特許ウォッチ

公開番号2025136589
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-09-19
出願番号2024035274
出願日2024-03-07
発明の名称ワークの姿勢補正装置
出願人株式会社東京ウエルズ
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/68 20060101AFI20250911BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】ワークに傷を付けることなく、かつ正確かつ確実にワークの姿勢を補正する。
【解決手段】ワークの姿勢補正装置10Aは姿勢補正ステージ11と、姿勢補正ステージ駆動機構25とを備える。姿勢補正ステージ11はワークWを吸着する多孔質体12の吸着面12aを有し、この吸着面12aはマスク孔21を有するマスク20により覆われている。
【選択図】図1B
特許請求の範囲【請求項１】
搬送テーブルと、
前記搬送テーブルの外周に吸着ノズル駆動機構を介して取り付けられ、ワークを吸着保持するとともに、上下方向に移動可能な吸着ノズルと、
前記吸着ノズルに吸着された前記ワークの姿勢を撮像する撮像部と、
前記撮像部の下流側に設けられ、Ｘ軸、Ｙ軸、θ軸に沿って移動可能な姿勢補正ステージと、前記姿勢補正ステージを駆動する姿勢補正ステージ駆動機構とを有する姿勢補正部と、
制御部と、を備え、
前記姿勢補正ステージは前記ワークを吸着する吸着面と、前記吸着面を覆うとともに前記ワークが通過可能なマスク孔を有するマスクとを有し、
前記制御部は前記撮像部からの情報に基づいて、前記姿勢補正ステージ駆動機構を制御して、前記姿勢補正ステージを待機位置まで移動させて待機させ、前記吸着ノズルから供給された前記ワークを前記吸着面に吸着させた後、前記姿勢補正ステージ駆動機構を制御して前記姿勢補正ステージを補正位置まで移動させる、ワークの姿勢補正装置。
続きを表示（約 400 文字）【請求項２】
前記マスクの前記マスク孔は、平面視で前記姿勢補正ステージの中心に配置され、
前記吸着面は平面視で円形状をなすとともに、前記マスク孔の中心に対して偏心する、請求項１記載のワークの姿勢補正装置。
【請求項３】
前記ワークは平面視で、矩形状を有し、
前記ワークの外面と前記マスク孔の内面との間に、０．５ｍｍの間隔が形成される、請求項１または２記載のワークの姿勢補正装置。
【請求項４】
前記姿勢補正ステージは、姿勢補正ステージ本体と、前記姿勢補正ステージ本体にブラケットを介して取り付けられ、前記吸着面を形成する多孔質体とを有する、請求項１記載のワークの姿勢補正装置。
【請求項５】
前記ブラケットと前記多孔質体は、前記姿勢補正ステージ本体にスプリングを介して弾性的に支持されている、請求項４記載のワークの姿勢補正装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、電子部品等のワークの姿勢を補正するワークの姿勢補正装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体素子等の電子部品（ワーク）に対して、外観検査、電気特性検査、マーキング処理等の各種工程処理が行われ、検査結果に応じて分類された後、電子部品はキャリアテープなどに収納されて出荷される。外観検査、電気的特性検査、およびマーキング処理は、電子部品の適正な姿勢を前提とし、そのため、これらの工程処理の前段階では、必ずワークの姿勢補正処理が実施される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第５５４４４６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来より電子部品（ワーク）に傷を付けることなく、かつ正確かつ確実にワークの姿勢を補正する装置の開発が求められている。
【０００５】
本開示はこのような点を考慮してなされたものであり、ワークに傷を付けることなく、かつ正確かつ確実にワークの姿勢を補正することができるワークの姿勢補正装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示は、搬送テーブルと、前記搬送テーブルの外周に吸着ノズル駆動機構を介して取り付けられ、ワークを吸着保持するとともに、上下方向に移動可能な吸着ノズルと、前記吸着ノズルに吸着された前記ワークの姿勢を撮像する撮像部と、前記撮像部の下流側に設けられ、Ｘ軸、Ｙ軸、θ軸に沿って移動可能な姿勢補正ステージと、前記姿勢補正ステージを駆動する姿勢補正ステージ駆動機構とを有する姿勢補正部と、制御部と、を備え、前記姿勢補正ステージは前記ワークを吸着する吸着面と、前記吸着面を覆うとともに前記ワークが通過可能なマスク孔を有するマスクとを有し、前記制御部は前記撮像部からの情報に基づいて、前記姿勢補正ステージ駆動機構を制御して、前記姿勢補正ステージを待機位置まで移動させて待機させ、前記吸着ノズルから供給された前記ワークを前記吸着面に吸着させた後、前記姿勢補正ステージ駆動機構を制御して前記姿勢補正ステージを補正位置まで移動させる、ワークの姿勢補正装置である。
【０００７】
本開示は、前記マスクの前記マスク孔は、平面視で前記姿勢補正ステージの中心に配置され、前記吸着面は平面視で円形状をなすとともに、前記マスク孔の中心に対して偏心する、ワークの姿勢補正装置である。
【０００８】
本開示は、前記ワークは平面視で、矩形状を有し、前記ワークの外面と前記マスク孔の内面との間に、略０．５ｍｍの間隔が形成される、ワークの姿勢補正装置である。
【０００９】
本開示は、前記姿勢補正ステージは、姿勢補正ステージ本体と、前記姿勢補正ステージ本体にブラケットを介して取り付けられ、前記吸着面を形成する多孔質体とを有する、ワークの姿勢補正装置である。
【００１０】
本開示は、前記ブラケットと前記多孔質体は、前記姿勢補正ステージ本体にスプリングを介して弾性的に支持されている、ワークの姿勢補正装置である。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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