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公開番号2024043943
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-02
出願番号2022149194
出願日2022-09-20
発明の名称記憶装置
出願人キオクシア株式会社
代理人弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
主分類G11C 16/14 20060101AFI20240326BHJP(情報記憶)
要約【課題】 高いデータリテンション特性を有する記憶装置を提供する。
【解決手段】第1選択トランジスタは、第1配線と接続されている。第1メモリセルトランジスタ及び第2メモリセルトランジスタは、第1選択トランジスタと第2選択トランジスタとの間で直列に接続されている。第1ワード線は、第1メモリセルトランジスタと接続されている。第2ワード線は、第2メモリセルトランジスタと接続されている。第1配線に第1電圧が印加されている第1期間中に第1ワード線及び第2ワード線に並行して第1電圧より低い第2電圧が印加される。第1配線に第1電圧より高い第3電圧が印加されている第2期間中に、第1ワード線に第2電圧が印加され、第2ワード線に第2電圧より高く第3電圧より低い第4電圧が印加される。第1配線に第3電圧が印加されている第3期間中に、第1ワード線に第4電圧が印加され、第2ワード線に第2電圧が印加される。
【選択図】 図11
特許請求の範囲【請求項1】
第1配線と、
前記第1配線と接続された第1選択トランジスタと、
第2選択トランジスタと、
前記第1選択トランジスタと前記第2選択トランジスタとの間で直列に接続された第1メモリセルトランジスタ及び第2メモリセルトランジスタと、
前記第1メモリセルトランジスタと接続された第1ワード線と、
前記第2メモリセルトランジスタと接続された第2ワード線と、
を備え、
前記第1配線に第1電圧が印加されている第1期間中に前記第1ワード線及び前記第2ワード線に並行して前記第1電圧より低い第2電圧が印加され、
前記第1配線に前記第1電圧より高い第3電圧が印加されている第2期間中に、前記第1ワード線に前記第2電圧が印加され、前記第2ワード線に前記第2電圧より高く前記第3電圧より低い第4電圧が印加され、
前記第1配線に前記第3電圧が印加されている第3期間中に、前記第1ワード線に前記第4電圧が印加され、前記第2ワード線に前記第2電圧が印加される、
記憶装置。
続きを表示(約 1,100 文字)【請求項2】
前記第2期間中に、前記第1ワード線への前記第2電圧の前記印加と並行して前記第2ワード線に前記第4電圧が印加され、
前記第3期間中に、前記第1ワード線への前記第4電圧の前記印加と並行して前記第2ワード線に前記第2電圧が印加される、
請求項1に記載の記憶装置。
【請求項3】
前記第2期間は、前記第1期間に後続し、
前記第3期間は、前記第2期間に後続する、
請求項1に記載の記憶装置。
【請求項4】
第2期間及び前記第3期間は、前記第1期間より短い、
請求項1に記載の記憶装置。
【請求項5】
前記第1電圧は、前記第3電圧の65%以上85%以下である、
請求項1に記載の記憶装置。
【請求項6】
前記第4電圧は、前記第1電圧の80%以上120%以下である、
請求項1に記載の記憶装置。
【請求項7】
前記第1メモリセルトランジスタを含んだ複数の第1メモリセルトランジスタと、
前記第2メモリセルトランジスタを含んだ複数の第2メモリセルトランジスタと、
前記第1ワード線を含み、各々が、前記複数の第1メモリセルトランジスタの1つと接続された複数の第1ワード線と、
前記第2ワード線を含み、各々が、前記複数の第2メモリセルトランジスタの1つと接続された複数の第2ワード線と、
を備え、
前記第1期間中に前記複数の第1ワード線及び前記複数の第2ワード線に並行して前記第2電圧が印加され、
前記第2期間中に、前記複数の第1ワード線に前記第2電圧が印加され、前記複数の第2ワード線に前記第4電圧が印加され、
前記第3期間中に、前記複数の第1ワード線に前記第4電圧が印加され、前記複数の第2ワード線に前記第2電圧が印加される、
請求項1に記載の記憶装置。
【請求項8】
前記第2期間中に、前記複数の第1ワード線への前記第2電圧の前記印加と並行して前記複数の第2ワード線に前記第4電圧が印加され、
前記第3期間中に、前記複数の第1ワード線への前記第4電圧の前記印加と並行して前記複数の第2ワード線に前記第2電圧が印加される、
請求項7に記載の記憶装置。
【請求項9】
前記第2期間は、前記第1期間に後続し、
前記第3期間は、前記第2期間に後続する、
請求項7に記載の記憶装置。
【請求項10】
前記第2期間及び前記第3期間は、前記第1期間より短い、
