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公開番号2025165869
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-11-05
出願番号2025048167
出願日2025-03-24
発明の名称エナメル彫刻及び模様付け方法
出願人コマデュールソシエテアノニム
代理人個人,個人,個人
主分類G04B 45/00 20060101AFI20251028BHJP(時計)
要約【課題】エナメル彫刻は、エナメルの表面を傷つけたり、その色を変えたりしないように彫刻技術の熟練を必要とするため、広く使用されていない。上記の欠点を克服するエナメルの彫刻及び模様付け方法を開発する。
【解決手段】本発明は、少なくとも部分的にエナメル(3)で満たされた装飾(2)を備える物品(1)に彫刻及び模様付けする方法に関し、前記方法は、構造(7)を形成するためにエナメル(3)の表面及び/又はエナメル(3)の内部へのフェムト秒又はピコ秒レーザーを用いたレーザーアブレーションのステップを含む。
【選択図】図4A-4C
特許請求の範囲【請求項１】
少なくとも部分的にエナメル（３）で満たされた装飾（２）を備える物品（１）の彫刻及び模様付け方法であって、構造（７）を形成するために前記エナメル（３）の表面及び／又は前記エナメル（３）内部にフェムト秒又はピコ秒レーザーを用いるレーザーアブレーションのステップを含む、彫刻及び模様付け方法。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
それは、いわゆるプリカジュールエナメルを形成するために少なくとも部分的にエナメル（３）で満たされた透かし装飾（２）に関する、請求項１に記載の彫刻及び模様付け方法。
【請求項３】
前記構造（７）に材料（４）を充填するステップを含む、請求項１に記載の彫刻及び模様付け方法。
【請求項４】
前記レーザーの波長は、近赤外域、すなわち７００ｎｍから２５００ｎｍの間、緑色域、すなわち５１０ｎｍから５６０ｎｍの間、又は紫外域、すなわち２００ｎｍから４００ｎｍの間にある、請求項１に記載の彫刻及び模様付け方法。
【請求項５】
前記エナメル（３）内の構造（７）は、前記エナメル（３）内にレーザビーム（８）を集束させ、衝撃のマトリックスを生成することによって得られ、一方、前記表面の構造（７）は、前記レーザビーム（８）を前記表面の近くに集束させることを必要とする、請求項１に記載の彫刻及び模様付け方法。
【請求項６】
前記レーザビーム（８）は、前記エナメル（３）全体を通過し、前記レーザビーム（８）の入射点と反対側の表面に構造（７）を形成する、請求項５に記載の彫刻及び模様付け方法。
【請求項７】
前記エナメル（３）内部の構造（７）の場合、前記レーザーの波長は近赤外域にあり、前記表面の構造（７）の場合、前記レーザーの波長は緑色域にある、請求項４に記載の彫刻及び模様付け方法。
【請求項８】
いわゆるプリカジュールエナメルを形成するために少なくとも部分的にエナメル（３）で満たされた透かし装飾（２）を備える物品（１）の製造方法であって、請求項２に記載の彫刻及び模様付けのステップを含み、前記彫刻及び模様付けのステップの前又は最中に、
・上面（５ａ）と前記上面（５ａ）の反対側の下面（５ｂ）とで画定されたブランク（５）を得るステップと、
・前記下面（５ｂ）まで貫通しない装飾（２ａ）を形成するために前記ブランク（５）の一部を前記上面（５ａ）から除去するか又は前のステップで非貫通装飾（２ａ）を備える前記ブランク（５）を直接得るステップと、
・前記非貫通装飾（２ａ）内に１層以上のエナメル（３）を堆積させ、各層が堆積した後に前記エナメル（３）を焼成するステップと、
・前記エナメル（３）を露出させ、これにより前記エナメル（３）で満たされた前記透かし装飾（２）を備える前記物品（１）を製造するために、好ましくは研削により、前記下面（５ｂ）を機械加工するステップと
を含む、製造方法。
【請求項９】
