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公開番号2025021994
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-14
出願番号2023126167
出願日2023-08-02
発明の名称液晶滴下工法用シール剤、これを用いた液晶表示パネル、および液晶表示パネルの製造方法
出願人三井化学株式会社
代理人弁理士法人鷲田国際特許事務所
主分類G02F 1/1339 20060101AFI20250206BHJP(光学)
要約【課題】液晶を汚染し難く、活性エネルギー線の照射によって硬化させることが可能であり、基板との接着強度が高く、さらに透湿性が低い封止材を形成可能な液晶滴下工法用シール剤を提供すること。
【解決手段】上記課題を解決する液晶滴下工法用シール剤は、硬化性化合物と、活性エネルギー線の照射により、グアニジン系化合物を生成する光塩基発生剤と、光増感剤と、チオール基を有する硬化促進剤と、を含み、前記硬化性化合物は、エポキシ基を有するエポキシ系化合物を含む。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
硬化性化合物と、
活性エネルギー線の照射により、グアニジン系化合物を生成する光塩基発生剤と、
光増感剤と、
チオール基を有する硬化促進剤と、
を含み、
前記硬化性化合物は、エポキシ基を有するエポキシ系化合物を含む、
液晶滴下工法用シール剤。
続きを表示（約 820 文字）【請求項２】
前記光塩基発生剤の量が、前記硬化性化合物１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下である、
請求項１に記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項３】
前記硬化促進剤の量が、前記硬化性化合物１００質量部に対して０．５質量部以上５０質量部以下である、
請求項１に記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項４】
前記光増感剤の量が、前記光塩基発生剤の量１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、
請求項１に記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項５】
前記硬化促進剤は、１級チオール化合物である、
請求項１に記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項６】
前記硬化性化合物が、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物をさらに含む、
請求項１に記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項７】
一対の基板と、
前記一対の基板間に挟み込まれた液晶層と、
前記一対の基板間に配置され、前記液晶層を封止するための枠状の封止材と、
を有する液晶表示パネルであり、
前記封止材が請求項１～６のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用シール剤の硬化物である、
液晶表示パネル。
【請求項８】
一対の基板を準備する工程と、
一方の基板上に、請求項１～６のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用シール剤を塗布し、枠状封止パターンを形成する工程と、
前記枠状封止パターンが未硬化の状態で、前記枠状封止パターンの内側、および／または他方の基板の対応する領域に、液晶材料を滴下する工程と、
前記一対の基板を、前記液晶材料を介して重ね合わせ、前記枠状封止パターンに活性エネルギー線を照射する工程と、
を含む、液晶表示パネルの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶滴下工法用シール剤、これを用いた液晶表示パネル、および液晶表示パネルの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
各種表示を行うための液晶表示パネルは、通常、一対の基板と、これらの間に配置された枠状の封止材と、当該封止材で囲まれた領域内に封入された液晶材料とを有する。このような液晶表示パネルの製造方法の一つに、液晶滴下工法がある。
【０００３】
液晶滴下工法では、一対の基板の一方に、ディスペンス法により液晶シール剤を塗布し、矩形状の枠状封止パターンを作製する。次いで、液晶シール剤が未硬化の状態で、枠状封止パターン内、および／または他方の基板の対応する領域に、液晶材料を滴下する。そして、真空下で基板どうしを貼り合わせ、枠状封止パターンに紫外線等の活性エネルギー線を照射して仮硬化を行う。その後、加熱して本硬化を行い、液晶表示パネルを作製する。このような液晶表示パネルの液晶シール剤としては、光硬化性化合物、熱硬化性化合物、光重合開始剤、および熱硬化剤を含む樹脂組成物が多く知られている（例えば特許文献１）。また、保存安定性を高めたり、液晶への汚染を低減したりするため、熱硬化剤の代わりに、光塩基発生剤を使用することも提案されている（例えば特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１１－１０２９１２号公報
特開２０１３－０１１８８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、脱炭素化など、環境配慮のために、低消費エネルギーで各種製品を製造することが求められており、液晶表示パネルにおいても、より低消費エネルギーで作製することが求められている。
【０００６】
例えば、上記液晶滴下工法における液晶表示パネルの製造時に、液晶シール剤を活性エネルギー線の照射のみによって硬化させることができれば、消費エネルギーを低減でき、さらにプロセスを簡略化できる。しかしながら、従来の液晶シール剤の組成から、熱硬化性化合物や熱硬化剤を除くと、得られる封止材の低透湿性を実現し難く、得られる液晶表示パネルに不具合が生じることがあった。また、基板と封止材との接着強度という観点でも、不具合が生じることがあった。さらに、上記接着強度や低透湿性を実現するため、様々な成分を添加すると、これらの成分が液晶に滲出し、液晶が汚染されてしまうという課題もあった。つまり、液晶シール剤を活性エネルギー線の照射のみで硬化させるように液晶シール剤を設計することは難しかった。
【０００７】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものである。液晶を汚染し難く、活性エネルギー線の照射によって硬化させることが可能であり、さらに基板との接着強度が高く、かつ透湿性が低い封止材を形成可能な液晶滴下工法用シール剤、これを用いた液晶表示パネル、および液晶表示パネルの製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、硬化性化合物と、活性エネルギー線の照射により、グアニジン系化合物を生成する光塩基発生剤と、光増感剤と、チオール基を有する硬化促進剤と、を含み、前記硬化性化合物は、エポキシ基を有するエポキシ系化合物を含む、液晶滴下工法用シール剤を提供する。
【０００９】
本発明は、一対の基板と、前記一対の基板間に挟み込まれた液晶層と、前記一対の基板間に配置され、前記液晶層を封止するための枠状の封止材と、を有する液晶表示パネルであり、前記封止材が上記液晶滴下工法用シール剤の硬化物である、液晶表示パネルをさらに提供する。
【００１０】
本発明はさらに、一対の基板を準備する工程と、一方の基板上に、上述の液晶滴下工法用シール剤を塗布し、枠状封止パターンを形成する工程と、前記枠状封止パターンが未硬化の状態で、前記枠状封止パターンの内側、および／または他方の基板の対応する領域に、液晶材料を滴下する工程と、前記一対の基板を、前記液晶材料を介して重ね合わせ、前記枠状封止パターンに活性エネルギー線を照射する工程と、を含む、液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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