特許ウォッチ

公開番号2025177932
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-05
出願番号2024085096
出願日2024-05-24
発明の名称マスク及び有機デバイスの製造方法
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20251128BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】蒸着処理中の蒸着マスクの温度上昇を抑制できる、マスクを提供する。
【解決手段】マスク20は、少なくとも1つの第1開口31を含む第1層30と、平面視において第1開口31に重なる複数の第2開口41を含む金属層40と、を含む。金属層40は、複数の第2開口41が形成された有効領域49と、有効領域49を取り囲む周縁領域48と、を含む。周縁領域48には、凹部又は第3開口43が形成されている。
【選択図】図6A
特許請求の範囲【請求項１】
第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、を含む第１層と、
前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む金属層と、を含み、
前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含み、
前記金属層は、前記複数の第２開口が形成された有効領域と、前記有効領域を取り囲む周縁領域と、を含み、
前記周縁領域には、前記第４面から前記第３面に向かって窪む凹部又は前記金属層を貫通する第３開口が形成されている、マスク。
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
前記凹部又は前記第３開口の少なくとも一部は、前記第１層と重なる位置に形成されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項３】
前記第１層は、複数の前記第１開口を含み、
前記凹部又は前記第３開口の少なくとも一部は、前記第１層の隣り合う前記第１開口の間の領域と重なる位置に形成されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項４】
前記凹部又は前記第３開口の少なくとも一部は、前記第１層の外縁と前記第１開口との間の領域と重なる位置に形成されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項５】
前記周縁領域には、前記第４面から前記第３面に向かって窪む凹部が形成されており、
前記凹部の少なくとも一部は、前記第１開口と重なる位置に形成されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項６】
前記第２面と前記第３面との間に位置し、前記第１開口に重なる第４開口を含む中間層を含み、
前記凹部又は前記第３開口は、前記中間層と重なる位置に形成されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項７】
前記第２面と前記第３面との間に位置し、前記第１開口に重なる第４開口を含む中間層を含み、
前記周縁領域には、前記金属層を貫通する第３開口が形成されており、
前記第３開口の少なくとも一部は、前記第１開口に重なり且つ前記中間層に重なる位置に形成されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項８】
前記凹部又は前記第３開口内に、酸化珪素又は窒化珪素が配置されている、請求項１に記載のマスク。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマスクを用いる蒸着法によって基板上に有機層を形成する工程を備える、有機デバイスの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、マスク及び有機デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,600 文字）【背景技術】
【０００２】
精密なパターンを形成するための方法として、蒸着法が知られている。蒸着法においては、まず、開口が形成されたマスクを基板に組み合わせる。続いて、マスクの開口を介して蒸着材料が基板に付着される。これにより、マスクの開口のパターンに対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層を基板上に形成できる。蒸着法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として用いられている。特許文献１には、蒸着法に用いられるマスクが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００９－０６２５６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
蒸着用マスクは、蒸着装置に組み込まれる。蒸着装置に組み込まれた蒸着マスクは、蒸着処理を複数回実施するために使用される。より具体的には、蒸着マスクは、第１の基板への蒸着層の形成に用いられた後、第２の基板への蒸着層の形成に用いられ、その後、第３の基板への蒸着層の形成に用いられる。このようにして、蒸着用マスクは、蒸着装置に組み込まれたまま、複数の基板に蒸着層を順々に形成するために用いられる。
【０００５】
また、るつぼ等の蒸着源に収容された蒸着材料は、加熱されて蒸発し、蒸着装置内を浮遊する。蒸発した蒸着材料が蒸着用マスクを通過して基板に付着することで、蒸着層が形成される。このため、蒸着用マスクは、蒸気や蒸着材料を加熱する熱源によって加熱される。
【０００６】
一つの蒸着マスクで蒸着処理を複数回連続して実施すると、蒸着マスクの温度が徐々に上昇する。このため、複数の蒸着処理における蒸着マスクの温度が異なる。一方で、製品の品質を均一にするため、蒸着処理の条件を均一にすることが望まれている。
【０００７】
本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得るマスクを製造することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の一実施形態によるマスクは、第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、前記第１面から前記第２面へ貫通する少なくとも１つの第１開口と、を含む第１層と、前記第２面に対向する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、前記第３面から前記第４面へ貫通し、平面視において前記第１開口に重なる複数の第２開口と、を含む金属層と、を含んでもよく、前記第１層は、シリコン又はシリコン化合物を含んでもよく、前記金属層は、前記複数の第２開口が形成された有効領域と、前記有効領域を取り囲む周縁領域と、を含んでもよく、前記周縁領域には、前記第４面から前記第３面に向かって窪む凹部又は前記金属層を貫通する第３開口が形成されていてもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本開示の実施形態によれば、蒸着処理中の蒸着マスクの温度上昇を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
有機デバイスの一例を示す断面図である。
マスクを備えた蒸着装置の一例を示す図である。
入射面の側から見た場合のマスクの一例を示す平面図である。
出射面の側から見た場合のマスクの一例を示す平面図である。
図３の二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図５Ａに示す部分を出射面の側から見た図である。
図３に示すマスクのＶＩ－ＶＩ線に沿った断面を示す図である。
図６Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図９Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図６Ａに対応する図であって、マスクの一変形例を示す平面図である。
図１９Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図２１Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の一工程を示す断面図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図２５Ａの二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す図である。
図１９Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
図６Ａに示すマスクの製造方法の変形例の一工程を示す断面図である。
有機デバイスを備える装置の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許