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公開番号
2025152623
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-10
出願番号
2024054600
出願日
2024-03-28
発明の名称
精製ガスの製造方法
出願人
三菱ケミカル株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
主分類
B01D
53/22 20060101AFI20251002BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】混合ガス膜分離において、スイープガスを使用したとしても、該スイープガスが透過側から非透過側に向かって透過することを抑止し、高純度の成分をガスとして得ることを可能とする、精製ガスの製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化炭素を含む混合ガスを分離膜に供給し、二酸化炭素を分離膜に透過させることにより、分離する精製ガスの製造方法であって、前記分離膜がゼオライト膜であり、前記分離膜の透過側を窒素または空気にてスイープする、精製ガスの製造方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
二酸化炭素を含む混合ガスを分離膜に供給し、二酸化炭素を分離膜に透過させることにより、分離する精製ガスの製造方法であって、
前記分離膜がゼオライト膜であり、
前記分離膜の透過側を窒素または空気にてスイープする、
精製ガスの製造方法。
続きを表示(約 370 文字)
【請求項2】
前記ゼオライト膜を構成するゼオライトが酸素8員環以下の細孔構造を有する、請求項1に記載の精製ガスの製造方法。
【請求項3】
前記ゼオライト膜が、CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含み、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=17.9°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の0.5倍未満の値を有するものであり、かつ2θ=9.6°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の2.0倍以上4.0倍未満の値を有するものである、請求項1または2に記載の精製ガスの製造方法。
【請求項4】
前記ゼオライトのSiO
2
/Al
2
O
3
が、20以上500以下である、請求項1または2に記載の精製ガスの製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、精製ガスの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)
【背景技術】
【0002】
複数の成分を含む混合ガスから、該混合ガスに含まれる1の成分を濃縮・精製する方法として、深冷分離法や吸着法が実施されてきたが、近年、高分子分離膜を用いた膜分離法も普及してきている。膜分離法による分離の場合、透過側にスイープガスを流すことで、膜を透過する分離対象成分の分圧差を向上させ、分離効率を上げる方法が知られている。
【0003】
非特許文献1には、スイープガスとして窒素ガスまたは水蒸気を使用した、無機多孔質膜による分離方法が記載されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
分離技術シリーズ31「ガス分離膜プロセスの基礎と応用」H27年5月30日発行、著者:原谷賢治、伊藤直次
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
非特許文献1に記載の方法では、スイープガスが透過側から非透過側に向かって透過してしまうが、それを前提として、各シミュレーションがなされている。この場合、非透過側にスイープガスが混入するために、非透過側成分の純度を高めにくいという問題があった。
【0006】
以上より、本願発明は、混合ガス膜分離において、スイープガスを使用したとしても、該スイープガスが透過側から非透過側に向かって透過することを抑止し、高純度の成分をガスとして得ることを可能とする、精製ガスの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討の結果、以下の発明を完成させた。
[1] 二酸化炭素を含む混合ガスを分離膜に供給し、二酸化炭素を分離膜に透過させることにより、分離する精製ガスの製造方法であって、
前記分離膜がゼオライト膜であり、
前記分離膜の透過側を窒素または空気にてスイープする、
精製ガスの製造方法。
【0008】
[2] 前記ゼオライト膜を構成するゼオライトが酸素8員環以下の細孔構造を有する、[1]に記載の精製ガスの製造方法。
【0009】
[3] 前記ゼオライト膜が、CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含み、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=17.9°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の0.5倍未満の値を有するものであり、かつ2θ=9.6°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の2.0倍以上4.0倍未満の値を有するものである、[1]または[2]に記載の精製ガスの製造方法。
【0010】
[4] 前記ゼオライトのSiO
2
/Al
2
O
3
が、20以上500以下である、[1]~[3]のいずれかに記載の精製ガスの製造方法。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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