特許ウォッチ

公開番号2025169049
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-12
出願番号2024074021
出願日2024-04-30
発明の名称化粧シート、化粧シートの製造方法および化粧材
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人
主分類B32B 33/00 20060101AFI20251105BHJP(積層体)
要約【課題】良好な艶消性を備えつつ、触感、低ぎらつき性、および、質感が良好な化粧シートを提供する。
【解決手段】基材層1および艶消層2を有する化粧シート10であって、上記艶消層の上記基材層とは反対側の第1面は、皺構造Xと、厚さ方向において上記皺構造の凹部5の底より上記基材層側に凹むエンボス部Yと、を有する表面形状を備え、上記厚さ方向から見て、複数の上記エンボス部は、第1方向に延在しており、上記第1方向に直交する第2方向において、上記第1面の最大高さ(Rz)が、100μmより大きく、上記第1方向において、変角光度計による上記第1面の45°反射強度が、0.50以下である、化粧シートを提供する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基材層および艶消層を有する化粧シートであって、
前記艶消層の前記基材層とは反対側の第１面は、皺構造と、厚さ方向において前記皺構造の凹部の底より前記基材層側に凹むエンボス部と、を有する表面形状を備え、
前記厚さ方向から見て、複数の前記エンボス部は、第１方向に延在しており、
前記第１方向に直交する第２方向において、前記第１面の最大高さ（Ｒｚ）が、１００μｍより大きく、
前記第１方向において、変角光度計による前記第１面の４５°反射強度が、０．５０以下である、化粧シート。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記第１方向において、変角光度計による前記第１面の７５°反射強度をＤ
ＳＳ１
とし、前記第２方向において、変角光度計による前記第１面の７５°反射強度をＤ
ＳＳ２
とし、前記Ｄ
ＳＳ１
および前記Ｄ
ＳＳ２
の差の絶対値をＤ
ＳＳＸ
とした場合に、Ｄ
ＳＳＸ
／Ｄ
ＳＳ１
が、０．０６以上である、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項３】
前記基材層と前記艶消層との間に、装飾層が配置されている、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項４】
前記第１面の６０°グロス値が、１０．０以下である、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項５】
前記皺構造は、不規則な皺による凹凸形状を有する構造であり、前記不規則な皺は、複数の突起部により形成する複数の凸部と、前記複数の突起部により囲まれて形成する凹部と、を有する、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項６】
前記艶消層と前記装飾層との間に、透明性樹脂層が配置されている、請求項３に記載の化粧シート。
【請求項７】
前記基材層の前記艶消層とは反対の面側に、接着層が配置されている、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項８】
床用部材または建具に用いられる、請求項１に記載の化粧シート。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載の化粧シートの製造方法であって、
前記基材層の一方の面側に、前記艶消層を形成する艶消層形成工程を有し、
前記艶消層形成工程は、
前記基材層の一方の面側に、艶消層用の硬化性樹脂組成物を塗布して塗布層を形成し、前記塗布層を電離放射線による照射処理により硬化させることにより、前記皺構造を有する前駆体層を形成する皺構造形成処理と、
前記前駆体層の前記皺構造側の面に、エンボス加工により前記エンボス部を形成し、前記艶消層を得るエンボス部形成処理と、を有し、
前記皺構造形成処理における前記電離放射線による照射処理では、（１）１００ｎｍ以上２００ｎｍ未満の第１の波長光による照射処理、および、（２）電子線照射処理および２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の第２の波長光による照射処理の少なくとも一方の照射処理を、この順に行う、化粧シートの製造方法。
【請求項１０】
前記化粧シートの製造方法は、前記艶消層形成工程の前に、
前記基材層の一方の面側に、装飾層を形成する装飾層形成工程を有し、
前記艶消層形成工程において、前記装飾層の前記基材層とは反対の面側に、前記艶消層を形成する、請求項９に記載の化粧シートの製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、化粧シート、化粧シートの製造方法および化粧材に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
化粧材に用いられる化粧シートには、例えば意匠性の向上を目的として、艶消性が求められる場合がある。例えば、特許文献１には、基材シートの片面に絵柄層および隠蔽層を有し、もう一方の面に艶調整層（マット層、グロス層）を有する化粧シートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０００－０６２０８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者等は、皺構造を有する艶消層を設けることで、例えば、フィラーを添加した艶消層を設けた場合に比べて、化粧シートに良好な艶消性（低艶性）を付与できることを知見した。一方、化粧シートの高機能化の観点から、艶消層には、良好な艶消性のみならず、良好な触感、良好な低ぎらつき性、および、良好な質感（本物感）が同時に求められる場合がある。
【０００５】
本開示は、上記問題に鑑みてなされたものであり、良好な艶消性を備えつつ、触感、低ぎらつき性、および、質感が良好な化粧シートを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示においては、基材層および艶消層を有する化粧シートであって、上記艶消層の上記基材層とは反対側の第１面は、皺構造と、厚さ方向において上記皺構造の凹部の底より上記基材層側に凹むエンボス部と、を有する表面形状を備え、上記厚さ方向から見て、複数の上記エンボス部は、第１方向に延在しており、上記第１方向に直交する第２方向において、上記第１面の最大高さ（Ｒｚ）が、１００μｍより大きく、上記第１方向において、変角光度計による上記第１面の４５°反射強度が、０．５０以下である、化粧シートを提供する。
【０００７】
また、本開示においては、上述した化粧シートの製造方法であって、上記基材層の一方の面側に、上記艶消層を形成する艶消層形成工程を有し、上記艶消層形成工程は、上記基材層の一方の面側に、艶消層用の硬化性樹脂組成物を塗布して塗布層を形成し、上記塗布層を電離放射線による照射処理により硬化させることにより、上記皺構造を有する前駆体層を形成する皺構造形成処理と、上記前駆体層の上記皺構造側の面に、エンボス加工により上記エンボス部を形成し、上記艶消層を得るエンボス部形成処理と、を有し、上記皺構造形成処理における上記電離放射線による照射処理では、（１）１００ｎｍ以上２００ｎｍ未満の第１の波長光による照射処理、および、（２）電子線照射処理および２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の第２の波長光による照射処理の少なくとも一方の照射処理を、この順に行う、化粧シートの製造方法を提供する。
【０００８】
また、本開示においては、被着体と、化粧シートと、を有する化粧材であって、上記化粧シートが、上述した化粧シートである、化粧材を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本開示においては、良好な艶消性を備えつつ、触感、低ぎらつき性、および、質感が良好な化粧シートを提供できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本開示における化粧シートを例示する概略断面図である。
本開示における化粧シートを例示する概略断面図である。
本開示における皺構造を例示する顕微鏡画像である。
本開示における第１方向および第２方向を説明する概略平面図である。
本開示における化粧シートを例示する概略断面図である。
本開示における化粧シートの製造方法を例示するフロー図である。
本開示における化粧材を例示する概略断面図である。
比較例８で得られた化粧シートにおける、受光角度と、規格化後反射強度Ｂ
ＳＳ
との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許