請求項7に記載の記憶装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
実施形態は、概して記憶装置に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
メモリセルが3次元に配置された記憶装置が知られている。記憶装置は、より高いデータリテンション特性、より短い動作時間を有することを求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2016-051485号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
高いデータリテンション特性を有する記憶装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
一実施形態による記憶装置は、第1配線と、第1選択トランジスタと、第2選択トランジスタと、第1メモリセルトランジスタと、第2メモリセルトランジスタと、第1ワード線と、第2ワード線と、を含む。
【0006】
上記第1選択トランジスタは、上記第1配線と接続されている。上記第1メモリセルトランジスタ及び第2メモリセルトランジスタは、上記第1選択トランジスタと上記第2選択トランジスタとの間で直列に接続されている。上記第1ワード線は、上記第1メモリセルトランジスタと接続されている。上記第2ワード線は、上記第2メモリセルトランジスタと接続されている。上記第1配線に第1電圧が印加されている第1期間中に上記第1ワード線及び上記第2ワード線に並行して上記第1電圧より低い第2電圧が印加される。上記第1配線に上記第1電圧より高い第3電圧が印加されている第2期間中に、上記第1ワード線に上記第2電圧が印加され、上記第2ワード線に上記第2電圧より高く上記第3電圧より低い第4電圧が印加される。上記第1配線に上記第3電圧が印加されている第3期間中に、上記第1ワード線に上記第4電圧が印加され、上記第2ワード線に上記第2電圧が印加される。
【図面の簡単な説明】
【0007】
第1実施形態の記憶装置の構成要素及び構成要素の接続の例を示す図。
第1実施形態の記憶装置の1つのブロックの構成要素及び構成要素の接続を示す図。
第1実施形態の記憶装置のメモリセルアレイの一部のyz面に沿った断面の構造を示す図。
第1実施形態の記憶装置のデータを書き込まれたメモリセルトランジスタの閾値電圧の分布を示す図。
第1実施形態の記憶装置の電圧生成回路から出力される電圧を示す図。
第1実施形態の記憶装置のドライバ及びロウデコーダ、並びに関連する機能ブロックの例を示す図。
第1実施形態の記憶装置のデータ消去のフローを示す図。
第1実施形態の記憶装置のデータ消去の間の一状態を示す図。
第1実施形態の記憶装置のデータ消去の間の一状態を示す図。
第1実施形態の記憶装置のデータ消去の間の一状態を示す図。
第1実施形態の記憶装置のデータ消去の間にソース線に印加される電圧を時間に沿って示す図。
第1実施形態の記憶装置の一部のデータ消去直後の状態を概略的に示す図。
第1実施形態の第1変形例の記憶装置のデータ消去の間の一状態を示す図。
第1実施形態の第1変形例の記憶装置のデータ消去の間の一状態を示す図。
第1実施形態の第1変形例の記憶装置のデータ消去の間の一状態を示す図。
第1実施形態の第1変形例の記憶装置のデータ消去の間にソース線に印加される電圧の波形を示す図。
第1実施形態の第2変形例の記憶装置のデータ消去のフローを示す図。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下に実施形態が図面を参照して記述される。或る実施形態、相違する実施形態、及び相違する変形例での略同一の機能及び構成を有する複数の構成要素は、互いに区別されるために、参照符号の末尾にさらなる数字又は文字が付加される場合がある。或る記述に後続する記述では、記述済みの点と異なる点が主に記述される。よって、或る実施形態についての記述は全て、明示的に又は自明的に排除されない限り、別の実施形態の記述としても当てはまる。
【0009】
本明細書及び特許請求の範囲において、或る第1要素が別の第2要素に「接続されている」とは、第1要素が直接的又は常時或いは選択的に導電性となる要素を介して第2要素に接続されていることを含む。
【0010】
以下の記述に、xyz直交座標系が用いられる。以下の記述において、「下」との記述及びその派生語並びに関連語は、z軸上のより小さい座標の位置を指し、「上」との記述及びその派生語並びに関連語は、z軸上のより大きい座標の位置を指す。
(【0011】以降は省略されています)

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