TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2024128463
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-09-24
出願番号
2023037449
出願日
2023-03-10
発明の名称
半導体記憶装置
出願人
キオクシア株式会社
代理人
弁理士法人高橋・林アンドパートナーズ
主分類
G11C
16/08 20060101AFI20240913BHJP(情報記憶)
要約
【課題】メモリセルの電力消費性と信頼性を向上すること。
【解決手段】半導体記憶装置は、直列に接続された複数の第1メモリセルを含む第1ストリング、第1メモリセルの第1チャネルと一部を共有する第2チャネルが直列に接続された複数の第2メモリセルを含む第2ストリング、直列に接続された複数の第3メモリセルを含む第3ストリング、第3メモリセルの第3チャネルと一部を共有する第4チャネルが直列に接続された複数の第4メモリセルを含む第4ストリング、複数の第1ワード線、および複数の第2ワード線、第2メモリセルおよび第4メモリセルへデータを書き込む場合、書き込み動作の第1動作において、第1メモリセルおよび第3メモリセルに接続された第1ワード線に基準電圧より大きい第1電圧を供給し、第2メモリセルおよび第4メモリセルに接続された第2ワード線に基準電圧より大きい第2電圧を供給するドライバと、を有する。
【選択図】図13
特許請求の範囲
【請求項1】
第1半導体ピラーと、
断面視において、前記第1半導体ピラーに隣接する第2半導体ピラーと、
前記第1半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第1メモリセルを含む第1ストリングと、
前記第1半導体ピラーに対して前記第1半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、前記第1メモリセルで形成される第1チャネルと前記第1半導体ピラーの一部を共有する第2チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第2メモリセルを含む第2ストリングと、
前記第2半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第3メモリセルを含む第3ストリングと、
前記第2半導体ピラーに対して前記第2半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、かつ、前記第2ストリングに対向して設けられ、前記第3メモリセルで形成される第3チャネルと前記第2半導体ピラーの一部を共有する第4チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第4メモリセルを含む第4ストリングと、
複数の前記第1メモリセルの各々および複数の前記第3メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第1ワード線と、
複数の前記第2メモリセルの各々および複数の前記第4メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第2ワード線と、
複数の前記第2メモリセルのうちk番目の第2メモリセルおよび複数の前記第4メモリセルのうちk番目の第4メモリセルへデータを書き込む場合、書き込み動作の第1動作において、前記k番目の第1メモリセルおよび前記k番目の第3メモリセルに電気的に接続されたk番目の前記第1ワード線に基準電圧より大きい第1電圧を供給し、前記k番目の第2メモリセルおよび前記k番目の第4メモリセルに電気的に接続されたk番目の前記第2ワード線に基準電圧より大きい第2電圧を供給するドライバと、
を有する、半導体記憶装置。
続きを表示(約 2,900 文字)
【請求項2】
前記第1半導体ピラーと前記第2半導体ピラーは、同一のソース線に電気的に接続され、
前記第1動作において、前記ドライバは、前記ソース線に前記第1電圧と同一または略同一の第3電圧を供給する、
請求項1に記載の半導体記憶装置。
【請求項3】
前記第1動作において、前記ドライバは、前記複数の第1ワード線に前記第1電圧を供給し、前記複数の第2ワード線に前記第2電圧を供給する、
請求項2に記載の半導体記憶装置。
【請求項4】
断面視において、前記第2半導体ピラーに隣接する第3半導体ピラーと、
断面視において、前記第3半導体ピラーに隣接する第4半導体ピラーと、
前記第3半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第5メモリセルを含む第5ストリングと、
前記第3半導体ピラーに対して前記第3半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、前記第5メモリセルで形成される第5チャネルと前記第3半導体ピラーの一部を共有する第6チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第6メモリセルを含む第6ストリングと、
前記第4半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第7メモリセルを含む第7ストリングと、
前記第4半導体ピラーに対して前記第4半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、かつ、前記第6ストリングに対向して設けられ、前記第7メモリセルで形成される第7チャネルと前記第4半導体ピラーの一部を共有する第8チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第8メモリセルを含む第8ストリングと、
複数の前記第5メモリセルの各々および複数の前記第7メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第3ワード線と、
