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公開番号2025016476
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-04
出願番号2024174023,2022514696
出願日2024-10-03,2020-08-18
発明の名称膜用途におけるシリカスケール防止剤組成物およびシリカスケール抑制方法
出願人ビーエル テクノロジーズ、インコーポレイテッド
代理人個人,個人,個人
主分類B01D 65/08 20060101AFI20250128BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】膜用途に用いるスケール防止剤組成物および膜システムにおけるスケール形成を抑制する方法を提供する。
【解決手段】スケール防止剤組成物は、シリカ抑制剤組成物と分散剤組成物とを有する。スケール形成を抑制する方法は、スケール防止剤組成物を準備し、前記スケール防止剤組成物は、シリカ抑制剤および分散剤を有し、ならびに水系の水性流にスケール防止剤組成物を添加することを含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
スケール防止剤組成物であって、前記組成物は、
シリカ抑制剤組成物と、
分散剤組成物と、
を含む、スケール防止剤組成物。
続きを表示(約 730 文字)【請求項2】
前記シリカ抑制剤組成物は、有機リン酸、ホスホン酸ベース化合物またはカルボン酸ス
ルホン化コポリマーを含む、請求項1に記載の組成物。
【請求項3】
前記有機リン酸は、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸である、請求項
2に記載の組成物。
【請求項4】
前記シリカ抑制剤は、約5~40%の活性物質の濃度で存在する、請求項1に記載の組
成物。
【請求項5】
前記分散剤組成物は、スルホン化アクリル酸ポリマーを含む、請求項1に記載の組成物

【請求項6】
前記スルホン化アクリル酸ポリマーは、化学式
JPEG
2025016476000007.jpg
53
102
によって特徴付けられる繰り返し単位を含み、
ここで、nは、約1~100の範囲であり、Zは、H、Na、K、CaまたはNH

であ
る、
請求項1に記載の組成物。
【請求項7】
nは、約1~20である、請求項6に記載の組成物。
【請求項8】
Zは、c、dおよびeにおいて同じであり得、あるいは異なり得る、請求項6に記載の
組成物。
【請求項9】
c:d:eのモル比は、約20:10:1~1:1:20の範囲である、請求項6に記
載の組成物。
【請求項10】
前記スルホン化アクリル酸ポリマーの分子量は、約10,000~約30,000の範
囲である、請求項6に記載の組成物。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
(関連出願の相互参照)
本出願は、2019年9月6日に出願された米国仮特許出願番号62/896,939
号明細書の優先権を主張し、その全体を参照により本明細書に援用する。
続きを表示(約 1,400 文字)【0002】
(技術分野)
本開示の技術は、概して、膜用途におけるシリカスケール抑制のための組成物および方
法、より具体的には、高シリカ水膜用途におけるシリカスケール抑制のための膜シリカス
ケール防止剤および方法を提供する。
【背景技術】
【0003】
膜淡水化産業では、従事者は、一般に、運用コストを節約するためにより高い回収率で
膜システムを実行し濃縮物処分を減らす。しかしながら、この目標は、シリカの濃度が上
昇した水では非常に困難である。高濃度のシリカを使用すると、シリカスケールまたはシ
リカ堆積物の蓄積によって、生産性の低下、製品品質の低下、予定外のダウンタイムおよ
び頻繁な膜定置洗浄(CIP)操作が発生する。加えて、シリカスケールが膜表面に形成
されると、除去することはほぼ不可能である。
【0004】
膜システムにおけるシリカスケールは非常に複雑で、多くの要因(例えば、シリカレベ
ル、pH値、温度、その他の金属イオン、システムの作動条件など)の影響を受ける。そ
の中で、シリカレベルおよびpH値は最も重要な2つの要素である。概して、システムの
回収率を改善し、膜用途における高シリカ水処理のための濃縮物処分を減らすための2つ
のアプローチがある。第1のアプローチは、酸の添加によって供給のpHを調整すること
である。しかしながら、酸の追加は、追加の供給/計量ポンプ、濃酸の体/皮膚の接触の
取り扱い(潜在的な安全性の問題)、蒸気の吸引などが必要である。第2のアプローチは
、非常に効果的なシリカスケール防止剤を投与することである。
【0005】
したがって、当技術分野で必要とされるのは、高シリカ水膜用途におけるシリカスケー
ル抑制のための組成物および方法である。
【発明の概要】
【0006】
本開示の技術は、概して、膜用途におけるシリカスケール抑制のための組成物および方
法、より具体的には、高シリカ水膜用途におけるシリカスケール抑制のための膜シリカス
ケール防止剤および方法を提供する。
【0007】
本開示の技術の一態様では、スケール防止剤組成物が提供される。スケール防止剤組成
物は、シリカ抑制剤組成物と分散剤組成物とを含む。
【0008】
いくつかの実施形態では、シリカ抑制剤組成物は、有機リン酸、ホスホン酸ベース化合
物またはカルボン酸スルホン化コポリマーを含む。いくつかの実施形態では、有機リン酸
は、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸である。いくつかの実施形態では
、シリカ抑制剤は、約5~40%の活性物質の濃度で存在する。
【0009】
いくつかの実施形態では、分散剤組成物は、スルホン化アクリル酸ポリマーを含む。い
くつかの実施形態では、スルホン化アクリル酸ポリマーは、次の化学式によって特徴付け
られる繰り返し単位を含む。
【0010】
JPEG
2025016476000002.jpg
53
102
(化学式A)
(【0011】以降は省略されています)

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