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公開番号2024180286
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-26
出願番号2024068917
出願日2024-04-22
発明の名称剥離層形成用組成物、及び剥離層
出願人日産化学株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類C08L 79/08 20060101AFI20241219BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】密着性と剥離性との両立が可能な剥離層を形成可能な剥離層形成用組成物などの提供。
【解決手段】ポリアミック酸と、下記式(E)で表されるシランカップリング剤と、有機溶媒とを含む剥離層形成用組成物。
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(式(E)中、R²は、下記式(E-1)又は式(E-2)で表される基を表す。)
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(式中、R¹¹～R¹³は、独立して、H、又は有機基、Yは、O、又はSを表す。)
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
ポリアミック酸と、下記式（Ｅ）で表されるシランカップリング剤と、有機溶媒とを含む剥離層形成用組成物。
TIFF
2024180286000030.tif
21
49
（式（Ｅ）中、Ｘ
１
～Ｘ
３
は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、又はアルキル基を表す（ただし、Ｘ
１
～Ｘ
３
が全てアルキル基を表す場合を除く。）。
Ｒ
１
は、炭素原子数１～６のアルキレン基を表す。
Ｒ
２
は、下記式（Ｅ－１）又は式（Ｅ－２）で表される基を表す。）
TIFF
2024180286000031.tif
33
68
（式（Ｅ－１）中、Ｒ
１１
～Ｒ
１３
は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素原子数１～６の有機基を表す（ただし、Ｒ
１１
～Ｒ
１３
の少なくとも１つは水素原子を表す。）。Ｙは、酸素原子、又は硫黄原子を表す。
式（Ｅ－１）及び式（Ｅ－２）中、＊は、結合手を表す。）
続きを表示（約 2,300 文字）【請求項２】
前記ポリアミック酸が、テトラカルボン酸二無水物と、ジアミン成分とを含む原料成分の反応生成物であり、
前記テトラカルボン酸二無水物が、芳香族テトラカルボン酸二無水物を含み、
前記ジアミン成分が、芳香族ジアミンを含む、
請求項１に記載の剥離層形成用組成物。
【請求項３】
前記芳香族テトラカルボン酸二無水物が、下記式（１－１）又は式（１－２）で表される、請求項２に記載の剥離層形成用組成物。
TIFF
2024180286000032.tif
40
116
（式（１－１）中、Ａｒ
１
は、置換基を有していてもよいベンゼン環から隣接する２つの水素原子の組を２組除いた４価の基、又は置換基を有していてもよいナフタレン環から隣接する２つの水素原子の組を２組除いた４価の基を表す。
式（１－２）中、Ｘ
１
は、単結合、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（－Ｒ）－（Ｒは、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。）、又は下記式（１－２－１）で表される基を表す。
Ｒ
ａ
は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。
ｎは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。
１つの（Ｒ
ａ
）
ｎ
において、ｎが２以上のとき、２つ以上のＲ
ａ
は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。）
TIFF
2024180286000033.tif
16
53
（式（１－２－１）中、Ｙ
１
及びＹ
２
は、それぞれ独立して、単結合、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、又は－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（－Ｒ）－（Ｒは、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。）を表す。
Ａｒ
２
は、置換基を有していてもよいフェニレン基、又は置換基を有していてもよいビフェニルから２つの水素原子を除いた２価の基を表す。
＊は、結合手を表す。）
【請求項４】
前記芳香族ジアミンが、下記式（２－１）又は式（２－２）で表される、請求項２に記載の剥離層形成用組成物。
TIFF
2024180286000034.tif
36
143
（式（２－１）中、Ｘ
１１
は、単結合、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（－Ｒ）－（Ｒは、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。）、又は下記式（２－１－１）で表される基を表す。
Ｒ
ｂ
は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。
ｍは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。
１つの（Ｒ
ｂ
）
ｍ
において、ｍが２以上のとき、２つ以上のＲ
ｂ
は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
式（２－２）中、Ｘ
１２
は、－ＮＨ－基、－Ｏ－基、又は－Ｓ－基を表す。
