルム及びその製造方法
2か月前
トヨタ自動車株式会社
水電解スタック
1か月前
独立行政法人 国立印刷局
凸版原版及び凸版版面の作製方法
10日前
古河電気工業株式会社
複合材および電気電子部品
1か月前
トヨタ自動車株式会社
成膜装置
3日前
株式会社トクヤマ
電解槽ユニット
1か月前
日本碍子株式会社
電解セル
1か月前
日本碍子株式会社
電解セル
1か月前
株式会社ノーリツ
水電解装置及び水電解装置の組み立て構造
2か月前
日産化学株式会社
ガス拡散電極
1か月前
川崎重工業株式会社
メタン製造システム
1か月前
株式会社KRI
アセチレン含有ガス製造用カソード電極および製造装置
1か月前
個人
気体製造装置および気体製造方法
17日前
富士電機株式会社
水質アルカリ化装置
1か月前
地方独立行政法人山口県産業技術センター
水電解用電極とその製造方法
1か月前
株式会社日立製作所
電気化学反応システム
1か月前
有限会社サンコーテクニカ
筒型並列電極及びこれを用いた電解メッキ装置
1か月前
大陽日酸株式会社
水素ガス製造システム及び水素ガス製造方法
11日前
東芝エネルギーシステムズ株式会社
電解システム
1か月前
株式会社日立製作所
二酸化炭素資源化システム
1か月前
三菱重工業株式会社
メッキ装置
1か月前
ユケン工業株式会社
酸性亜鉛めっき浴および亜鉛めっき部材の製造方法
3日前
NOK株式会社
密封構造、積層体、水電解装置
3日前
株式会社アサカ理研
リチウム膜電解後の淡塩水の処理方法
1か月前
株式会社日立製作所
水電解システム並びに水電解システム制御装置
3日前
個人
水素・酸素発生装置、及び水素・酸素燃焼の熱を利用した暖房装置
3日前
EEJA株式会社
ノンシアン系金電解剥離液及び金の電解剥離法
7日前
日本特殊陶業株式会社
被覆基材、及び被覆基材の製造方法
1か月前
日本特殊陶業株式会社
被覆基材、及び被覆基材の製造方法
1か月前
日本特殊陶業株式会社
被覆基材、及び被覆基材の製造方法
1か月前
国立研究開発法人物質・材料研究機構
酸素発生用電極触媒の探索方法および酸素発生用電極触媒
1か月前
続きを見る
他の特許を見る