複数の前記第6メモリセルの各々および複数の前記第8メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第4ワード線と、
をさらに有し、
前記第1動作において、前記ドライバは、前記k番目の第6メモリセルおよび前記k番目の第8メモリセルに電気的に接続されたk番目の前記第4ワード線に前記第1電圧を供給する、
請求項3に記載の半導体記憶装置。
【請求項5】
前記第1動作において、前記ドライバは、前記複数の第4ワード線に前記第1電圧を供給する、
請求項4に記載の半導体記憶装置。
【請求項6】
前記第1動作において、前記複数の第3ワード線の電圧は前記第1電圧に上昇する、
請求項5に記載の半導体記憶装置。
【請求項7】
前記第1動作に続く第2動作において、
前記ドライバはk番目以上の前記第1ワード線およびk番目以上の前記第2ワード線に前記第2電圧より大きい第4電圧を供給する、
請求項6に記載の半導体記憶装置。
【請求項8】
前記第2動作において、
前記ドライバはk番目の前記第2ワード線に前記第4電圧より大きい第5電圧を供給し、
前記k番目の第2メモリセルおよび前記k番目の第3メモリセルに所望の電圧を書き込む、
請求項7に記載の半導体記憶装置。
【請求項9】
第1半導体ピラーと、
断面視において、前記第1半導体ピラーに隣接する第2半導体ピラーと、
前記第1半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第1メモリセルを含む第1ストリングと、
前記第1半導体ピラーに対して前記第1半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、前記第1メモリセルで形成される第1チャネルと前記第1半導体ピラーの一部を共有する第2チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第2メモリセルを含む第2ストリングと、
前記第2半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第3メモリセルを含む第3ストリングと、
前記第2半導体ピラーに対して前記第2半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、かつ、前記第2ストリングに対向して設けられ、前記第3メモリセルで形成される第3チャネルと前記第2半導体ピラーの一部を共有する第4チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第4メモリセルを含む第4ストリングと、
複数の前記第1メモリセルの各々および複数の前記第3メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第1ワード線と、
複数の前記第2メモリセルの各々および複数の前記第4メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第2ワード線と、
複数の前記第2メモリセルおよび複数の前記第4メモリセルのデータを消去する場合、消去動作において、複数の前記第1メモリセルおよび複数の前記第3メモリセルに電気的に接続された複数の前記第1ワード線に基準電圧より大きい第1電圧を供給し、複数の前記第2メモリセルおよび複数の前記第4メモリセルに電気的に接続された複数の前記第2ワード線に基準電圧を供給するドライバと、
を有する、半導体記憶装置。
【請求項10】
断面視において、前記第2半導体ピラーに隣接する第3半導体ピラーと、
断面視において、前記第3半導体ピラーに隣接する第4半導体ピラーと、
前記第3半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第5メモリセルを含む第5ストリングと、
前記第3半導体ピラーに対して前記第3半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、前記第5メモリセルで形成される第5チャネルと前記第3半導体ピラーの一部を共有する第6チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第6メモリセルを含む第6ストリングと、
前記第4半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第7メモリセルを含む第7ストリングと、
前記第4半導体ピラーに対して前記第4半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、かつ、前記第6ストリングに対向して設けられ、前記第7メモリセルで形成される第7チャネルと前記第4半導体ピラーの一部を共有する第8チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第8メモリセルを含む第8ストリングと、
複数の前記第5メモリセルの各々および複数の前記第7メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第3ワード線と、
複数の前記第6メモリセルの各々および複数の前記第8メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第4ワード線と、
をさらに有し、
前記消去動作において、前記ドライバは、複数の前記第6メモリセルおよび複数の前記第8メモリセルに電気的に接続された複数の前記第4ワード線に前記第1電圧を供給する、
請求項9に記載の半導体記憶装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本開示の実施形態は半導体記憶装置に関する。
続きを表示(約 2,600 文字)
【背景技術】
【0002】
不揮発性半導体記憶装置としてNAND型フラッシュメモリが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2018-164070号公報
