特許ウォッチ

公開番号2024031395
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-07
出願番号2022134919
出願日2022-08-26
発明の名称研磨布
出願人ニッタ・デュポン株式会社
代理人弁理士法人藤本パートナーズ
主分類B24B 37/24 20120101AFI20240229BHJP(研削;研磨)
要約【課題】本発明は、剛性を維持すると共に、シリコンウェーハのノッチ部を研磨する際、髭状体の発生を抑制することが可能な研磨布を提供する。
【解決手段】本発明に係る研磨布は、シリコンウェーハのノッチ部を研磨するために用いられ、合成繊維から構成された不織布と、該不織布に含侵された樹脂と、を備えた円環板状の研磨布であって、見掛け密度が0.30g/cm³以上であり、前記合成繊維が、異形断面形状を有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
シリコンウェーハのノッチ部を研磨するために用いられ、合成繊維から構成された不織布と、該不織布に含侵された樹脂と、を備えた円環板状の研磨布であって、
見掛け密度が０．３０ｇ／ｃｍ
３
以上であり、
前記合成繊維が、異形断面形状を有する、研磨布。
続きを表示（約 430 文字）【請求項２】
シリコンウェーハのノッチ部を研磨するために用いられ、合成繊維から構成された不織布と、該不織布に含侵された樹脂と、を備えた円環板状の研磨布であって、
見掛け密度が０．３０ｇ／ｃｍ
３
以上であり、
前記合成繊維が、断面の内部に空間が形成された中空型、及び／又は、断面の略中心に位置し、該断面に内接する円形状のコア部と、該コア部から突出する複数の突出部と、から構成される突出型の断面形状を有する、研磨布。
【請求項３】
前記合成繊維の断面形状が、中空型、Ｗ字型、十字型、Ｙ字型、及び、扁平型からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１又は２に記載の研磨布。
【請求項４】
前記合成繊維が、ポリエステル繊維、ナイロン繊維、レーヨン繊維、ポリプロピレン繊維、アクリル繊維、及び、アセテート繊維からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１又は２に記載の研磨布。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨布に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
ＩＣ（ＩｎｔｅｇｒａｔｅｄＣｉｒｃｕｉｔ）、ＬＳＩ（ＬａｒｇｅＳｃａｌｅＩｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）、ＶＬＳＩ（ＶｅｒｙＬａｒｇｅＳｃａｌｅＩｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）等の半導体を用いた集積回路の原材料となるシリコンウェーハは、極めて高い平面度及び平行度が要求される板状材料である。そのため、シリコンウェーハは、その製造工程において、回転可能な定盤、又は、表面に研磨パッドを貼付した回転可能な定盤によるラッピング加工機又はポリシング加工機を用いて平面加工が行われている。
【０００３】
単結晶であるシリコンウェーハには、その結晶方位を示すため、オリエンテーションフラット、又は、ノッチ部が必ず形成されている。近年では、製品の収率、歩留まり等を向上させるため、ウェーハ表面積の損失がオリエンテーションフラットよりも少ないノッチ部を形成することが多い。なお、ノッチ部は、シリコンウェーハの外周縁に形成される小さい切り欠きであり、Ｖ字状、Ｕ字状等の形状を有する。
【０００４】
シリコンウェーハの加工では、シリコンウェーハのパターン形成面と同様に、ノッチ部においても、チッピング防止、ダストの巻き込み防止等を目的として鏡面加工が施される。ノッチ部の鏡面加工には、ノッチ部専用の研磨パッドが用いられていて、例えば、不織布と、該不織布に含侵された樹脂と、を備えた環状の研磨布が知られている。
【０００５】
図５は、従来技術に係る研磨布１０を用いて、シリコンウェーハ５のノッチ部６を研磨する工程を示す説明図である。このような研磨布１０は、ノッチ部６の形状に対応した形状を有する外周縁部２０を備える。研磨時には、スラリーを供給すると共に、該外周縁部２０をシリコンウェーハ５のノッチ部６に押し当てることにより、加工が行われる。ところが、研磨加工を進めるうちに、ノッチ部６によって繊維及び樹脂の一部が掻き取られて、研磨布の外周縁部２０に毛羽が発生しやすくなる。この毛羽は、繊維が長く、繊維同士の結びつきが強いことに加え、樹脂によってその結びつきが強化されるため、研磨中に取れづらく、また、研磨が進むにつれて髭が伸びたような髭状体７０を形成する。この髭状体７０は、研磨布全体の形を崩すだけでなく、研磨布の回転によって鞭のようにしなり、シリコンウェーハ５の表面や端面に接触する。その結果、本来磨きたくない部位まで研磨がなされ、シリコンウェーハ５の歩留まりを悪化させてしまうという問題があった。
【０００６】
そのため、近年では、この髭状体を除去するための技術が種々提案されている。例えば、特許文献１では、研磨パッドの外周縁部の近傍で、研磨パッドの両側面に形成され、研磨パッドの外周と実質的に同心の、連続あるいは断続した切り込み部を備えた研磨パッドが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０１０－８２７５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
通常、ノッチ部を研磨するために用いられる研磨パッドには、ある程度の剛性を維持すると共に、研磨の際、ノッチ部の形状が変形しないよう、ノッチ部の形状に柔軟に追従する柔らかさが求められる。しかしながら、特許文献１の研磨パッドでは、連続あるいは断続した切り込み部を備えるため、剛性を維持できない虞があった。
【０００９】
また、特許文献１の研磨パッドでは、該研磨パッドの外周と実質的に同心の、連続あるいは断続した切り込み部を備えるため、発生した髭状体が、該髭状体よりも内周側に形成された切り込み部に到達するまで脱落せずに成長が進み、比較的長い髭状体が形成される虞があった。
【００１０】
本発明は、このような現状に鑑み、剛性を維持すると共に、シリコンウェーハのノッチ部を研磨する際、髭状体の発生を抑制することが可能な研磨布を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許