特許ウォッチ

公開番号2024036075
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-15
出願番号2022140793
出願日2022-09-05
発明の名称光走査装置
出願人ブラザー工業株式会社
代理人個人,個人
主分類G02B 26/10 20060101AFI20240308BHJP(光学)
要約【課題】突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズを備える走査光学装置において、装置内に埃が入りにくくし、装置の大型化を抑制する。
【解決手段】光走査装置のフレームFは、走査レンズ(第2走査レンズ70Y,70M,70C,70K)の主走査方向の中心からのビームを出射するスリット孔110Y,110M,110C,110Kを有する。走査レンズは、突出部71Y,71M,71C,71Kと、後退部72Y,72M,72C,72Kとを有する。スリット孔は、第1部分111Y,111M,111C,111Kと、第2部分112Y,112M,112C,112Kとを有する。第1部分111Y,111Mの副走査方向の開口幅L1は、第2部分112Y,112M,112C,112Kの副走査方向の開口幅L2より大きい。第1部分111C,111Kの副走査方向の開口幅L3は、第2部分112C,112Kの副走査方向の開口幅L2より大きい。
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項１】
ビームを出射する入射光学系と、
前記入射光学系から出射されたビームを偏向する偏向器と、
前記偏向器で偏向されたビームを像面に結像させる走査レンズを有する走査光学系と、
前記偏向器および前記走査光学系を収容するフレームであって、前記走査レンズからのビームを前記フレームの外部に出射するスリット孔を有するフレームと、を備え、
前記走査レンズは、副走査方向から見て、前記走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に突出した突出部と、前記突出部よりも前記走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に後退した後退部と、を有し、
前記スリット孔は、前記突出部に対応する第１部分と、前記第１部分と主走査方向に並んで位置し、前記後退部に対応する第２部分と、を有し、
前記第１部分の前記副走査方向の開口幅は、前記第２部分の前記副走査方向の開口幅より大きいことを特徴とする走査光学装置。
続きを表示（約 650 文字）【請求項２】
前記突出部の一部は、前記第１部分の中に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】
前記フレームは、前記スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、
前記走査レンズは、前記副走査方向における他方側の端部が前記副走査方向における一方側の端部よりも前記カバープレートから離れるように前記カバープレートに対して傾いて配置され、
前記第１部分は、前記第２部分よりも前記副走査方向の一方側に突出していることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項４】
前記フレームは、前記スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、
前記走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に沿って見て、前記後退部の一部は、前記カバープレートと重なることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項５】
前記フレームは、前記スリット孔を塞ぐレンズカバーであって、前記走査レンズを通過したビームが透過可能なレンズカバーをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項６】
前記フレームは、
前記偏向器および前記走査光学系を収容するメインフレームと、
前記スリット孔が形成されたカバープレートと、を有し、
前記カバープレートは、前記メインフレームと異なる部材で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリゴンミラーを備えた走査光学装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、光源と、光源から出射されたビームを偏向する偏向器と、偏向器で偏向されたビームを像面に結像させる走査レンズと、を備えた走査光学装置が知られている（特許文献１参照）。この走査光学装置では、ビームを出射するスリット孔に走査レンズが近接して配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００７－２９８６８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
走査レンズには、弓型に湾曲したものがある。弓型に湾曲した走査レンズは、ビームの進行方向に突出した突出部と、ビームの進行方向に後退した後退部を有する。このため、突出部が走査光学装置のフレームに干渉しないようにする必要がある。突出部がフレームと干渉しないようにするためには、スリット孔を副走査方向に大きくするか、走査レンズをフレームから所定距離離して配置することが考えられる。しかしながら、スリット孔を主走査方向の全幅にわたって副走査方向に大きくすると、埃などが走査光学装置内に入りやすくなってしまう。また、走査レンズをフレームから所定距離離して配置すると、走査光学装置が大型化してしまう。
【０００５】
そこで、本発明は、突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズを備える走査光学装置において、装置内に埃が入りにくくするとともに走査光学装置の大型化を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため、本発明に係る光走査装置は、入射光学系と、偏向器と、走査光学系と、フレームと、を備える。
入射光学系は、ビームを出射する。偏向器は、入射光学系から出射されたビームを偏向する。走査光学系は、偏向器で偏向されたビームを像面に結像させる。フレームは、偏向器および走査光学系を収容する。フレームは、走査レンズからのビームをフレームの外部に出射するスリット孔を有する。
走査レンズは、副走査方向から見て、走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に突出した突出部と、突出部よりも走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に後退した後退部と、を有する。スリット孔は、突出部に対応する第１部分と、第１部分と主走査方向に並んで位置し、後退部に対応する第２部分と、を有する。第１部分の副走査方向の開口幅は、第２部分の副走査方向の開口幅より大きい。
【０００７】
スリット孔を、第１部分の副走査方向の開口幅が第２部分の副走査方向の開口幅より大きい構成とすることにより、スリット孔の副走査方向の開口幅が、主走査方向の全幅にわたって大きくならないので、装置内に埃が入りにくい。また、突出部に対応する第１部分の副走査方向の開口幅が大きいので、走査レンズとフレームの干渉を抑制できる。このため、突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズとフレームを近接して配置することができ、大型化を抑制できる。
【０００８】
また、前記した走査光学装置において、突出部の一部は、第１部分の中に配置されている構成としてもよい。
【０００９】
突出部の一部が第１部分の中に配置されていることで、走査レンズとフレームを近接して配置することが出来るので、走査光学装置の大型化を抑制できる。
【００１０】
また、前記した走査光学装置において、フレームは、スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、走査レンズは、副走査方向における一方側の端部が副走査方向における他方側の端部よりもカバープレートから離れるようにカバープレートに対して傾いて配置され、第１部分は、第２部分よりも副走査方向の他方側に突出している構成としてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許