TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025085558
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-05
出願番号2023200644
出願日2023-11-28
発明の名称金属部材
出願人ナミックス株式会社
代理人弁理士法人G-chemical
主分類C25D 5/16 20060101AFI20250529BHJP(電気分解または電気泳動方法;そのための装置)
要約【課題】
樹脂基材に対する高い密着性と、微細配線加工性とを兼ね備える金属部材を提供する。
【解決手段】
二乗平均平方根高さSqが0.01μm以上0.095μm以下であり、算術平均高さSaが0.01μm以上0.06μm以下である表面を有する、金属部材。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
二乗平均平方根高さSqが0.01μm以上0.095μm以下であり、算術平均高さSaが0.01μm以上0.06μm以下である表面を有する、金属部材。
続きを表示(約 410 文字)【請求項2】
前記二乗平均平方根高さSq[μm]と前記算術平均高さSa[μm]の積が1.0×10
-4
以上5.5×10
-3
以下である、請求項1に記載の金属部材。
【請求項3】
前記表面における、下記式で算出される表面積比が4.5以上である、請求項1又は2に記載の金属部材。
表面積比=(BET測定表面積(dm
2
)-金属部材の平面視面積(dm
2
))/金属部材の平面視面積(dm
2

【請求項4】
前記表面の最小自己相関長さSalが1.0μm以上4.0μm以下である、請求項1又は2に記載の金属部材。
【請求項5】
金属材料と、前記金属材料の表面に形成された表面処理層とを含み、
前記表面処理層がNi及びZnを含む層を有する、請求項1又は2に記載の金属部材。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は金属部材に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
プリント配線板に使用される銅箔等の金属部材は、品質及び信頼性の観点から、支持体としての樹脂基材との密着性が求められる。この密着性を向上させる手段として、金属部材の表面を粗面化処理する方法が知られている。すなわち、樹脂基材に対する高密着性の観点からは、金属部材の表面は粗面であることが要求される。その一方で、金属部材の表面を粗化すると、エッチング処理を行う場合に根残り(粗化形状の先端が溶け残る状態)が発生し、過剰なエッチングが要求されることで、微細な配線形状を形成し難くなる。したがって、エッチングにより微細な配線加工を可能とする性能(以下、「微細配線加工性」と称する)の観点からは、金属部材の表面は平坦であることが要求される。
【0003】
これらの相反する要求を充足するため、銅箔に対して酸化及び還元を行うことによって表面を処理する方法が開示されている(特許文献1)。さらに、酸化及び還元を用いた銅箔処理における密着性の改善方法として、酸化工程において表面活性分子を添加する方法(特許文献2)や、還元工程後にアミノチアゾール系化合物等を用いて銅箔の表面に保護皮膜を形成する方法(特許文献3)が開発されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
国際公開第2014/126193号
特表2013-534054号公報
特開平8-97559号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、特許文献1~3の金属部材は、樹脂基材に対する高い密着性と、高い微細配線加工性とをバランス良く備えるという観点からは充分であるとは言えなかった。
【0006】
したがって、本発明の目的は、樹脂基材に対する高い密着性と、高い微細配線加工性とを兼ね備える金属部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、特定の構成を有する金属部材が上記課題を解決できることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。
【0008】
すなわち、本発明では、二乗平均平方根高さSqが0.01μm以上0.095μm以下であり、算術平均高さSaが0.01μm以上0.06μm以下である表面を有する、金属部材を提供する。
【0009】
上記二乗平均平方根高さSq[μm]と上記算術平均高さSa[μm]の積は、1.0×10
-4
以上5.5×10
-3
以下であることが好ましい。
【0010】
上記表面における、下記式で算出される表面積比は、4.5以上であることが好ましい。
表面積比=(BET測定表面積(dm
2
)-金属部材の平面視面積(dm
2
))/金属部材の平面視面積(dm
2

(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

株式会社JCU
ニッケル系合金めっき液
18日前
株式会社JCU
ニッケル系合金めっき液
18日前
旭化成株式会社
電解セル構造体
18日前
三井化学株式会社
抗菌部材及び抗菌製品
4日前
トヨタ自動車株式会社
電解質膜の煮沸方法
5日前
トヨタ自動車株式会社
電解質膜の検査方法
5日前
トヨタ自動車株式会社
電解質膜の保管方法
6日前
トヨタ自動車株式会社
電極触媒
19日前
東邦チタニウム株式会社
金属マグネシウムの製造方法
19日前
株式会社日立製作所
めっき装置及びめっき形成方法
11日前
株式会社日立製作所
補修指示装置および補修指示方法
4日前
トヨタ自動車九州株式会社
水電解装置及び水電解装置の運転制御方法
18日前
上村工業株式会社
錫または錫合金めっき皮膜へのパーティクルの付着防止方法
18日前
三菱重工業株式会社
除湿装置の運転方法、除湿装置用の制御装置、除湿装置及び水素製造設備
3日前
株式会社日立製作所
対極電極、対極電極の作製方法、めっき装置およびめっき方法
12日前
エスケー ネクシリス カンパニー リミテッド
銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法
18日前
エスケー ネクシリス カンパニー リミテッド
銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法
18日前
エスケー ネクシリス カンパニー リミテッド
銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法
18日前
エスケー ネクシリス カンパニー リミテッド
銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法
18日前
エスケー ネクシリス カンパニー リミテッド
銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法
18日前
エスケー ネクシリス カンパニー リミテッド
銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法
18日前
高砂熱学工業株式会社
水素製造セル及び水素製造セルを用いた水素製造方法
18日前
エス・エム・エス・グループ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
電解装置を用いて水素及び酸素を生成する方法
20日前
シンセラ, インコーポレイテッド
ピリジノンMK2阻害剤及びその使用
11日前
味の素株式会社
改変フェニルアラニン脱水素酵素
13日前
アセンシア ディアベテス ケア ホールディングス エージー
連続的な分析物感知中の情報集約、誤差検出、および分析物濃度決定のための方法および装置
5日前
インフィニューム インターナショナル リミテッド
架橋ポリアクリレート及びその製作方法
17日前