特開2017-168163号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
メモリセルの電力消費性と信頼性が向上した半導体記憶装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
一実施形態に係る半導体記憶装置は、第1半導体ピラーと、断面視において、第1半導体ピラーに隣接する第2半導体ピラーと、第1半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第1メモリセルを含む第1ストリングと、第1半導体ピラーに対して第1半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、第1メモリセルで形成される第1チャネルと第1半導体ピラーの一部を共有する第2チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第2メモリセルを含む第2ストリングと、第2半導体ピラーの第1側に設けられ、直列に電気的に接続された複数の第3メモリセルを含む第3ストリングと、第2半導体ピラーに対して第2半導体ピラーの第1側とは反対側の第2側に設けられ、かつ、第2ストリングに対向して設けられ、第3メモリセルで形成される第3チャネルと第2半導体ピラーの一部を共有する第4チャネルを形成し、直列に電気的に接続された複数の第4メモリセルを含む第4ストリングと、複数の第1メモリセルの各々および複数の第3メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第1ワード線と、複数の第2メモリセルの各々および複数の第4メモリセルの各々に共通に設けられる複数の第2ワード線と、ドライバと、を有する。ドライバは、複数の第2メモリセルのうちk番目の第2メモリセルおよび複数の第4メモリセルのうちk番目の第4メモリセルへデータを書き込む場合、書き込み動作の第1動作において、k番目の第1メモリセルおよびk番目の第3メモリセルに電気的に接続されたk番目の第1ワード線に基準電圧より大きい第1電圧(VCELSRC)を供給し、k番目の第2メモリセルおよびk番目の第4メモリセルに電気的に接続されたk番目の第2ワード線に基準電圧より大きい第2電圧(VCHPCH)を供給する。
【図面の簡単な説明】
【0006】
第1実施形態に係る半導体記憶装置を含むメモリシステムの構成を示すブロック図である。
第1実施形態に係る半導体記憶装置中のメモリセルアレイの回路構成を示す図である。
第1実施形態に係るドレイン側セレクトゲート線、ビット線、およびメモリピラーの平面レイアウトを示す図である。
第1実施形態に係るワード線およびメモリピラーの平面レイアウトを示す図である。
図4に示される半導体記憶装置のA1-A2に沿った断面図である。
図4に示される半導体記憶装置のB1-B2に沿った断面図である。
第1実施形態に係る電圧生成回路、ドライバセット、セレクトゲート線またはワード線の電気的接続を説明するための図である。
第1の例において、図5に示されるメモリセルトランジスタのC1-C2線に沿った断面図である。
図8に示されるメモリセルトランジスタのD1-D2線に沿った断面図である。
第2の例において、図5に示されるメモリセルトランジスタのC1-C2線に沿った断面図である。
図10に示されるメモリセルトランジスタのE1-E2線に沿った断面図である。
第1実施形態に係る半導体記憶装置において、隣接するメモリストリングの等価回路を示す図である。
第1実施形態に係る半導体記憶装置におけるデータ書き込み動作時における、各種信号のタイミングチャートを示す図である。
第1実施形態に係る半導体記憶装置における書き込み動作を説明する半導体記憶装置の切断部端面図である。
図13に示すタイミングチャートの時刻T1および時刻T2における各種信号線に供給される電圧を説明するための図である。
第1実施形態に係る半導体記憶装置のベリファイ動作時における各種信号のタイミングチャートを示す図である。
第1実施形態に係る半導体記憶装置の消去動作時における各種信号のタイミングチャートを示す図である。
図17に示すタイミングチャートの時刻T0における各種信号線に供給される電圧を説明するための図である。
変形例1の時刻T0における各種信号線に供給される電圧を説明するための図である。
変形例2の時刻T0における各種信号線に供給される電圧を説明するための図である。
変形例3の時刻T0における各種信号線に供給される電圧を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【0007】
以下、図面を参照して実施形態について説明する。なお、以下の説明において、同一、または類似する機能および構成を有する構成要素については、共通する参照符号を付す。共通する参照符号を有する複数の構成要素を区別する場合、当該共通する参照符号に添え字(例えば、アルファベットの大文字、アルファベットの小文字、ハイフンとアルファベットの小文字と数字など)を付して区別する。
【0008】
<第1実施形態>
以下に、第1実施形態に係る半導体記憶装置1について説明する。
【0009】
<1.構成例>
<1-1.メモリシステム>
図1は、第1実施形態に係る半導体記憶装置1を含むメモリシステム3の構成の一例を示すブロック図である。第1実施形態に係る半導体記憶装置1を含むメモリシステム3の構成は図1に示す構成に限定されない。
【0010】
図1に示すように、メモリシステム3は、半導体記憶装置1およびメモリコントローラ2を含む。メモリシステム3は、例えば、SSD(solid state drive)、SDTMカードのようなメモリカード等である。メモリシステム3は、ホストデバイス(図示は省略)を含んでもよい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
株式会社東芝
磁気ディスク装置
今日
株式会社東芝
磁気記録再生装置、及びその調整方法
今日
他の特許を見る