TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2025151445
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-09
出願番号2024052874
出願日2024-03-28
発明の名称槽の洗浄方法及びシリカ粒子の製造方法
出願人三菱ケミカル株式会社
代理人
主分類C01B 33/145 20060101AFI20251002BHJP(無機化学)
要約【課題】槽や製造装置全体への負荷に加えて環境への負荷を低減し、シリカの製造効率を
向上させる槽の洗浄方法を提供する。
【解決手段】工程(1):シリカ粒子の分散液から、溶媒を分離する工程。工程(2):
前記工程(1)で溶媒を分離する際に発生したシリカの粗大粒子をアルカリ性液体によっ
て溶解する工程。を含む槽の洗浄方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
以下の工程(1)及び(2)を含む、槽の洗浄方法。
工程(1):シリカ粒子の分散液から、溶媒を分離する工程。
工程(2):前記工程(1)で溶媒を分離する際に発生したシリカの粗大粒子をアルカ
リ性液体によって溶解する工程。
続きを表示(約 650 文字)【請求項2】
前記工程(1)がアルコールを含む溶媒を分離する工程である、請求項1に記載の槽の
洗浄方法。
【請求項3】
前記アルカリ性液体のpHが10以上である、請求項1に記載の槽の洗浄方法。
【請求項4】
前記アルカリ性液体が水酸化ナトリウム水溶液である、請求項1に記載の槽の洗浄方法

【請求項5】
前記工程(2)において前記槽内に含まれる溶液のpHを工程の初めから終わりまでの
間、初めに投入したアルカリ性溶液のpHに対して±1の範囲で維持する、請求項1に記
載の槽の洗浄方法。
【請求項6】
前記工程(2)において前記槽内に含まれる溶液の温度が0℃~100℃である、請求
項1に記載の槽の洗浄方法。
【請求項7】
前記工程(2)の工程の初めから終わりまでの時間が10時間以内である、請求項1に
記載の槽の洗浄方法。
【請求項8】
前記工程(2)の終了後に槽内に残った溶液が無色透明である、請求項1に記載の槽の
洗浄方法。
【請求項9】
前記シリカ粒子の分散液に含有されるシリカ粒子の平均2次粒子径が10nm~100
0nmである、請求項1に記載の槽の洗浄方法。
【請求項10】
前記シリカの粗大粒子が0.1g以上の粒子を含む、請求項1に記載の槽の洗浄方法。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、槽の洗浄方法及びシリカ粒子の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)【背景技術】
【0002】
シリカ粒子は、乾燥剤、吸着剤、樹脂やゴム材料のフィラー、触媒、塗料、接着剤、耐
火剤、ガラス材等、広範囲の分野で用いられている工業材料である。その中で、粒子径が
ナノサイズのシリカは、主に分散媒に分散させたコロイダルシリカとして種々の用途で用
いられている。
【0003】
コロイダルシリカとして用いられるようなナノサイズのシリカ粒子は、その製造方法の
違いにより、四塩化珪素の熱分解によるもの(ヒュームドシリカ等)、水ガラス等の珪酸
アルカリの脱イオンによるもの、アルコキシシランの加水分解反応及び縮合反応(一般に
「ゾルゲル法」と称される)によるもの等が知られている。
【0004】
シリカゾル及びシリカゾルの製造方法に関し、これまで多くの検討がなされてきた。
例えば、特許文献1には、水を含む特定の反応液中で、アルコキシシランまたはその縮
合物が加水分解及び重縮合することでシリカゾルを製造できることが開示されている。ま
た、特許文献2では、アルコキシシランのうち、正ケイ酸メチルを用い、比較的低温でケ
イ酸への加水分解を経て、その縮合によりコロイダルシリカを製造できる方法が開示され
ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2020-189787号公報
特開平11―60232号公報
特開2015-071659号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
一般的に、上記の方法などにより得られるシリカ粒子やシリカゾルには、シリカ粒子同
士が凝集した粗大粒子が含まれる。この粗大粒子の発生はアルコキシシランの加水分解及
