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公開番号2025064258
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-17
出願番号2023173863
出願日2023-10-05
発明の名称フィルタ洗浄方法
出願人株式会社SUMCO
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250410BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】未使用のフィルタから発生するパーティクルを効率的に低減できるフィルタ洗浄方法を提供する。
【解決手段】フッ素樹脂製のフィルタを第1洗浄液としてのオゾン水で洗浄処理する第1洗浄工程と、前記第1洗浄工程後の前記フィルタを第2洗浄液としての酸含有液又はアルカリ含有液で洗浄処理する第2洗浄工程とを有する、フィルタ洗浄方法。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
フッ素樹脂製のフィルタを第１洗浄液としてのオゾン水で洗浄処理する第１洗浄工程と、
前記第１洗浄工程後の前記フィルタを第２洗浄液としての酸含有液又はアルカリ含有液で洗浄処理する第２洗浄工程とを有する、フィルタ洗浄方法。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記第１洗浄工程における前記第１洗浄液のオゾン濃度は５ｐｐｍ以上４０ｐｐｍ以下であり、前記第１洗浄工程における前記第１洗浄液の流量は２Ｌ／ｍｉｎ以上２０Ｌ／ｍｉｎ以下である、請求項１に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項３】
前記第１洗浄工程において前記第１洗浄液を前記フィルタに対して１時間以上通過させる、請求項１に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項４】
前記第２洗浄液は、フッ化水素酸、又は、アンモニアと過酸化水素とを含む水溶液である、請求項１に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項５】
前記第２洗浄工程は、前記第２洗浄液を前記フィルタに対して通過させ、通過後の前記第２洗浄液を前記フィルタに循環させる第２洗浄液循環工程を有する、請求項１に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項６】
前記第２洗浄工程は、前記第２洗浄液を純水に置換して、前記純水を前記フィルタに通過させる純水供給工程と、前記純水供給工程後の純水中のパーティクル個数を測定するパーティクル測定工程と、前記パーティクル測定工程での測定結果から前記パーティクル個数の減衰量を算出する算出工程とを有し、
第２洗浄液循環工程、純水供給工程、パーティクル測定工程及び算出工程は、前記減衰量が所定の基準に達するまでこの順に繰り返し行われる、請求項５に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項７】
前記フィルタはＰＴＦＥ膜である、請求項１に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項８】
請求項１～７の何れか１項に記載のフィルタ洗浄方法によって前記フィルタを洗浄するフィルタ洗浄工程を有し、
前記フィルタ洗浄工程によって洗浄処理された前記フィルタを用いてシリコンウェーハを洗浄するシリコンウェーハ洗浄方法。
【請求項９】
前記フィルタ洗浄工程によって洗浄処理された前記フィルタを用いてシリコンウェーハを洗浄するシリコンウェーハ洗浄工程は、第３洗浄液を前記フィルタに対して通過させ、通過後の前記第３洗浄液を前記フィルタに循環させる第３洗浄液循環工程を有し、
前記フィルタ洗浄工程の前記第２洗浄工程で前記フィルタに通す前記第２洗浄液は、前記第３洗浄液と同じ成分からなる、請求項８に記載のシリコンウェーハ洗浄方法。
【請求項１０】
前記フィルタ洗浄工程の前記第２洗浄工程で前記フィルタに対して通過させる前記第２洗浄液の水以外の前記成分の濃度は、前記第３洗浄液の当該成分の濃度より大きく、前記第２洗浄液の前記水以外の前記成分が複数ある場合、前記第２洗浄液の前記水以外の各々の前記成分の前記濃度は、前記第３洗浄液の当該成分の前記濃度より大きい、請求項９に記載のシリコンウェーハ洗浄方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明はフィルタ洗浄方法に関する。
続きを表示（約 840 文字）【背景技術】
【０００２】
シリコンウェーハを洗浄するシリコンウェーハ洗浄工程で用いられるフィルタが知られている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１５－１３９７３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
未使用のフィルタをシリコンウェーハの洗浄などに用いる時は、フィルタから発生するメタルなどのパーティクルを予め低減させることが好ましい。
【０００５】
そこで本発明の目的は、未使用のフィルタから発生するパーティクルを効率的に低減できるフィルタ洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様は以下のとおりである。
【０００７】
［１］
フッ素樹脂製のフィルタを第１洗浄液としてのオゾン水で洗浄処理する第１洗浄工程と、
前記第１洗浄工程後の前記フィルタを第２洗浄液としての酸含有液又はアルカリ含有液で洗浄処理する第２洗浄工程とを有する、フィルタ洗浄方法。
【０００８】
［２］
前記第１洗浄工程における前記第１洗浄液のオゾン濃度は５ｐｐｍ以上４０ｐｐｍ以下であり、前記第１洗浄工程における前記第１洗浄液の流量は２Ｌ／ｍｉｎ以上２０Ｌ／ｍｉｎ以下である、［１］に記載のフィルタ洗浄方法。
【０００９】
［３］
前記第１洗浄工程において前記第１洗浄液を前記フィルタに対して１時間以上通過させる、［１］又は［２］に記載のフィルタ洗浄方法。
【００１０】
［４］
前記第２洗浄液は、フッ化水素酸、又は、アンモニアと過酸化水素とを含む水溶液である、［１］～［３］の何れか１項に記載のフィルタ洗浄方法。
（【００１１】以降は省略されています）

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