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公開番号2024050224
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-10
出願番号2022156947
出願日2022-09-29
発明の名称研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法
出願人株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人個人,個人,個人
主分類G11B 5/84 20060101AFI20240403BHJP(情報記憶)
要約【課題】Ni-P基板の研磨に用いられて、実用的な加工性を維持しながら、スクラッチを低減し得る研磨用組成物を提供する。
【解決手段】Ni-P基板の研磨に用いられる研磨用組成物が提供される。この研磨用組成物は、コロイダルシリカと、酸と、欠陥低減剤と、水とを含む。上記欠陥低減剤としては、アミノ基を有する複素環芳香族化合物が用いられる。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
ニッケルリンめっき層を有する磁気ディスク基板の研磨に用いられる研磨用組成物であって、
コロイダルシリカと、酸と、欠陥低減剤と、水とを含み、
前記欠陥低減剤は、アミノ基を有する複素環芳香族化合物である、研磨用組成物。
続きを表示（約 340 文字）【請求項２】
前記欠陥低減剤は、ピリジン骨格またはピラジン骨格を有する、請求項１に記載の研磨用組成物。
【請求項３】
さらに酸化剤を含む、請求項１または２に記載の研磨用組成物。
【請求項４】
ｐＨが１～４の範囲内である、請求項１または２に記載の研磨用組成物。
【請求項５】
前記コロイダルシリカの平均一次粒子径は１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の研磨用組成物。
【請求項６】
仕上げ研磨工程で用いられる、請求項１または２に記載の研磨用組成物。
【請求項７】
請求項１または２に記載の研磨用組成物を用いて研磨対象基板を研磨する工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨用組成物および該研磨用組成物を用いた磁気ディスク基板製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、高精度な表面が要求される基板の製造プロセスには、研磨液を用いて該基板の原材料である研磨対象物を研磨する工程が含まれる。例えば、ニッケルリンめっきが施された磁気ディスク基板（以下、Ｎｉ－Ｐ基板ともいう。）の製造においては、一般に、より研磨効率を重視した研磨（一次研磨）と、最終製品の表面精度に仕上げるために行う最終研磨（仕上げ研磨）とが行われている。磁気ディスク基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物に関する技術文献として特許文献１～２が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１１－１３４３８８号公報
特開２０１１－１３１３４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年の磁気ディスクドライブの高記録密度化等の要求により、磁気ディスク基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物には、当該研磨用組成物を用いて磁気ディスク基板を研磨したときに磁気ディスク基板の表面に発生する欠陥（例えばスクラッチ）を低減させる性能が要求されている。実用的な加工性を有しつつ、欠陥低減性能に優れた研磨用組成物が提供されれば、磁気ディスクドライブの高記録密度化に通じる高品位表面を有する磁気ディスク基板を生産性よく製造することができ、有用である。
【０００５】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、Ｎｉ－Ｐ基板の研磨に用いられて、実用的な加工性を維持しながら、スクラッチを低減し得る研磨用組成物を提供することを目的とする。関連する他の目的は、そのような研磨用組成物を用いてＮｉ－Ｐ基板を製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本明細書によると、ニッケルリンめっき層を有する磁気ディスク基板（Ｎｉ－Ｐ基板）の研磨に用いられる研磨用組成物が提供される。この研磨用組成物は、コロイダルシリカと、酸と、欠陥低減剤と、水とを含む。上記欠陥低減剤としては、アミノ基を有する複素環芳香族化合物が用いられる。かかる組成の研磨用組成物によると、Ｎｉ－Ｐ基板の研磨に用いられて、実用的な加工性を維持しながら、スクラッチを低減することができる。
【０００７】
いくつかの好ましい態様において、上記欠陥低減剤は、ピリジン骨格またはピラジン骨格を有する。ピリジン骨格またはピラジン骨格を有する欠陥低減剤を用いることにより、ここに開示される技術による効果（実用的な加工性の維持とスクラッチ低減との両立）は好ましく発揮される。
【０００８】
いくつかの態様において、上記研磨用組成物は、さらに酸化剤を含む。酸化剤を含むことにより、良好な加工性が得られやすい。
【０００９】
いくつかの態様において、上記研磨用組成物のｐＨは１～４の範囲内である。かかるｐＨを有する研磨用組成物によると、ここに開示される技術による効果が好ましく発揮される。
【００１０】
上記コロイダルシリカとしては、平均一次粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のものを好ましく採用し得る。上記範囲の平均一次粒子径を有するコロイダルシリカを含む構成によると、研磨後にスクラッチの低減された高品位表面を実現しやすい。かかる構成の研磨用組成物は、研磨後に高い表面品位が要求される研磨工程（例えば、仕上げ研磨工程）に好ましく使用され得る。
（【００１１】以降は省略されています）

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