び縮合反応によってシリカ粒子を製造するときに顕著に見られる。このような粗大粒子は
シリカゾル中だけでなく、シリカ粒子を製造する反応槽やシリカゾルの濃度調整を行う溶
媒置換槽、シリカゾルを保存する保存槽の壁面に析出してしまうことがある。
【0007】
壁面に析出し付着した粗大粒子は、各槽の繰り返し使用に悪影響を及ぼし、適切に処理
をしなければシリカ粒子やシリカゾルの製造効率や品質維持を著しく阻害する可能性があ
る。
【0008】
これに対し、上記特許文献1、2に開示されているシリカゾルやコロイダルシリカの製
造方法では、粗大粒子の低減についての開示はない。一方、特許文献3によれば、一般的
にシリカゾルに含まれる粗大粒子はろ過によって除去できることが開示されているものの
、槽の壁面に析出する粗大粒子についての開示はない。そのため、槽の壁面に析出、付着
した粗大粒子を処理する方法については未だに最適化されていない。
【0009】
槽の壁面に析出、付着した粗大粒子は物理的に剥がしたり、化学反応による溶解洗浄に
よって取り除くことが考えられる。しかししながら、いずれの方法においても槽内部への
負担や排出処理の際に環境負荷が伴う上、これらの処理に要する時間によってはシリカ粒
子の製造効率にも影響があるため、槽や環境への負荷を低減したうえで、製造効率にも悪
影響を及ぼさない処理方法が求められている。
【0010】
そこで本発明は、粗大粒子が析出、付着した槽の洗浄方法の提供を目的とする。また、
本発明は、粗大粒子を洗浄した槽で繰り返しシリカ粒子を製造する方法の提供も目的とす
る。
【課題を解決するための手段】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

三菱ケミカル株式会社
重合体および重合体の製造方法
8日前
三菱ケミカル株式会社
熱電変換材料、熱電変換モジュール、および熱流センサ
2日前
三菱ケミカル株式会社
活性エネルギー線硬化性剥離型粘着剤組成物および粘着シート
4日前
三菱ケミカル株式会社
共重合体、共重合体の製造方法、及び低分子量化合物含浸粒子
15日前
三菱ケミカル株式会社
コーティング組成物、コーティング層を有する構造体、及びその製造方法
5日前
国立大学法人 東京大学
熱電変換材料、熱電変換モジュール、および熱流センサ
2日前
三菱ケミカル株式会社
ポリエステル系粘着剤組成物、粘着剤、粘着シート、および粘着剤層付き光学部材
15日前
株式会社タクマ
固体炭素化設備
15日前
三菱重工業株式会社
加熱装置
15日前
東ソー株式会社
CHA型ゼオライトの製造方法
25日前
東ソー株式会社
CHA型ゼオライトの製造方法
25日前
株式会社トクヤマ
酸性次亜塩素酸水の製造方法
3日前
株式会社小糸製作所
水分解装置
1か月前
日揮触媒化成株式会社
珪酸液およびその製造方法
18日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末
17日前
株式会社小糸製作所
水素発生装置
1か月前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末
17日前
株式会社三井E&S
アンモニア改質装置
25日前
住友化学株式会社
無機アルミニウム化合物粉末
2日前
デンカ株式会社
窒化ケイ素粉末の製造方法
22日前
三菱ケミカル株式会社
槽の洗浄方法及びシリカ粒子の製造方法
23日前
大阪瓦斯株式会社
酸化物複合体
23日前
デンカ株式会社
セラミックス粉末の製造方法
22日前
JFEエンジニアリング株式会社
ドライアイス製造システム
3日前
大阪瓦斯株式会社
水素製造装置及びその運転方法
23日前
アサヒプリテック株式会社
濃縮方法
23日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
23日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
23日前
デンカ株式会社
窒化ホウ素粉末の製造方法
23日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
15日前
アサヒプリテック株式会社
濃縮方法
23日前
トヨタ自動車株式会社
光触媒を用いた水素ガス製造装置
10日前
株式会社レゾナック
球状アルミナ粉末
22日前
日揮触媒化成株式会社
粉体及びその製造方法、並びに樹脂組成物
22日前
東ソー株式会社
アルカリ金属の除去方法
24日前
デゾン・ジャパン株式会社
酸素濃度調整システム
1か月前
続きを見る