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公開番号2025178248
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-05
出願番号2025136014,2024085085
出願日2025-08-18,2024-05-24
発明の名称蒸着方法及びデバイスの製造方法
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20251128BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】マスク層の位置精度を高めることができる、マスクを用いて基板上に蒸着層を形成する蒸着方法を提供する。
【解決手段】マスクは、第1面と第2面と第1面から第2面へ貫通する複数の第1開口とを含む基材と、第2面に対向する第3面と第4面とを含むマスク層と、基材の第2面とマスク層の第3面との間に位置する中間層と、を備え、基材はシリコン又はシリコン化合物を含み、マスク層は平面視において第1開口に重なる複数の第1領域と第2領域とを含み、複数の第1領域はそれぞれ、第3面から第4面へ貫通する複数の第2開口を含む有効領域を含み、マスクを用いて基板上に蒸着層を形成する蒸着方法は基板に対するマスクの位置を調整するアライメント工程と、第1開口及び第2開口を通過した材料が基板に付着することによって蒸着層が形成される蒸着工程と、を備え、アライメント工程は、マスクの一部分を加熱する加熱工程を含んでいる。
【選択図】図23
特許請求の範囲【請求項１】
マスクを用いて基板上に蒸着層を形成する蒸着方法であって、
前記マスクは、
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する複数の第１開口と、を含む基材と、
前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、を含むマスク層と、
前記基材の前記第２面と前記マスク層の前記第３面との間に位置する中間層と、を備え、
前記基材は、シリコン又はシリコン化合物を含み、
前記マスク層は、平面視において前記第１開口に重なる複数の第１領域と、平面視において前記複数の第１領域の間及び前記複数の第１領域の外側に位置する第２領域と、を含み、
前記複数の第１領域はそれぞれ、前記第３面から前記第４面へ貫通する複数の第２開口を含む有効領域を含み、
前記蒸着方法は、
前記基板に対する前記マスクの位置を調整するアライメント工程と、
前記第１開口及び前記第２開口を通過した材料が前記基板に付着することによって前記蒸着層が形成される蒸着工程と、を備え、
前記アライメント工程は、前記マスクの一部分を加熱する加熱工程を含む、蒸着方法。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記加熱工程は、前記マスクの前記一部分に光を照射する照射工程を含む、請求項１に記載の蒸着方法。
【請求項３】
前記中間層は、前記基材の前記第２面に位置し、酸化珪素又は窒化珪素を含む第１中間層と、前記第１中間層と前記マスク層との間に位置し、金属を含む第２中間層と、を含み、
前記第２中間層は、平面視において前記第１開口に重なるが前記第１中間層に重ならない面である露出面を含み、
前記第２中間層の前記露出面は、平面視において前記マスク層の前記第１領域の前記有効領域の全体を囲う内縁を含み、
照射工程において、前記第２中間層の前記露出面の一部分に光が照射される、請求項２に記載の蒸着方法。
【請求項４】
前記複数の第１領域はそれぞれ、平面視において前記有効領域を囲む周囲領域を含み、
前記第２中間層は、平面視において前記マスク層の前記第１領域の前記周囲領域及び前記第２領域に重なるように広がっている、請求項３に記載の蒸着方法。
【請求項５】
前記第２中間層は、平面視において前記マスク層の前記第１領域の前記有効領域に重ならないよう広がっている、請求項４に記載の蒸着方法。
【請求項６】
前記第２中間層は、チタン又はチタン合金からなる第１層と、前記第１層と前記マスク層との間に位置し、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる第２層と、を含み、
照射工程において、前記第２中間層の前記第１層の前記露出面の一部分に光が照射される、請求項３～５のいずれか一項に記載の蒸着方法。
【請求項７】
前記基材は、平面視において前記複数の第１開口の間に位置する内側領域と、前記基材の外縁に沿って広がり、平面視において前記複数の第１開口及び前記内側領域を囲む外側領域と、を含み、
前記マスクは、前記外側領域に接続されたフレームを備える、請求項１～５のいずれか一項に記載の蒸着方法。
【請求項８】
前記マスクは、前記基材の前記外側領域の前記第１面と前記フレームとの間に位置する接着剤層を備え、
前記接着剤層の一部分は、前記加熱工程において加熱された前記マスクの前記一部分に追従して変形する、請求項７に記載の蒸着方法。
【請求項９】
デバイスの製造方法であって、
請求項１～５のいずれか一項に記載の蒸着方法によって前記基板上に前記蒸着層を形成する工程を備える、デバイスの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、蒸着方法及びデバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
