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公開番号2025156748
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-15
出願番号2024059360
出願日2024-04-02
発明の名称表面処理剤
出願人メック株式会社
代理人個人
主分類C09K 3/00 20060101AFI20251007BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】本発明は、樹脂組成物の膜を基材表面上に形成する場合に、樹脂組成物と、金属表面及び樹脂表面の両方の面の塗布性を共に十分に向上させうる表面処理剤、膜形成基材の製造方法及び膜形成基材を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、アルキル基の炭素数が19～24のアルキルアミン、アルケニル基の炭素数が18～22のアルケニルアミン及びその塩からなる群から選択される少なくとも1種であるアミン化合物を0.001質量%以上1.2質量%以下含む、金属表面及び樹脂表面を含む基材表面を処理するための表面処理剤等である。
【選択図】なし

特許請求の範囲【請求項１】
アルキル基の炭素数が１９～２４のアルキルアミン、アルケニル基の炭素数が１８～２２のアルケニルアミン及びその塩からなる群から選択される少なくとも１種であるアミン化合物を０．００１質量％以上１．２質量％以下含む、金属表面及び樹脂表面を含む基材表面を処理するための表面処理剤。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
前記アミン化合物は、アミノノナデカン、アラキジルアミン、ヘニコシルアミン、ベヘニルアミン、トリコシルアミン、テトラコシルアミン、オレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項３】
前記表面処理剤はｐＨ４．０以上ｐＨ１４以下である請求項１又は２に記載の表面処理剤。
【請求項４】
金属表面と樹脂表面とを備える基材表面に表面処理剤を接触させて前記金属表面及び前記樹脂表面のジプロピレングリコールに対する接触角が３５°以上１００°以下になるように表面処理する表面処理工程と、
表面処理された前記基材表面にインクジェット方式で樹脂組成物の膜を形成する膜形成工程と、
を備える基材表面に樹脂組成物の膜が形成された膜形成基材を製造する膜形成基材の製造方法。
【請求項５】
前記表面処理剤は、アルキル基の炭素数が１９～２４のアルキルアミン、アルケニル基の炭素数が１８～２２のアルケニルアミン及びその塩からなる群から選択される少なくとも１種であるアミン化合物を０．００１質量％以上１．２質量％以下含む表面処理剤である請求項４に記載の膜形成基材の製造方法。
【請求項６】
前記膜形成工程において、加熱、紫外線照射又は光照射により硬化する樹脂組成物を用いてインクジェット方式で膜を形成する請求項４又は５に記載の膜形成基材の製造方法。
【請求項７】
前記表面処理工程に先立って、前記基材表面をマイクロエッチング剤によってエッチングするエッチング工程を備える、請求項４又は５に記載の膜形成基材の製造方法。
【請求項８】
前記エッチング工程において、前記金属表面を表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．８μｍ以下になるようにエッチングする請求項７に記載の膜形成基材の製造方法。
【請求項９】
前記表面処理剤はｐＨ４．０以上ｐＨ１４以下である請求項４又は５に記載の膜形成基材の製造方法。
【請求項１０】
金属表面と樹脂表面とを備える基材表面を備え、
前記金属表面及び樹脂表面のジプロピレングリコールに対する接触角が３５°以上１００°以下であって、
前記金属表面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．８μｍ以下である、基材表面に樹脂組成物の膜が形成された膜形成基材。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面処理剤、膜形成基材の製造方法及び膜形成基材に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
金属基材の表面にソルダーレジスト、エッチングレジスト等の硬化性の樹脂組成物の膜が形成された膜形成基材は、例えば、はんだ付けによる電気接続のための銅開口部を残してソルダーレジストで被覆されたプリント配線板等として利用される。かかる膜形成基材は、一般的にはスクリーン版を用いた印刷や、露光、現像を行うフォト法等によって、金属基材表面の所望の箇所に樹脂組成物を配置することによって製造されているが、近年、インクジェット方式で樹脂組成物を描画することで膜を形成する方法が着目されている。
【０００３】
インクジェット方式は、版やフォトマスクが不要であり、工程数が少なく簡易に且つ必要な部分へのみ膜を形成することが容易であるという利点がある。
一方、インクジェット方式では、従来のものより低粘度のソルダーレジスト等を用いる必要があるため塗布後の滲みが生じやすいという課題がある。かかる滲みを低減する技術としては、例えば特許文献１乃至４に記載されているように基材上の金属表面の濡れ性を調整すべく金属表面に表面処理剤を接触させる表面処理を行うことが挙げられている。
【０００４】
しかしながら、これらの従来の表面処理技術では、基板上の金属表面の濡れ性を改善できても、基板上に樹脂表面が混在している場合に樹脂表面の改質は不十分である。一般的に、基板表面には金属以外にも絶縁性樹脂等の樹脂表面が存在している場合があり、金属表面、樹脂表面共にソルダーレジストに対する塗布性を向上させることが要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１５－１９２９６３号公報
国際公開第２０１６／１１１０３５号パンフレット
国際公開第２０１６／１１１０３６号パンフレット
国際公開第２０１９／０８２６８１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、樹脂組成物の膜を基材表面上に形成する場合に、樹脂組成物に対する金属表面及び樹脂表面の両方の面の塗布性を共に十分に向上させうる表面処理剤、膜形成基材の製造方法及び膜形成基材を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の表面処理剤は、アルキル基の炭素数が１９～２４のアルキルアミン、アルケニル基の炭素数が１８～２２のアルケニルアミン及びその塩からなる群から選択される少なくとも１種であるアミン化合物を０．００１質量％以上１．２質量％以下含む、金属表面及び樹脂表面を含む基材表面を処理するための表面処理剤である。
【０００８】
本発明の表面処理剤において、前記アミン化合物は、アミノノナデカン、アラキジルアミン、ヘニコシルアミン、ベヘニルアミン、トリコシルアミン、テトラコシルアミン、オレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種であってもよい。
【０００９】
本発明の表面処理剤は、ｐＨ４．０以上ｐＨ１４以下であってもよい。
【００１０】
本発明の膜形成基材の製造方法は、金属表面と樹脂表面とを備える基材表面に表面処理剤を接触させて前記金属表面及び前記樹脂表面のジプロピレングリコールに対する接触角が３５°以上１００°以下になるように表面処理する表面処理工程と、表面処理された前記基材表面にインクジェット方式で樹脂組成物の膜を形成する膜形成工程と、を備える基材表面に樹脂組成物の膜が形成された膜形成基材を製造する膜形成基材の製造方法である。
（【００１１】以降は省略されています）

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