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公開番号2024080803
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-17
出願番号2022194039
出願日2022-12-05
発明の名称スパッタリングターゲット
出願人山陽特殊製鋼株式会社
代理人弁理士法人有古特許事務所
主分類C23C 14/34 20060101AFI20240610BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】主成分がCrであってかつ均質な薄膜が得られうる、スパッタリングターゲットの提供。
【解決手段】スパッタリングターゲットの材質は、Cr基合金である。このCr基合金は、10.0at%以上30.0at%以下のBを含む。このターゲットの金属組織は、CrB相及びCr単相を含む。このCr相の(110)面に関するX線回折ピークに対する、CrB相の(111)面に関するX線回折ピークの比率は、10%以上80%以下である。このターゲットの、3点曲げ試験による抗折強度は、好ましくは300MPa以上である。Cr基合金の酸素含有率は、好ましくは2000ppm以下である。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
その材質が、１０．０ａｔ％以上３０．０ａｔ％以下のＢを含むＣｒ基合金であり、
その金属組織が、ＣｒＢ相及びＣｒ単相を含んでおり、
上記Ｃｒ相の（１１０）面に関するＸ線回折ピークに対する、上記ＣｒＢ相の（１１１）面に関するＸ線回折ピークの比率が、１０％以上８０％以下である、スパッタリングターゲット。
続きを表示（約 490 文字）【請求項２】
上記Ｃｒ相の（１１０）面に関するＸ線回折ピークに対する、Ｃｒ
５
Ｂ
３
相の（２１３）面に関するＸ線回折ピークの比率が、２０％以下である、請求項１に記載のスパッタリングターゲット。
【請求項３】
３点曲げ試験による抗折強度が３００ＭＰａ以上である、請求項１又は２に記載のスパッタリングターゲット。
【請求項４】
上記Ｃｒ基合金の酸素含有率が２０００ｐｐｍ以下である、請求項１又は２に記載のスパッタリングターゲット。
【請求項５】
（１）その材質がＣｒＢである第一粉末を準備する工程、
（２）その材質がＣｒである第二粉末を準備する工程、
（３）上記第一粉末と上記第二粉末とを混合し、混合粉末を得る工程、
及び
（４）上記混合粉末を加圧及び加熱する工程
を備えた、スパッタリングターゲットの製造方法。
【請求項６】
上記工程（２）において、平均粒子直径Ｄ５０が２０μｍ以上である第二粉末が準備される、請求項５に記載の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書は、金属薄膜を形成するためのスパッタリングに用いられるターゲットを開示する。
続きを表示（約 970 文字）【背景技術】
【０００２】
薄膜の形成方法として、スパッタリングが知られている。スパッタリングでは、ターゲットが用いられる。スパッタリングでは、プラズマ中の陽イオンがターゲットに衝突する。この衝突によってターゲットから原子が飛び出す。この原子が基板に付着して、薄膜が形成される。
【０００３】
スパッタリングターゲットの一例が、特開２０１４－１６４７８０公報に開示されている。この公報に開示されたターゲットは、粉末の焼結によって得られる。この粉末の材質は、Ｃｒ基合金である。このターゲットから、垂直磁気記録媒体に適した薄膜（密着層）が得られうる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１４－１６４７８０公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
薄膜には、結晶組織の微細化の要請がある。特開２０１４－１６４７８０公報に開示されたターゲットからは、結晶組織が十分に微細な薄膜は得られない。
【０００６】
本出願人の意図するところは、主成分がＣｒであってかつ均質な薄膜が得られうる、スパッタリングターゲットの提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本明細書が開示するスパッタリングターゲットの材質は、１０．０ａｔ％以上３０．０ａｔ％以下のＢを含むＣｒ基合金である。このターゲットの金属組織は、ＣｒＢ相及びＣｒ単相を含む。このＣｒ相の（１１０）面に関するＸ線回折ピークに対する、ＣｒＢ相の（１１１）面に関するＸ線回折ピークの比率は、１０％以上８０％以下である。
【０００８】
好ましくは、このターゲットにおいて、Ｃｒ相の（１１０）面に関するＸ線回折ピークに対する、Ｃｒ
５
Ｂ
３
相の（２１３）面に関するＸ線回折ピークの比率は、２０％以下である。
【０００９】
好ましくは、このターゲットの３点曲げ試験による抗折強度は、３００ＭＰａ以上である。
【００１０】
好ましくは、Ｃｒ基合金の酸素含有率は、２０００ｐｐｍ以下である。
（【００１１】以降は省略されています）

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