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公開番号2024158980
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-08
出願番号2023074670
出願日2023-04-28
発明の名称光吸収体およびその製造方法
出願人株式会社海野技研
代理人個人
主分類G02B 5/00 20060101AFI20241031BHJP(光学)
要約【課題】散乱光の発生がなく、かつ高い光吸収性を有する光吸収体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光吸収体は、基板10の表面に突出して形成された突起膜11であり、ブラックマトリクス形成用レジストからなり、基板表面からの厚さtが、500μm以下、好ましくは100μm以下で、かつ350～1,350nm間の光学濃度(OD値)が3.0以上である。本発明の光吸収体の製造方法は、ブラックマトリクス形成用レジストを塗布した基板10の表面を露光して、この基板10の表面からの厚さが500μm以下であり、かつ350～1,350nm間の光学濃度(OD値)が3.0以上である黒点状の突起膜を形成する。本発明の光吸収体は、医用機器および眼鏡機器の光学素子に用いられる。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
医用機器および眼鏡機器の光学素子に用いられる光吸収体であって、
基板表面に突出して形成された突起膜であり、ブラックマトリクス形成用レジストからなり、前記基板表面からの厚さが５００μｍ以下、かつ３５０～１，３５０ｎｍ間の光学濃度（ＯＤ値）が３．０以上であることを特徴とする光吸収体。
続きを表示（約 240 文字）【請求項２】
前記基板表面からの厚さが１００μｍ以下である請求項１に記載の光吸収体。
【請求項３】
医用機器および眼鏡機器の光学素子に用いられる光吸収体の製造方法であって、
ブラックマトリクス形成用レジストを塗布した基板表面を紫外線およびレーザー光の少なくともいずれかにより露光して、この基板表面からの厚さが５００μｍ以下であり、かつ３５０～１，３５０ｎｍ間の光学濃度（ＯＤ値）が３．０以上である黒点状の突起膜を形成することを特徴とする光吸収体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、医用機器および眼鏡機器の光学素子に用いられる光吸収体およびその製造方法に関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
光を使って情報を得る装置では、光量や光路の調整、ゴーストやフレアの原因となる反射光の除去などのため、光吸収体が必要になる場合がある。この膜は、ガラスやプラスチック素材への蒸着や塗装など物理的および化学的な方法で作製される。特に医用・眼鏡機器関連用途では、黒点、黒斑、黒斑点などと称され、目の角膜や水晶体で生じる有害な反射光や散乱光を吸収して除去する光学素子が形成される（たとえば特許文献１参照）。
【０００３】
具体的には、ブラックレジストなどの黒色の感光材料を塗布したガラスやプラスチック素材の基板表面に、フォトリソグラフィー技術にて、パターンが形成されたフォトマスクを透過して紫外線露光を行う等して、スケール、エンコーダー、回折素子と言った機能を果たす規則的な突起を形成することが一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特公昭６２－３０７６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、形成した突起では、図７（ａ）に示すように楕円状に盛り上がったり、図７（ｂ）に示すように頂部等に傾斜が存在し易く、散乱光が生じる原因となっていた。
【０００６】
ここで、ブラックレジストを薄く塗れば、傾斜が存在し難くなるので、それにより散乱光の発生を防ぐことも考えられる。
【０００７】
しかしながら、従来の突起の形成に用いていたブラックレジストなどの黒色の感光材料は、その波長依存性が長くなるに連れ、光学濃度が低くなる傾向にあった。そのため、遮光するには、要求される波長における光学濃度にもよるが、相応の厚さが必要となっていた。
【０００８】
つまり、突起を薄くしたのみでは、光吸収性が低下し、医用・眼鏡機器関連用途と言った高い光吸収性が要求される用途に使用できなくなることがあった。
【０００９】
本発明の目的は、散乱光の発生がなく、かつ高い光吸収性を有する光吸収体の製造方法および光吸収体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上述の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、次の知見を得た。つまり、ブラックマトリクス形成用レジストを用いて突起状の黒点状の膜を形成すると、５００μｍ以下であっても高い光吸収性を有する光吸収体を作製できるという知見である。
（【００１１】以降は省略されています）

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