前記下面（５ｂ）は、使用中に観察者に面するように意図された面であり、前記製造方法は、前記エナメル（３）を焼成するステップの後に前記エナメル（３）の上に発光材料の層を堆積させるステップと、前記機械加工するステップの前に前記発光材料の層の上に保護層（６）を堆積させるステップとを含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記ブランク（５）は、６５０℃以上の融点を有する材料から作られる、請求項８に記載の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、エナメル装飾、例えばプリカジュールエナメル装飾を備える物品に彫刻及び模様付けする方法に関する。本発明はさらに、物品を製造する方法及びこの方法によって得られる物品に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半透明の石又はガラスペーストに装飾を施すために、いくつかの古い技術を使用することができる。多くの沈み彫り（インタリオ）は古代に半貴石又はガラスペーストで作られた。そのため、装飾は手作業による切削と研磨によって、場合によってはガラスペーストの成形によって得られる。発見された物のほとんどは上面に装飾が施されており、まれに下面にも装飾が施されており、ホログラム効果を生み出している。
【０００３】
時計業界では長年にわたり、素材内彫刻が利用されてきた。素材内彫刻は、例えば、偽造防止マーキングを行うため又はサファイアクリスタルに装飾的な線条細工（フィリグリー）を組み込むために使用することができる。素材内彫刻はまた、クリスタルやポリカーボネートで作られた装飾品をカスタマイズするために使用することができる。
【０００４】
今日まで、エナメル彫刻は、エナメルの表面を傷つけたり、その色を変えたりしないように彫刻技術の熟練を必要とするため、広く使用されていない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記の欠点を克服するエナメルの彫刻及び模様付け方法を開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この方法は、あらゆるエナメル装飾に使用することができ、特に、透明又は半透明のエナメルを通して光が輝くミニチュアのステンドグラス窓のような効果が得られる、プリカジュールエナメル装飾、すなわちエナメル透かし装飾に使用することができる。より具体的には、この方法は、エナメルの脆さを低減するために、０．５ｍｍ以上の厚さを有するプリカジュールエナメル装飾に適用することができ、これは、大きな応力を受けるエナメル装飾、例えば時計のベゼルなどの時計の外装部品にとってより重要である。
【０００７】
より具体的には、本発明は、少なくとも部分的にエナメルで満たされた装飾を備える物品の彫刻及び模様付け方法に関するものであり、前記方法は、構造を形成するためにエナメルの表面及び／又はエナメルの内部にフェムト秒又はピコ秒レーザーを用いるレーザーアブレーションのステップを含む。
【０００８】
本発明による彫刻及び模様付け方法は、表面仕上げを制御し、エナメルの色の変化を制限しながらレーザーアブレーションを行うことを可能にする。
【０００９】
この彫刻及び模様付け方法の上流では、エナメルの堅牢性を高めた低コストの大量生産につながる、エナメルの厚い層を短時間で堆積させることができる製造方法を用いて、プリカジュールエナメル装飾を施した物品を製造することができる。
【００１０】
この目的のために、いわゆるプリカジュールエナメルを形成するために少なくとも部分的にエナメルで満たされた透かし装飾を備える物品の製造方法が提案され、この製造方法は、彫刻及び模様付けのステップを含み、前記彫刻及び模様付けのステップの前又は最中に、
・上面と上面の反対側の下面とで画定されたブランクを得るステップと、
・下面まで貫通しない装飾を形成するためにブランクの一部を上面から除去するか又は前のステップで非貫通装飾を備えるブランクを直接得るステップと、
・非貫通装飾内に１層以上のエナメルを堆積させ、各層が堆積した後にエナメルを焼成するステップと、
・エナメルを露出させ、これによりエナメルで満たされた透かし装飾を備える物品を製造するために、好ましくは研削により、下面を機械加工するステップと
を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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