精密なパターンを形成するための方法として、蒸着法が知られている。蒸着法においては、複数の開口が形成されたマスクが基板に組み合わされる。続いて、マスクの開口を介して蒸着材料が基板に付着される。これにより、マスクの開口のパターンに対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層が基板上に形成される。蒸着法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として用いられている。
【０００３】
例えば特許文献１は、シリコンを含む基材と、複数の開口が形成されたマスク層と、を備える蒸着マスクを開示している。シリコンを含む基材とマスク層とが組み合わされているので、マスク層の貫通孔の形状精度及び位置精度が高められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開２０２３／１４５９５１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基材に歪みなどの変形が生じると、マスク層の複数の開口の位置が全体的に理想的な位置からずれる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の一実施形態によるマスクを用いて基板上に蒸着層を形成する蒸着方法において、マスクは、第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する複数の第１開口と、を含む基材と、前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、を含むマスク層と、前記基材の前記第２面と前記マスク層の前記第３面との間に位置する中間層と、を備えてもよい。前記基材は、シリコン又はシリコン化合物を含んでもよい。前記マスク層は、平面視において前記第１開口に重なる複数の第１領域と、平面視において前記複数の第１領域の間及び前記複数の第１領域の外側に位置する第２領域と、を含んでもよい。前記複数の第１領域はそれぞれ、前記第３面から前記第４面へ貫通する複数の第２開口を含む有効領域を含んでもよい。前記蒸着方法は、前記基板に対する前記マスクの位置を調整するアライメント工程と、前記第１開口及び前記第２開口を通過した材料が前記基板に付着することによって前記蒸着層が形成される蒸着工程と、を備えてもよい。前記アライメント工程は、前記マスクの一部分を加熱する加熱工程を含んでもよい。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の実施形態によれば、マスク層の位置精度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
有機デバイスの一例を示す断面図である。
マスクを備えた蒸着装置の一例を示す図である。
入射面の側から見た場合のマスクの一例を示す平面図である。
出射面の側から見た場合のマスクの一例を示す平面図である。
図３のマスクのV－V線に沿った断面図である。
基材の外側領域及びフレームの一例を示す断面図である。
基材の第１開口及びマスク層の第１領域の一例を示す平面図である。
図７のマスクのVIII－VIII線に沿った断面図である。
基材の内側領域及びマスク層の一例を示す断面図である。
マスク層の有効領域の一例を示す断面図である。
第１中間層を形成する工程の一例を示す断面図である。
第２中間層を形成する工程の一例を示す断面図である。
第１レジスト層を形成する工程の一例を示す断面図である。
第１レジスト層を形成する工程の一例を示す平面図である。
マスク層を形成する工程の一例を示す断面図である。
マスク層の第４面を研磨する工程の一例を示す断面図である。
第１レジスト層を除去する工程の一例を示す断面図である。
保護層及び第２レジスト層を形成する工程の一例を示す断面図である。
基材を加工する工程の一例を示す断面図である。
第１中間層の一部を除去する工程の一例を示す断面図である。
第２中間層上に部分的に第３レジスト層を形成する工程の一例を示す断面図である。
第２中間層の一部を除去する工程の一例を示す断面図である。
第２レジスト層、第３レジスト層及び保護層を除去する工程の一例を示す断面図である。
マスクの一部分を加熱する加熱工程を示す図である。
マスクに照射される光の一例を示す平面図である。
マスクに照射される光の一例を示す平面図である。
マスクに照射される光の一例を示す平面図である。
加熱工程が実施される前のマスクの一例を示す平面図である。
加熱工程が実施された後のマスクの一例を示す平面図である。
一変形例によるマスクを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」、「シート」、「フィルム」などの、ある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
【００１０】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待してもよい程度の範囲を含めて解釈する。
（【００１１】以降は省略されています）

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