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公開番号2024119938
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-03
出願番号2024095102,2022187666
出願日2024-06-12,2018-09-28
発明の名称光学フィルムおよび画像表示装置
出願人大日本印刷株式会社
代理人弁理士法人フィールズ国際特許事務所
主分類G02B 1/14 20150101AFI20240827BHJP(光学)
要約【課題】優れた耐擦傷性を有する光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の一の態様によれば、光透過性基材11、ハードコート層12および無機層13をこの順で備える光学フィルム10であって、ハードコート層12が、無機層13に接し、ハードコート層12が、バインダ樹脂12Aおよび無機粒子12Bを含み、ハードコート層12の膜厚が、1μm以上であり、ハードコート層12のインデンテーション硬さが、200MPa以上である、光学フィルム10が提供される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
光透過性基材、ハードコート層および無機層をこの順で備える光学フィルムであって、
前記ハードコート層が、前記無機層に接し、
前記ハードコート層が、バインダ樹脂および無機粒子を含み、
前記ハードコート層の膜厚が、１μｍ以上であり、
前記ハードコート層のインデンテーション硬さが、２００ＭＰａ以上である、光学フィルム。
続きを表示（約 800 文字）【請求項２】
前記ハードコート層の膜厚方向の断面において、前記ハードコート層と前記無機層の界面から前記ハードコート層の深さ５００ｎｍまでの領域における前記無機粒子の面積比率が、５％以上７５％以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記無機粒子が、シリカ粒子である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
光透過性基材、ハードコート層および無機層をこの順で備える光学フィルムであって、
前記ハードコート層が、前記無機層に接し、
前記ハードコート層が、金属元素および半金属元素の少なくともいずれかを含み、
前記ハードコート層の膜厚が、１μｍ以上であり、
前記ハードコート層のインデンテーション硬さが、２００ＭＰａ以上である、光学フィルム。
【請求項５】
前記無機層が、無機酸化物層である、請求項１または４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記無機層が、ケイ素を含む、請求項１または４に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記無機層の厚みが、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、請求項１または４に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記ハードコート層が半金属元素を含み、前記半金属元素がケイ素である、請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記ハードコート層に含まれ、かつＸ線光電子分光分析法により測定される前記金属元素および前記半金属元素の合計の原子比率が、１．５％以上３０％以下である、請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記ハードコート層が、重合性官能基を有するシルセスキオキサンを含む重合性化合物の重合体を含む、請求項１または４に記載の光学フィルム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【関連出願の参照】
【０００１】
本願は、先行する日本国出願である特願２０１７－１９１３１９（出願日：２０１７年
９月２９日）の優先権の利益を享受するものであり、その開示内容全体は引用することに
より本明細書の一部とされる。
続きを表示（約 1,200 文字）【技術分野】
【０００２】
本発明は、光学フィルムおよび画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置には、光学フィルムが用
いられている。光学フィルムとして、光透過性基材、ハードコート層、および無機層をこ
の順で備える光学フィルムを用いることがある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１６－１２８９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような無機層を有する光学フィルムにおいて、無機層の表面に対し
♯００００番のスチールウールで１ｋｇ／ｃｍ
２
の荷重を加えながら１０往復擦るスチー
ルウール試験を行うと、無機層に傷が入ることがあり、または無機層に傷が入るとともに
ハードコート層が削れることがある。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、優れた耐擦傷性
を有する光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の発明を含む。
［１］ハードコート層および無機層をこの順で備える光学フィルムであって、前記ハード
コート層が、前記無機層に接し、前記ハードコート層が、バインダ樹脂および無機粒子を
含み、前記ハードコート層の膜厚が、１μｍ以上であり、前記ハードコート層のインデン
テーション硬さが、２００ＭＰａ以上である、光学フィルム。
【０００８】
［２］前記ハードコート層の膜厚方向の断面において、前記ハードコート層と前記無機層
の界面から前記ハードコート層の深さ５００ｎｍまでの領域における前記無機粒子の面積
比率が、５％以上７５％以下である、上記［１］に記載の光学フィルム。
【０００９】
［３］前記無機粒子が、シリカ粒子である、上記［１］または［２］に記載の光学フィル
ム。
【００１０】
［４］光透過性基材、ハードコート層および無機層をこの順で備える光学フィルムであっ
て、前記ハードコート層が、前記無機層に接し、前記ハードコート層が、金属元素および
半金属元素の少なくともいずれかを含み、前記ハードコート層の膜厚が、１μｍ以上であ
り、前記ハードコート層のインデンテーション硬さが、２００ＭＰａ以上である、光学フ
ィルム。
（【００１１】以降は省略されています）

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