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公開番号2025077363
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-19
出願番号2023189490
出願日2023-11-06
発明の名称反射型位相差構造体およびその製造方法
出願人ウシオ電機株式会社
代理人個人,個人
主分類G02B 5/30 20060101AFI20250512BHJP(光学)
要約【課題】広帯域で均一な特性を有する反射型位相差構造体を提供する。
【解決手段】反射型位相差構造体200は、金属反射層210および異方構造層230の積層構造を有する。異方構造層230は、アルミニウム系金属を材料とする複数の金属構成要素232と、複数の金属構成要素232の間を充填する誘電体充填部材234を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
金属反射層と、
アルミニウム系金属を材料とする複数の金属構成要素および前記複数の金属構成要素のギャップを埋める誘電体充填部材を含む異方構造層と、
を備えることを特徴とする反射型位相差構造体。
続きを表示（約 560 文字）【請求項２】
前記異方構造層の上層に形成される誘電体保護層をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の反射型位相差構造体。
【請求項３】
前記誘電体充填部材と前記誘電体保護層は同一材料であることを特徴とする請求項２に記載の反射型位相差構造体。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の反射型位相差構造体の製造方法であって、
前記誘電体充填部材を、原子層堆積法により形成する工程を備えることを特徴とする製造方法。
【請求項５】
金属層を形成する工程と、
前記金属層の上にアルミニウム系金属を材料とする複数の金属構成要素を含む異方構造層を形成する工程と、
原子層堆積法により、前記複数の金属構成要素のギャップを埋める誘電体充填部材を形成する工程と、
を備えることを特徴とする反射型位相差構造体の製造方法。
【請求項６】
前記異方構造層を形成する工程は、
前記金属層の上側にドライエッチング用のマスク構造を露光工程により形成する工程と、
前記マスク構造を用いてドライエッチングにより前記金属層をパターニングする工程と、
を含むことを特徴とする請求項５に記載の反射型位相差構造体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、反射型位相差構造体に関する。
続きを表示（約 920 文字）【背景技術】
【０００２】
光学分野において、光の位相制御は重要な技術である。光の位相を制御する光学部材として、１／４波長板や１／２波長板などの波長板が広く用いられる。
【０００３】
物体表面に、微細加工により異方的な構造を形成することにより、位相差板の機能を実現できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１５－２１０４７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来において、反射型の位相差構造体は、使用する材料によって波長特性が決まってしまうため、広帯域で均一な特性を得ることが難しいという問題があった。
【０００６】
本開示は係る課題に鑑みてなされたものであり、そのある態様の例示的な目的のひとつは、広帯域で均一な特性を有する反射型位相差構造体の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示のある態様は、反射型位相差構造体に関する。反射型位相差構造体は、金属反射層と、アルミニウム系金属を材料とする複数の金属構成要素および複数の金属構成要素のギャップを埋める誘電体充填部材を含む異方構造層と、を備える。
【０００８】
本開示の別の態様は、反射型位相差構造体の製造方法に関する。製造方法は、金属層を形成する工程と、金属層の上にアルミニウム系金属を材料とする複数の金属構成要素を含む異方構造層を形成する工程と、原子層堆積法により、複数の金属構成要素のギャップを埋める誘電体充填部材を形成する工程と、を備える。
【０００９】
なお、以上の構成要素を任意に組み合わせたもの、本開示の構成要素や表現を、方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本開示の態様として有効である。
【発明の効果】
【００１０】
本開示のある態様によれば、広帯域で均一な特性を有する反射型位相差構造体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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