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公開番号2024083992
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-24
出願番号2022198125
出願日2022-12-12
発明の名称シャワーヘッドアセンブリ及び成膜装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人
主分類C23C 16/455 20060101AFI20240617BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】成膜とエッチングとを交互に繰り返し行う成膜装置において、成膜とエッチングにおける基板処理の面内均一性を両立させる。
【解決手段】成膜とエッチングとを交互に繰り返し行い、基板に形成された凹部に金属膜を成膜する成膜装置に配置されるシャワーヘッドアセンブリであって、円弧状の第1スリットが形成された第1プレートと、円弧状の第2スリットが形成された第2プレートであり、前記第1プレートの下方にて上下に前記第1プレートに重ね合わせて配置され、前記第2スリットが上面視で前記第1スリットと重ならない位置に形成された前記第2プレートと、を有するシャワーヘッドアセンブリが提供される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
成膜とエッチングとを交互に繰り返し行い、基板に形成された凹部に金属膜を成膜する成膜装置に配置されるシャワーヘッドアセンブリであって、
円弧状の第１スリットが形成された第１プレートと、
円弧状の第２スリットが形成された第２プレートであり、前記第１プレートの下方にて上下に前記第１プレートに重ね合わせて配置され、前記第２スリットが上面視で前記第１スリットと重ならない位置に形成された前記第２プレートと、
を有するシャワーヘッドアセンブリ。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
円弧状の第３スリットが形成された第３プレートであり、前記第２プレートの下方にて上下に前記第２プレートに重ね合わせて配置され、前記第３スリットが上面視で前記第１スリット及び前記第２スリットと重ならない位置に形成された前記第３プレートを有する、
請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項３】
前記第１プレート、前記第２プレート及び前記第３プレートのうち、下方のプレートほど前記プレートの径方向のスリット数が多い、
請求項２に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項４】
前記第１プレート、前記第２プレート及び前記第３プレートのうち、隣接する上方のプレートのスリットの中心軸は、隣接する下方のプレートのスリット間の中心と一致する、
請求項２に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項５】
前記第１プレートの上方に形成され、少なくとも成膜ガスを導入するガス導入口と、
前記ガス導入口の周囲に形成され、エッチングガス及び／又はキャリアガスを導入し、複数の第１ガス吐出口を有する第１リングと、を有し、
前記第１プレートの中心軸は、前記ガス導入口の中心軸と一致する、
請求項２に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項６】
前記第１プレートの外周部に配置され、エッチングガスを導入する第１ガス流路を有する第２リングを有し、
前記第１プレートは、複数の第２ガス吐出口を有する、
請求項５に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項７】
前記第２リングは、ガスを一時的に貯留するリング状の第１バッファ領域を有し、
複数の前記第１ガス流路は、複数回分岐して前記第１バッファ領域に接続され、複数の前記第１ガス流路の長さは同一である、
請求項６に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項８】
前記第１ガス流路、前記第１バッファ領域及び複数の前記第２ガス吐出口を介して前記第２プレートに向けてエッチングガスを供給する、
請求項７に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項９】
複数の前記第２ガス吐出口は、複数の前記第１ガス吐出口よりも外周側に配置されている、
請求項６に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
【請求項１０】
複数の前記第２ガス吐出口を介して前記第２プレートに向けてエッチングガスを流す、
請求項６に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、シャワーヘッドアセンブリ及び成膜装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１は、ワーク表面に均一な濃度で処理ガスを吹き付けることができる表面処理用ノズル装置を提供する。特許文献１では、ノズル装置のガス通路は、処理ガスが供給されるガス供給口と、上記ガス供給口からの処理ガスを分け、一直線上に間隔をおいて水平に並んだ多数の分岐下流端へと送る通路分岐部と、これら分岐下流端の配列方向と平行をなして直線的に連続して延びる合流部と、流れ方向変更部と、吹出スリットとを有している。流れ方向変更部は、多数の分岐下流端から合流部へ送られてきた処理ガスを、下向きに送る第１通路部分と、上向きに送る第２通路部分と、下向きに送る第３通路部分とを有し、この第３通路部分からの処理ガスが吹出スリットからワークに向かって下向きに吹き付けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１２－１９９４８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、成膜とエッチングとを交互に繰り返し行う成膜装置において、成膜とエッチングにおける基板処理の面内均一性を両立させることができる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一の態様によれば、成膜とエッチングとを交互に繰り返し行い、基板に形成された凹部に金属膜を成膜する成膜装置に配置されるシャワーヘッドアセンブリであって、円弧状の第１スリットが形成された第１プレートと、円弧状の第２スリットが形成された第２プレートであり、前記第１プレートの下方にて上下に前記第１プレートに重ね合わせて配置され、前記第２スリットが上面視で前記第１スリットと重ならない位置に形成された前記第２プレートと、を有するシャワーヘッドアセンブリが提供される。
【発明の効果】
【０００６】
一の側面によれば、成膜とエッチングとを交互に繰り返し行う成膜装置において、成膜とエッチングにおける基板処理の面内均一性を両立させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
一実施形態に係る成膜装置の構成の一例を示す断面模式図。
一実施形態に係る成膜方法の一例を示すフローチャート。
第１実施形態に係るシャワーヘッドアセンブリの構成例を示す断面模式図。
第１実施形態に係るシャワーヘッドアセンブリの評価結果１の一例を示す図。
第１実施形態に係るシャワーヘッドアセンブリの評価結果２の一例を示す図。
第２実施形態に係るシャワーヘッドアセンブリの構成例と第２リングのガス流路の一例を示す図。
第２実施形態に係るシャワーヘッドアセンブリの評価結果３の一例を示す図。
第２実施形態の変形例に係るシャワーヘッドアセンブリの構成例と第２プレートのガス流路の一例を示す図。
第２実施形態の変形例に係るシャワーヘッドアセンブリの評価結果４の一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【０００９】
本明細書において平行、直角、直交、水平、垂直、上下、左右などの方向には、実施形態の効果を損なわないほどのずれが許容される。角部の形状は、直角に限られず、弓状に丸みを帯びてもよい。平行、直角、直交、水平、垂直、円、一致には、略平行、略直角、略直交、略水平、略垂直、略円、略一致が含まれてもよい。
【００１０】
［成膜装置］
一実施形態に係る成膜装置の構成について図１を参照しながら説明する。図１は、一実施形態に係る成膜装置１００の構成の一例を示す断面模式図である。成膜装置１００は処理容器１０を備えており、基板を搬入出するための搬送口１４が形成されている。搬送口１４は、ゲートバルブＧＶ１により開閉自在に構成されている。
（【００１１】以降は省略されています）

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