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公開番号2025146888
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-03
出願番号2025123546,2024509923
出願日2025-07-23,2023-03-03
発明の名称化合物、組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類C07F 7/18 20060101AFI20250926BHJP(有機化学)
要約【課題】基材に対して、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤として有用な新規な化合物等の提供。
【解決手段】下記基1と、アルキレン鎖又はポリアルキレンオキシド鎖である部分構造と、下記基2と、を含む化合物。基1:-SiR¹ ₃。基2:-Si(R²)_nL_3-n。R¹はそれぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、R²はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Lはそれぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基であり、nは0～2の整数である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
下記基１と、炭素数３以上のアルキレン鎖又はポリアルキレンオキシド鎖である部分構造と、下記基２と、を含む化合物。
基１：－Ｍ
１
Ｒ
１
３
基２：－Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
Ｍ
１
は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、
Ｒ
１
はそれぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、Ｒ
２
はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
続きを表示（約 920 文字）【請求項２】
下記式１で表される、請求項１に記載の化合物。
［Ｒ
１
３
Ｓｉ－（Ｏ）
ｒ
－Ｚ］
ｐ
Ａ（Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
）
ｑ
… （１）
式１中、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、ｒは０又は１であり、Ｚは、それぞれ独立に、アルキレン鎖若しくはポリアルキレンオキシド鎖であるか、又は、アルキレン鎖と２価のポリシロキサン残基との組み合わせであり、Ａは、単結合又はｐ＋ｑ価の連結基であり、Ｒ
２
はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基であり、ｎはそれぞれ独立に、０～２の整数であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立に、１以上の整数である。
【請求項３】
前記式１中、Ｚは炭素数１０以上のアルキレン鎖である、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
前記式１中、Ｚは、繰り返し数が３以上のポリアルキレンオキシド鎖である、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
前記式１中、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、トリアルキルシリルオキシ基である、請求項２～４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
前記式１中、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、トリメチルシリルオキシ基又はトリエチルシリルオキシ基である、請求項２～５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
前記式１中、ｐは２～４である、請求項２～６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項８】
前記式１中、ｑは２～４である、請求項２～７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１～８のいずれか１項に記載の化合物と、液状媒体と、を含む組成物。
【請求項１０】
請求項１～８のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、化合物、組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 3,100 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくする技術や、汚れを落としやすくする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、トリアルキルシリル基を少なくとも１つと、加水分解性ケイ素基を２つ以上有する有機ケイ素化合物、及び金属原子に加水分解性基が少なくとも１つ結合している金属化合物を含む組成物が記載されている。特許文献２には、少なくとも１以上の加水分解性基又は水酸基を有する金属系界面活性剤、及び該金属系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機溶媒溶液に、基材を接触させる工程を少なくとも有する、基材表面に有機薄膜を形成する有機薄膜の製造方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１７－１１９８４９号公報
国際公開第２００８／０１６０２９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、表面処理剤等に用いられる組成物には撥水性及び耐摩耗性の観点から、さらなる改良が求められている。
【０００６】
本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材に対して、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤として有用な新規な化合物及び組成物を提供することにある。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材に対して、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤を提供することにある。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を有する物品及び物品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は以下の態様を含む。
＜１＞
下記基１と、アルキレン鎖又はポリアルキレンオキシド鎖である部分構造と、下記基２と、を含む化合物。
基１：－Ｍ
１
Ｒ
１
３
基２：－Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
Ｍ
１
は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、
Ｒ
１
はそれぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、Ｒ
２
はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
＜２＞
下記式１で表される、＜１＞に記載の化合物。
［Ｒ
１
３
Ｓｉ－（Ｏ）
ｒ
－Ｚ］
ｐ
Ａ（Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
）
ｑ
… （１）
式１中、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、ｒは０又は１であり、Ｚは、それぞれ独立に、アルキレン鎖若しくはポリアルキレンオキシド鎖であるか、又は、アルキレン鎖と２価のポリシロキサン残基との組み合わせであり、Ａは、単結合又はｐ＋ｑ価の連結基であり、Ｒ
２
はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基であり、ｎはそれぞれ独立に、０～２の整数であり、ｐ及びｑはそれぞれ独立に、１以上の整数である。
＜３＞
式１中、Ｚは炭素数１０以上のアルキレン鎖である、＜２＞に記載の化合物。
＜４＞
式１中、Ｚは、繰り返し数が３以上のポリアルキレンオキシド鎖である、＜２＞に記載の化合物。
＜５＞
式１中、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、トリアルキルシリルオキシ基である、＜２＞～＜４＞のいずれか１つに記載の化合物。
＜６＞
式１中、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、トリメチルシリルオキシ基又はトリエチルシリルオキシ基である、＜２＞～＜５＞のいずれか１つに記載の化合物。
＜７＞
式１中、ｐは２～４である、＜２＞～＜６＞のいずれか１つに記載の化合物。
＜８＞
式１中、ｑは２～４である、＜２＞～＜７＞のいずれか１つに記載の化合物。
＜９＞
＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の化合物と、液状媒体と、を含む組成物。
＜１０＞
＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の化合物を含む、表面処理剤。
＜１１＞
＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の化合物と、液状媒体と、を含む、表面処理剤。＜１２＞
基材に対して、＜１０＞又は＜１１＞に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜１３＞
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一実施形態によれば、基材に対して、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤として有用な新規な化合物及び組成物が提供される。
本発明の一実施形態によれば、基材に対して、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤が提供される。
本発明の一実施形態によれば、撥水性及び耐摩耗性に優れた表面処理層を有する物品及び物品の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本明細書において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
本明細書において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）若しくは化合物Ｘ、及び基（Ｘ）若しくは基Ｘと記すことがある。
【００１０】
［化合物］
本開示の化合物は、下記基１と、アルキレン鎖又はポリアルキレンオキシド鎖である部分構造と、下記基２と、を含む。
基１：－Ｍ
１
Ｒ
１
３
基２：－Ｓｉ（Ｒ
２
）
ｎ
Ｌ
３－ｎ
Ｍ
１
は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、Ｒ
１
はそれぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、Ｒ
２
はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
（【００１１】以降は省略されています）

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