Ｒ
ｃ
は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。
ｐ１は、０～３の整数を表す。ｐ２は、０～４の整数を表す。
（Ｒ
ｃ
）
ｐ１
において、ｐ１が２以上のとき、２つ以上のＲ
ｃ
は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
（Ｒ
ｃ
）
ｐ２
において、ｐ２が２以上のとき、２つ以上のＲ
ｃ
は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。）
TIFF
2024180286000035.tif
16
53
（式（２－１－１）中、Ｙ
１１
及びＹ
１２
は、それぞれ独立して、単結合、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、又は－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（－Ｒ）－（Ｒは、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表す。）を表す。
Ｚ
１１
は、炭素原子数１～２０の２価の炭化水素基を表す。
＊は、結合手を表す。）
【請求項５】
前記芳香族ジアミンが、前記式（２－１）で表され、
前記式（２－１）中のＸ
１１
が、前記式（２－１－１）で表される基を表す、
請求項４に記載の剥離層形成用組成物。
【請求項６】
前記原料成分が、更に、ジカルボン酸無水物を含む、請求項２に記載の剥離層形成用組成物。
【請求項７】
前記シランカップリング剤の含有量が、前記ポリアミック酸に対して、０．０１質量％～１５質量％である、請求項１に記載の剥離層形成用組成物。
【請求項８】
請求項１に記載の剥離層形成用組成物により形成された剥離層。
【請求項９】
請求項８に記載の剥離層を用いる、樹脂基板を備えるフレキシブル電子デバイスの製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離層形成用組成物、剥離層、及び樹脂基板を備えるフレキシブル電子デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、電子デバイスには曲げるという機能付与や薄型化及び軽量化といった性能が求められている。このことから、従来の重く脆弱で曲げることができないガラス基板に代わって、軽量なフレキシブルプラスチック基板を用いることが求められる。
【０００３】
特に、新世代ディスプレイでは、軽量なフレキシブルプラスチック基板（以下、樹脂基板と表記する）を用いたアクティブマトリクス型フルカラーＴＦＴ（ｔｈｉｎｆｉｌｍｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）ディスプレイパネルの開発が求められている。この新世代ディスプレイに関する技術は、フレキシブルディスプレイや、フレキシブルスマートフォン、ミラーディスプレイ等の様々な分野への転用が期待されている。
【０００４】
そこで、樹脂フィルムを基板とした電子デバイスの製造方法が各種検討され始めており、新世代ディスプレイでは、既存のＴＦＴ設備を転用可能なプロセスで製造検討が進められている。例えば、特許文献１、２及び３では、ガラス基板上にアモルファスシリコン薄膜層を形成し、その薄膜層上にプラスチック基板を形成した後に、ガラス面側からレーザーを照射して、アモルファスシリコンの結晶化に伴い発生する水素ガスによりプラスチック基板をガラス基板から剥離する方法が開示されている。
【０００５】
また、特許文献４では、特許文献１～３に開示の技術を用いて被剥離層（特許文献４において「被転写層」と記載される）をプラスチックフィルムに貼りつけて液晶表示装置を完成させる方法が開示されている。
【０００６】
しかし、特許文献１～４で開示された方法、特に特許文献４で開示された方法では、レーザー光を透過させるために透光性の高い基板を使用することが必須であること、基板を通過させ、更にアモルファスシリコンに含まれる水素を放出させるのに十分な、比較的大きなエネルギーのレーザー光の照射が必要とされること、レーザー光の照射によって被剥離層に損傷を与えてしまう場合があること、という問題がある。しかも、剥離層が大面積である場合には、レーザー処理に長時間を要するため、デバイス作製の生産性を上げることが難しい。
【０００７】
そこで、その上に形成されたフレキシブル電子デバイスの樹脂基板を損傷せずに剥離可能であるとともに、ＴＦＴ工程等の比較的高温での加熱処理後でも、その剥離性が変化しない剥離層を与える、剥離層形成用組成物として、特定のポリアミック酸と有機溶媒とを含む剥離層形成用組成物が提案されている（例えば、特許文献５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
特開平１０－１２５９２９号公報
特開平１０－１２５９３１号公報
国際公開第２００５／０５０７５４号
特開平１０－１２５９３０号公報
国際公開第２０１７／２０４１７８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
剥離層には、剥離する時までは簡単には剥がれない密着性と、剥離する時には容易に剥がすことができる剥離性とを両立させることが求められる。
しかし、基板が、ガラス基板などの密着性が低い基板の場合、密着性と剥離性との両立が難しい。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、密着性と剥離性との両立が可能な剥離層を形成可能な剥離層形成用組成物、当該剥離層形成用組成物を用いて形成された剥離層、及び、当該剥離層を用いた、樹脂基板を備えるフレキシブル電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（【００１１】以降は省略されています）

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