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公開番号2025099530
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2023216244
出願日2023-12-21
発明の名称円盤状基板の製造方法、及び磁気記録媒体
出願人株式会社レゾナック・ハードディスク
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類G11B 5/84 20060101AFI20250626BHJP(情報記憶)
要約【課題】めっき層の平坦性、及び化学強化層の厚さの均一性に優れる円盤状基板の製造方法、及び磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】研削液にて研削加工された円盤状基板を、(1)加熱、(2)有機溶剤での洗浄、及び(3)紫外線照射処理からなる群より選択される少なくとも一つの処理を行って、前記円盤状基板の表面における前記研削液の高分子成分の少なくとも一部を除去する、円盤状基板の製造方法。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
研削液にて研削加工された円盤状基板を、（１）加熱、（２）有機溶剤での洗浄、及び（３）紫外線照射処理からなる群より選択される少なくとも一つの処理を行って、前記円盤状基板の表面における前記研削液の高分子成分の少なくとも一部を除去する、円盤状基板の製造方法。
続きを表示（約 330 文字）【請求項２】
前記研削液が、油性剤、極圧添加剤、界面活性剤、防腐剤及び消泡剤からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１に記載の円盤状基板の製造方法。
【請求項３】
前記円盤状基板が、アルミニウム基板、アルミニウム合金基板、又はガラス基板である、請求項１又は請求項２に記載の円盤状基板の製造方法。
【請求項４】
前記処理を行った後の前記円盤状基板の表面の水接触角が、４５°以下である、請求項１又は請求項２に記載の円盤状基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載の製造方法によって得られる円盤状基板と、
前記円盤状基板上に設けられる磁性層と、
を有する、磁気記録媒体。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、円盤状基板の製造方法、及び磁気記録媒体に関する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に用いられる磁気記録媒体には円盤状基板が用いられており、円盤状基板としては、一般的に、アルミニウム基板又はアルミニウム合金基板が用いられ、近年ではガラス基板の需要も増えつつある。
【０００３】
円盤状基板は、中心に円形の貫通孔を有するドーナツ形に加工され、主面及び端面に対して研削液を用いて研削加工が施される。研削加工された円盤状基板は、次工程で、アルミニウム基板及びアルミニウム合金基板ではめっき液（例えば、特許文献１参照。）を用いて、ガラス基板では化学強化液（例えば、特許文献２参照。）等を用いて、それぞれ表面処理される。これらの処理後に、磁性層が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２０－１０７３８２号公報
国際公開第２０１５／０４１３０１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の表面処理によって得られるめっき層及び化学強化層は、厚さの均一性が低い場合がある。
めっき層の厚さの均一性が低く平坦性に優れない場合、めっき層上に設ける磁性層はめっき層の表面形状に追従して平坦性が低下し、磁気ヘッド素子による書き込み性及び読み出し性が低下する。
また、化学強化層の厚さの均一性が低く、化学強化層の薄い部分が存在すると、その部分からガラス基板が割れやすくなるといった不具合が生じる。特に近年では、磁気記録媒体の薄型化が求められており、ガラス基板が割れやすい状況となっている。
そこで本開示では、めっき層の平坦性、及び化学強化層の厚さの均一性に優れる円盤状基板の製造方法、及び磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００６】
本開示は、以下の形態を含む。
＜１＞研削液にて研削加工された円盤状基板を、（１）加熱、（２）有機溶剤での洗浄、及び（３）紫外線照射処理からなる群より選択される少なくとも一つの処理を行って、前記円盤状基板の表面における前記研削液の高分子成分の少なくとも一部を除去する、円盤状基板の製造方法。
＜２＞前記研削液が、油性剤、極圧添加剤、界面活性剤、防腐剤及び消泡剤からなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞に記載の円盤状基板の製造方法。
＜３＞前記円盤状基板が、アルミニウム基板、アルミニウム合金基板、又はガラス基板である、＜１＞又は＜２＞に記載の円盤状基板の製造方法。
＜４＞前記処理を行った後の前記円盤状基板の表面の水接触角が、４５°以下である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の円盤状基板の製造方法。
＜５＞＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の製造方法によって得られる円盤状基板と、
前記円盤状基板上に設けられる磁性層と、
を有する、磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、めっき層の平坦性、及び化学強化層の厚さの均一性に優れる円盤状基板の製造方法、及び磁気記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示に係る円盤状基板を磁気記録媒体用基板として適用するアシスト磁気記録媒体の一例を示す断面模式図である。
本開示に係る磁気記録媒体を用いる磁気記憶装置の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。但し、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示を制限するものではない。
本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において「層」との語には、当該層が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
【００１０】
＜円盤状基板の製造方法＞
本開示の円盤状基板の製造方法は、研削液にて研削加工された円盤状基板を、（１）加熱、（２）有機溶剤での洗浄、及び（３）紫外線照射処理からなる群より選択される少なくとも一つの処理を行って、前記円盤状基板の表面における前記研削液の高分子成分の少なくとも一部を除去する。
上記構成を有する製造方法において、上記課題が解決される理由は以下のように考えられる。
（【００１１】以降は省略されています）

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