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公開番号2025177938
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-05
出願番号2024085106
出願日2024-05-24
発明の名称マスク及び有機デバイスの製造方法
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20251128BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】基板に付着する蒸着材料の厚みを均一にすることができるマスクを提供する。
【解決手段】マスク20は、少なくとも1つの第1開口を含む第1層と、平面視において第1開口に重なる複数の第2開口41を含む金属層40と、を含む。金属層40は、複数の第2開口41が形成された有効領域と、有効領域を取り囲む周縁領域と、を含む。周縁領域は、凹部又は欠損部43によって囲まれた区画48Aを有する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、を含む第１層と、
前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む金属層と、
を含み、
前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含み、
前記金属層は、前記複数の第２開口が形成された有効領域と、前記有効領域を取り囲む周縁領域と、を含み、
前記周縁領域は、平面視において前記第４面から前記第３面に向かって窪む凹部又は前記金属層を貫通する欠損部によって囲まれた区画を有する、マスク。
続きを表示（約 770 文字）【請求項２】
前記凹部又は前記欠損部は、前記区画を連続的に取り囲む、請求項１に記載のマスク。
【請求項３】
前記区画は、平面視において前記区画の輪郭の互いに異なる部分に沿って延びる複数の前記凹部又は前記欠損部によって不連続に囲まれている、請求項１に記載のマスク。
【請求項４】
前記輪郭に沿って隣り合う前記凹部又は前記欠損部の隣り合う端部の間隔が、前記輪郭の長さの１０分の１以下である、請求項３に記載のマスク。
【請求項５】
前記区画は、前記凹部によって囲まれ、
前記凹部の底部の厚みが、前記区画の平均厚みの２分の１以下である、請求項１に記載のマスク。
【請求項６】
平面視において、前記周縁領域は、１つの有効領域の周囲に、各々が前記凹部又は前記欠損部によって囲まれた複数の区画を有する、請求項１に記載のマスク。
【請求項７】
平面視において、前記第１開口の輪郭は、第１方向に延びる部分と、前記第１方向とは異なる第２方向に延びる部分とを有し、
前記複数の区画は、平面視において、前記第１方向に延びる部分に隣接する又は重なる区画と、前記第２方向に延びる部分に隣接する又は重なる区画と、を含む、請求項６に記載のマスク。
【請求項８】
前記区画は前記第１層に重なる、請求項１に記載のマスク。
【請求項９】
前記第１層は、複数の第１開口を含み、
前記区画は、前記第１層の隣り合う第１開口の間の領域に重なる、請求項１に記載のマスク。
【請求項１０】
前記区画の少なくとも一部は、前記第１層の外縁と前記第１開口との間の領域に重なる、請求項１に記載のマスク。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、マスク及び有機デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 3,300 文字）【背景技術】
【０００２】
精密なパターンを形成するための方法として、蒸着法が知られている。蒸着法においては、まず、開口が形成されたマスクを基板に組み合わせる。続いて、マスクの開口を介して蒸着材料が基板に付着される。これにより、マスクの開口のパターンに対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層を基板上に形成できる。蒸着法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として用いられている。特許文献１には、蒸着法に用いられるマスクが開示されている。
【０００３】
特許文献１のマスクは、マスクチップと、マスクチップを支持する支持体とを含む。マスクチップには、各々が画素に対応した複数の開口部が形成されている。マスク支持体には、開口が形成されている。マスク支持体の各開口は、例えば、有機ＥＬ表示装置の１つの画面に対応する。平面視において、マスク支持体の各開口は、マスクチップの複数の開口部と重なる。蒸着処理中、マスクチップは基板に対面し、マスク支持体は蒸着源の側を向く。蒸着源から飛来した蒸着材料は、マスク支持体の開口を通り、次いでマスクチップの開口部を通って、基板に付着する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００５－０４２１３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、基板に付着する蒸着材料の厚みを均一にすることが望まれている。例えば、基板上の有機ＥＬ表示装置の１つの画面に対応する領域内に形成される複数の蒸着層の厚みの差を、小さくすることが望まれている。複数の蒸着層の厚みを均一にすることで、画面内の表示品質を均一にできる。例えば、画面を均一に発光させることができる。しかしながら、本件発明者が得た知見によれば、上記領域の中央の蒸着層の厚みよりも、上記領域の外縁付近の蒸着層の厚みの方が大きくなる傾向にある。
【０００６】
本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得るマスクを製造することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の一実施形態によるマスクは、第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、を含む第１層と、前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む金属層と、を含んでいてもよく、前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含んでいてもよく、前記金属層は、前記複数の第２開口が形成された有効領域と、前記有効領域を取り囲む周縁領域と、を含んでいてもよく、前記周縁領域は、平面視において前記第４面から前記第３面に向かって窪む凹部又は前記金属層を貫通する欠損部によって囲まれた区画を有していてもよい。
【発明の効果】
【０００８】
本開示の実施形態によれば、基板に付着する蒸着材料の厚みの差を小さくできる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
有機デバイスの一例を示す断面図である。
マスクを備えた蒸着装置の一例を示す図である。
入射面の側から見た場合のマスクの一例を示す平面図である。
出射面の側から見た場合のマスクの一例を示す平面図である。
図３の二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図５Ａに示す部分を出射面の側から見た図である。
図３に示すマスクのＶＩＡ－ＶＩＡ線に沿った断面を示す図である。
図３に示すマスクのＶＩＢ－ＶＩＢ線に沿った断面を示す図である。
図６Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図６Ｂの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに対応する図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
図２０Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図２２Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図２６Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図２０Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図５Ｂに対応する図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
欠損部又は凹部、及び当該欠損部又は凹部が取り囲む区画の平面図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
欠損部又は凹部、及び当該欠損部又は凹部が取り囲む区画の平面図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
欠損部又は凹部、及び当該欠損部又は凹部が取り囲む区画の平面図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
欠損部又は凹部、及び当該欠損部又は凹部が取り囲む区画の平面図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
欠損部又は凹部、及び当該欠損部又は凹部が取り囲む区画の平面図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
図７Ａに対応する図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
図７Ｂに対応する図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
有機デバイスを備える装置の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」、「シート」、「フィルム」などの、ある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
（【００１１】以降は省略されています）

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