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公開番号2025078932
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-21
出願番号2023191249
出願日2023-11-09
発明の名称光走査装置
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G02B 26/10 20060101AFI20250514BHJP(光学)
要約【課題】被走査面上におけるスポットの径及び照度の像高に応じた変化を抑制すると共に、ゴースト光の生成を抑制することができる光走査装置を提供する。
【解決手段】主走査断面内において、偏向器の偏向面に入射するときの第1の光束の幅は偏向面の幅よりも大きく、第1の被走査面内において、第1の結像光学系の光軸に対して第1の入射光学系が配置されている一方の側の第1の走査領域は、第1の入射光学系が配置されていない他方の側の第2の走査領域よりも長く、偏向器の偏向面の数をN、主走査断面内における第1の入射光学系の光軸と第1の結像光学系の光軸とのなす角度をα₁(度)、偏向面の走査角度の最大幅に対する、第1及び第2の走査領域に対応する走査角度の幅の比の値をDuty₁としたとき、
(720/N)×(2×Duty₁+1)/3<α₁<720/N
なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
第１の光源からの第１の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する複数の偏向面を有する偏向器と、
前記第１の光源からの前記第１の光束を前記複数の偏向面に入射させる第１の入射光学系と、
前記複数の偏向面によって偏向された前記第１の光束を前記第１の被走査面に導光する第１の結像光学系とを備え、
主走査断面内において、前記複数の偏向面の夫々に入射するときの前記第１の光束の幅は該複数の偏向面の夫々の幅よりも大きく、
前記第１の被走査面内において、前記第１の結像光学系の光軸に対して前記第１の入射光学系が配置されている一方の側の第１の走査領域は、前記第１の入射光学系が配置されていない他方の側の第２の走査領域よりも長く、
前記複数の偏向面の数をＮ、主走査断面内における前記第１の入射光学系の光軸と前記第１の結像光学系の前記光軸とのなす角度をα
１
（度）、前記複数の偏向面の夫々の走査角度の最大幅に対する、前記第１及び第２の走査領域に対応する走査角度の幅の比の値をＤｕｔｙ
１
としたとき、
（７２０／Ｎ）×（２×Ｄｕｔｙ
１
＋１）／３＜α
１
＜７２０／Ｎ
なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
続きを表示（約 910 文字）【請求項２】
前記第１の入射光学系に含まれる各光学素子は、前記第１の結像光学系の前記光軸に平行な方向において、前記第１の結像光学系に含まれる少なくとも一つの結像光学素子のうち前記偏向器に最も近接して配置されている前記結像光学素子の出射面に対して前記偏向器の反対側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記第１の入射光学系に含まれる各光学素子は、主走査方向において前記第１の結像光学系に含まれる各結像光学素子と、前記第１の走査領域の最軸外像高との間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記第１の結像光学系の主走査断面内における屈折力は、軸上光束が通過する位置から最軸外光束が通過する位置に向けて単調に減少することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項５】
（７２０／Ｎ）×（Ｄｕｔｙ
１
＋１）／２＜α
１
＜７２０／Ｎ
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項６】
主走査方向において前記第１の結像光学系に含まれる各光学素子と、前記第１の走査領域の最軸外像高との間に配置されている前記第１の光源を備えることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記第１の入射光学系は、前記第１の光束を反射する反射光学素子を有していないことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項８】
Ｎ≧９
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記第１の被走査面における前記第１の光束の走査速度は、軸上像高から最軸外像高に向けて単調に増大することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記第１の入射光学系及び前記第１の結像光学系それぞれの前記光軸は、主走査断面に平行であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置に関し、特に電子写真プロセスを有するレーザビームプリンタやマルチファンクションプリンタ（多機能プリンタ）等の画像形成装置に好適に用いられる光走査装置に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、光走査装置では、印字の高速化及び高精細化を達成するために偏向器を小型化且つ多面化させたオーバーフィルドスキャン（ＯＦＳ）方式を採るものが知られている。
またそのようなＯＦＳ方式を採る光走査装置では、偏向器の偏向面による走査角度に応じて当該偏向面によって偏向される光束の光束幅が変化することで、被走査面上に形成されるスポットの径及び照度が像高に応じて変化する虞が有ることが知られている。
【０００３】
特許文献１は、結像光学系の光軸に平行な方向から光束を偏向器に入射させ、偏向面の走査角度の変化を抑制することによって光束幅の変化を抑制することで、被走査面上におけるスポットの径及び照度の像高に応じた変化を抑制する光走査装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００７－１７１９７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示されている光走査装置では、主走査断面内において偏向面の幅よりも広い光束幅を有する光束を用いているため、所定の偏向面が当該光束を偏向する際に当該所定の偏向面に隣接する偏向面も当該光束を偏向する場合がある。
このとき、例えば隣接する偏向面によって偏向された光束が反射光学素子によって反射されると所定の偏向面によって偏向された当該光束が導光される被走査面とは異なる被走査面にゴースト光として入射する虞がある。
【０００６】
そして、そのように被走査面にゴースト光が入射してしまうと光走査装置が搭載される画像形成装置において形成される画像の画質が低下する虞がある。
そこで本発明は、被走査面上におけるスポットの径及び照度の像高に応じた変化を抑制すると共に、ゴースト光の生成を抑制することができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る光走査装置は、第１の光源からの第１の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する複数の偏向面を有する偏向器と、第１の光源からの第１の光束を複数の偏向面に入射させる第１の入射光学系と、複数の偏向面によって偏向された第１の光束を第１の被走査面に導光する第１の結像光学系とを備え、主走査断面内において、複数の偏向面の夫々に入射するときの第１の光束の幅は複数の偏向面の夫々の幅よりも大きく、第１の被走査面内において、第１の結像光学系の光軸に対して第１の入射光学系が配置されている一方の側の第１の走査領域は、第１の入射光学系が配置されていない他方の側の第２の走査領域よりも長く、複数の偏向面の数をＮ、主走査断面内における第１の入射光学系の光軸と第１の結像光学系の光軸とのなす角度をα
１
（度）、複数の偏向面の夫々の走査角度の最大幅に対する、第１及び第２の走査領域に対応する走査角度の幅の比の値をＤｕｔｙ
１
としたとき、
（７２０／Ｎ）×（２×Ｄｕｔｙ
１
＋１）／３＜α
１
＜７２０／Ｎ
なる条件を満たすことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、被走査面上におけるスポットの径及び照度の像高に応じた変化を抑制すると共に、ゴースト光の生成を抑制することができる光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第一実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面内展開図。
第一実施形態に係る光走査装置のポリゴンミラーの近傍における模式的主走査断面図。
第一実施形態に係る光走査装置におけるスポット径比率、スポット移動速度及びスポット径の変化並びに走査特性を示した図。
第二実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面内展開図。
第二実施形態に係る光走査装置におけるスポット径比率及びスポット径の変化を示した図。
第三実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面内展開図。
第三実施形態に係る光走査装置におけるスポット径比率及びスポット径の変化を示した図。
第四実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面内展開図。
第五実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面内展開図。
第六実施形態に係る光走査装置の模式的主走査断面内展開図。
第六実施形態に係る光走査装置の模式的副走査断面図。
実施形態に係る画像形成装置の要部副走査断面図。
特許文献１に開示されている光走査装置の一部模式的主走査断面内展開図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本実施形態に係る光走査装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。
（【００１１】以降は省略されています）

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