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公開番号2025011973
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-24
出願番号2023114462
出願日2023-07-12
発明の名称銅めっき液のレベラー濃度測定方法
出願人住友金属鉱山株式会社
代理人弁理士法人山内特許事務所
主分類G01N 21/57 20060101AFI20250117BHJP(測定;試験)
要約【課題】銅めっき液のレベラー濃度を簡便に測定できる方法を提供する。
【解決手段】銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、測定対象の銅めっき液を用いた電解めっきにより基材に銅めっき被膜を成膜する電解めっき工程と、銅めっき被膜の光沢度を測定する光沢度測定工程と、予め求められた光沢度とレベラー濃度との関係に基づき、光沢度測定工程で得られた光沢度測定値をレベラー濃度に換算するレベラー濃度特定工程とを有する。銅めっき被膜の光沢度を測定するだけで、銅めっき液のレベラー濃度を簡便に測定できる。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
測定対象の銅めっき液を用いた電解めっきにより基材に銅めっき被膜を成膜する電解めっき工程と、
前記銅めっき被膜の光沢度を測定する光沢度測定工程と、
予め求められた前記光沢度とレベラー濃度との関係に基づき、前記光沢度測定工程で得られた光沢度測定値を前記レベラー濃度に換算するレベラー濃度特定工程と、を備える
ことを特徴とする銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
続きを表示（約 380 文字）【請求項２】
前記銅めっき液のレベラー濃度は０．１～０．３ｍＬ／Ｌである
ことを特徴とする請求項１記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
【請求項３】
前記銅めっき液のブライトナー濃度は１．０～１．３ｍＬ／Ｌである
ことを特徴とする請求項１記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
【請求項４】
前記銅めっき液のポリマー濃度は１．０～１．３ｍＬ／Ｌである
ことを特徴とする請求項１記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。
【請求項５】
前記基材は、乾式成膜法によりベースフィルムの表面に金属薄膜層が成膜された銅張積層板中間品であり、
前記電解めっき工程により銅張積層板が製造される
ことを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の銅めっき液のレベラー濃度測定方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、銅めっき液のレベラー濃度測定方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、銅張積層板製造時の電解めっきなどに用いられる銅めっき液のレベラー濃度を測定する方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話などの電子機器には、樹脂フィルムの表面に配線パターンが形成されたフレキシブルプリント配線板が用いられる。フレキシブルプリント配線板は樹脂フィルムに銅泊を積層した銅張積層板から製造される。
【０００３】
銅張積層板の製造方法としてメタライジング法が知られている。メタライジング法による銅張積層板の製造は、例えば、つぎの手順で行われる。まず、乾式成膜法により樹脂フィルムの表面に下地金属層および銅薄膜層を成膜する。つぎに、電解めっき法により銅薄膜層の上に銅めっき被膜を成膜する。電解めっきにより、配線パターンを形成するのに適した膜厚となるまで導体層を厚膜化する。メタライジング法により、樹脂フィルム上に直接導体層が成膜された、いわゆる２層基板と称されるタイプの銅張積層板が得られる。
【０００４】
電解めっきに用いられる銅めっき液には、一般に、レベラー、ブライトナー、およびポリマーなどの添加剤が添加される。レベラーは突起を抑制し銅めっき被膜を平坦にする成分である。ブライトナーは析出結晶を微細化して銅めっき被膜の表面を平滑にする成分である。ポリマーは基材端部への電流集中を緩和し銅めっき被膜の厚さを均一にする成分である。
【０００５】
銅張積層板の品質の維持および管理には、銅めっき液に含まれるこれら添加剤の濃度管理が重要である。銅めっき液に含まれる添加剤の濃度を管理する方法としてＣＶＳ（ＣｙｃｌｉｃＶｏｌｔａｍｍｅｔｒｉｃＳｔｒｉｐｐｉｎｇ）法が知られている（特許文献１）。ＣＶＳ法は、作用極、参照電極、および対極を測定対象液に浸漬して、作用極を一定速度で回転させながら、参照電極を基準に作用極電位を掃引し、作用極上でめっきと剥離とを繰り返し、このときに作用極と対極との間に流れる電流を測定して得られるボルタモグラムから、その剥離電流のピーク面積を求めて、添加剤濃度に対応させる方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
特開２００９－５２１１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ＣＶＳ法によりブライトナー濃度およびポリマー濃度は精度良く分析できる。しかし、一般に銅めっき液に含まれるレベラーは濃度が低いため、ＣＶＳ法では精度良く分析できない。
【０００８】
本発明は上記事情に鑑み、銅めっき液のレベラー濃度を簡便に測定できる方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の銅めっき液のレベラー濃度測定方法は、測定対象の銅めっき液を用いた電解めっきにより基材に銅めっき被膜を成膜する電解めっき工程と、前記銅めっき被膜の光沢度を測定する光沢度測定工程と、予め求められた前記光沢度とレベラー濃度との関係に基づき、前記光沢度測定工程で得られた光沢度測定値を前記レベラー濃度に換算するレベラー濃度特定工程と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、銅めっき被膜の光沢度を測定するだけで、銅めっき液のレベラー濃度を簡便に測定できる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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