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公開番号2025100018
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2023217093
出願日2023-12-22
発明の名称装飾部材、および装飾部材の製造方法
出願人株式会社ヒタチ,株式会社東京鋲兼
代理人弁理士法人湘洋特許事務所
主分類C23C 14/06 20060101AFI20250626BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】効率的に高品質なまだら模様を形成でき、耐久性に優れた装飾部材を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る装飾部材は、基材と、基材の上方に、物理蒸着により形成された表面被膜層と、を備え、前記表面被膜層には、複数のクレーター状の凹部によるまだら模様が形成されている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基材と、
前記基材の上方に、物理蒸着により形成された表面被膜層と、を備え、
前記表面被膜層には、複数のクレーター状の凹部によるまだら模様が形成されている
ことを特徴とする装飾部材。
続きを表示（約 950 文字）【請求項２】
前記基材上に形成された、窒化チタンを含む第１層と、
前記第１層上に形成されて前記表面被膜層を構成する、炭窒化チタンを含む第２層と、を備える
ことを特徴とする請求項１に記載の装飾部材。
【請求項３】
前記表面被膜層は、イオンプレーティングにより形成される
ことを特徴とする請求項１または２に記載の装飾部材。
【請求項４】
前記表面被膜層において、単位面積当たり１０～５０％前記凹部が形成されている
ことを特徴とする請求項３に記載の装飾部材。
【請求項５】
前記表面被膜層に形成されている前記複数の凹部の少なくとも一部は、イオンプレーティングにおいて発生したドロップレットの脱落痕である
ことを特徴とする請求項３に記載の装飾部材。
【請求項６】
前記装飾部材は、ネジ部材である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の装飾部材。
【請求項７】
物理蒸着により、基材の上方に、複数のドロップレットを含む表面被膜層を形成する工程と、
前記表面被膜層に、前記複数のドロップレットの少なくとも一部の脱落による複数のクレーター状の凹部が生じるよう研磨し、まだら模様を形成する工程と、を有する
装飾部材の製造方法。
【請求項８】
イオンプレーティングにより、前記基材上に、窒化チタンを含む第１層を形成する工程と、
イオンプレーティングにより、前記第１層上に、炭窒化チタンを含む第２層を形成して前記表面被膜層とする工程と、を有する
請求項７に記載の装飾部材の製造方法。
【請求項９】
前記表面被膜層を形成する工程では、単位面積当たり１０～５０％ドロップレットが発生するように、イオンプレーティングを施す
請求項７または８に記載の装飾部材の製造方法。
【請求項１０】
前記表面被膜層を形成する工程では、ドロップレットの発生を可能な限り抑える通常の物理蒸着に比べ、バイアス電圧を低く設定する
請求項７または８に記載の装飾部材の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、装飾部材、および装飾部材の製造方法に関する。
続きを表示（約 830 文字）【背景技術】
【０００２】
表面にまだら模様を形成する処理を施した装飾品が開発されている。
【０００３】
例えば特許文献１では、イオンプレーティング被膜により積層した最上層を研磨によって部分的に除去することで、まだら模様のいぶし調金属面を形成している（図１等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平４－２１４８９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが上記のような金属面は、イオンプレーティング被膜を部分的に除去するのに手間がかかるだけでなく、下地のメッキ層が傷つき耐久性が損なわれる場合がある。
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一つを解決するためのものであり、効率的に高品質なまだら模様を形成でき、かつ、耐久性に優れた装飾部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願は、上記課題の少なくとも一部を解決する手段を複数含んでいるが、その例を挙げるならば、以下のとおりである。上記の課題を解決する本発明の一態様に係る装飾部材は、基材と、前記基材の上方に、物理蒸着により形成された表面被膜層と、を備え、前記表面被膜層には、複数のクレーター状の凹部によるまだら模様が形成されている。
【０００８】
上記装飾部材は、前記基材上に形成された、窒化チタンを含む第１層と、前記第１層上に形成されて前記表面被膜層を構成する、炭窒化チタンを含む第２層と、を備えていてもよい。
【０００９】
前記表面被膜層は、イオンプレーティングにより形成されていてもよい。
【００１０】
前記表面被膜層において、単位面積当たり１０～５０％前記凹部が形成されていてもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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